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  • 本申请提供了一种光学结构及LED直显投影系统, 光学结构的出光侧采用中心高周边低的过渡结构, 使得光学结构出光面的中心区域与投影结构之间的第一间隔距离, 小于光学结构出光面的边缘区域与投影结构之间的第二间隔距离。如此, 可消除LED直显投影...
  • 本公开涉及EUV光掩模及其制造方法。一种制造反射掩模的方法包括:在衬底之上形成牺牲层, 以及在牺牲层之上形成反射多层。在反射多层之上形成帽盖层。在帽盖层之上形成吸收层。在吸收层、帽盖层和反射层中形成开口, 该开口暴露牺牲层的部分, 以及沿开...
  • 本发明涉及一种UV转印纹理智能匹配与闭环修正方法、装置及设备, 属于UV转印图像分析处理领域, 方法包括:获取目标纹理数据存储为标准模板, 采集转印后工件实际纹理图像;提取实际纹理轮廓特征点与标准模板基准特征点, 计算位置偏差向量;根据偏差...
  • 本发明提供一种碱溶性树脂、感光树脂组合物及其应用, 所述碱溶性树脂包括Cardo系树脂和环氧树脂的组合;所述Cardo系树脂包含硫苯结构和苯酚结构, 所述环氧树脂包含三嗪结构。本发明通过具有特定结构的Cardo系树脂和环氧树脂的设计和相互复...
  • 本发明公开了一种感光性树脂组合物及其应用。该感光性树脂组合物包括:环氧树脂15~60份;增韧剂5~30份;光引发剂0.01~2份;热固化剂0.01~2份;无机填料10~70份;溶剂;其中, 增韧剂为聚酰亚胺树脂、有机硅和聚离子液体的组合物。...
  • 本发明涉及组合物及其固化物、成型物、显示装置以及固体摄像器件。本发明的课题是提供一种组合物, 所述组合物能够供给显示出高折射率且耐黄变性优异的固化物, 此外, 即使在涂布至酸性表面的情况下, 固化性也优异。本发明的解决手段是提供一种组合物,...
  • 本发明涉及组合物及其固化物、成型物、显示装置以及固体摄像器件。本发明的课题是提供一种组合物, 所述组合物能够供给显示出高折射率的固化物, 此外, 即使在涂布至酸性表面的情况下, 固化性也优异。本发明的解决手段是提供一种组合物, 其含有具有至...
  • 感光性树脂组合物、以及使用其的固化浮雕图案的制造方法、固化膜及聚酰亚胺膜的制造方法。[课题]本公开的目的在于, 提供在高温固化时得到高的铜密合性、b‑HAST试验中的铜迁移少、即长时间不发生短路、且分辨率高的感光性树脂组合物, 以及使用了该...
  • 提供对于铜的粘接性优异且即便将清漆在低温下长时间保管, 铜或铜合金与固化膜的粘接也优异的感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法和半导体装置。本申请的感光性树脂组合物包含(A)选自由聚酰胺、聚酰亚胺、或者作为聚酰亚胺前体的聚酰胺酸、聚酰胺酸...
  • 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法, 所述抗蚀剂组合物包括聚合物和由式2表示的添加剂, 所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元并且不包括交联基团, 其中式1和2中的L11至L13、a11至a13、R11、X11、A21、L21、a21和...
  • 本发明公开了属于双光子光刻胶组合物技术领域, 具体公开了一种基于飞秒激光直写和紫外光辅助固化制备窄粒径分布微球的双光子光刻胶组合物及微球制备方法, 所述光刻胶组合物包括以下重量份的组分:光固化树脂0‑50份、活性单体50‑100份、双光子光...
  • 本发明实施例提供一种光刻胶组合物及用它形成薄膜图案和阵列基板的方法, 其中, 光刻胶组合物包括:纳米粒子, 所述纳米粒子包括金属氧化物内核和与所述金属氧化物内核配位的修饰基团, 其分子通式为M6O4(OH)4XnY12‑n, M为金属元素,...
  • 本发明提供一种负型感光性树脂组合物、硬化膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜, 其曝光前的抗蚀剂膜具有碱溶解性, 制膜性优异并且曝光后的抗蚀剂硬化物的耐化学品性优异。一种负型感光性树脂组合物, 含有下述的成分(A)~成分(F)。(A)衍...
  • 本申请涉及一种金属加工用感光干膜及其制备方法, 涉及感光干膜技术领域, 其依次包括:透光保护层, 所述透光保护层厚度为5‑15μm, 透光率≥90%;抗反射层, 所述抗反射层包含纳米碳黑或金属氧化物颗粒, 厚度0.1‑1μm;光敏树脂层, ...
  • 本申请提供了一种曲面结构及其制备方法, 属于光刻加工技术领域。该方法包括:提供一衬底, 在衬底表面形成介质层;在介质层表面旋涂光刻胶, 并通过曝光显影形成光刻胶阵列, 该光刻胶阵列的宽度与周期按照预设函数进行设计与匹配;对光刻胶阵列进行加热...
  • 本发明公开了一种基于卷积预测模型的电子束沉积能量预测方法及系统, 方法包括:S1、通过蒙特卡洛仿真采集多种尺寸束斑的二维平面沉积能量数据, 进行异常数据识别, 以及异常数据替换, 得到最终的二维平面沉积能量数据;S2、获取每个束斑对应的二值...
  • 本发明涉及微纳制造技术领域, 具体为一种基于生成对抗网络的激光直写邻近效应修正方法。该方法包括:首先基于生成对抗网络构建激光直写反演光刻模型, 改进生成器结构;接着通过基于边缘的激光直写光学邻近效应修正方法准备数据集, 每对目标版图和优化版...
  • 本申请提供一种加速DMD数字光刻成像仿真的方法、装置、设备及介质, 涉及数字光刻技术领域。方法包括:基于数字微镜设计文件得到第一微镜阵列图, 所述数字微镜设计文件中包括需要仿真的图案;将所述第一微镜阵列图中的每个微镜周期占用的像素数量由第一...
  • 一种紧凑型传感器设备, 具有照射束、束成形系统、偏振调制系统、束投射系统和信号检测系统。所述束成形系统被配置成对从照射系统产生的照射束进行成形且产生所述照射束的在从400nm至2000nm的波长范围内的平顶束斑。所述偏振调制系统被配置成提供...
  • 本申请涉及玻璃加工制造技术领域, 尤其涉及一种光刻AG玻璃自动生产系统, 包括依次连接的上料清洗单元、冷却涂胶单元、固化干燥单元、第一转运机械手、冷却单元、曝光显影单元以及下料单元;上料清洗单元包括上料传送机、冲洗装置以及干燥冷却装置, 冲...
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