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最新专利技术
  • 一种钒钨双金属氧化物电致变色薄膜及其制备方法
    一种钒钨双金属氧化物电致变色薄膜及其制备方法_上海半人马企业发展集团有限公司_202511430347.4
    本发明公开了一种钒钨双金属氧化物电致变色薄膜及其制备方法，制备方法包括：S1、将仲钨酸铵水合物、偏钒酸铵和草酸二水合物溶解在去离子水中，搅拌后得到水热反应前驱体溶液；S2、在导电玻璃上进行水热反应，即得。通过控制前驱体溶液中钒钨摩尔比实现了...
    2026-01-29
  • 光设备
    光设备_松下知识产权经营株式会社_202511326787.5
    本发明的光设备具备：光偏转装置，射出与第1方向交叉的第2方向上的光束扩散角比所述第1方向上的光束扩散角大的光束，并且能够使所述光束的射出方向沿着所述第1方向变化；以及光学元件，配置在所述光束的路径上，使所述光束的所述第2方向上的光束扩散角进...
    2026-01-29
  • 光路开关和光束处理方法
    光路开关和光束处理方法_II-VI特拉华股份有限公司_202410877118.6
    本公开涉及光路开关和光束处理方法。一种用于来自多个光纤的输入光束的光学切换的光学切换设备包括串联布置或被布置成多维阵列的多个数字切换块。数字切换块包括被配置为控制输入光束的偏振的串联布置的多个液晶(LC)单元和基于偏振来引导输入光束的多个双...
    2026-01-29
  • 基于交叉相位调制效应的光学频率梳的产生装置和方法
    基于交叉相位调制效应的光学频率梳的产生装置和方法_海南华谱智能装备有限公司_202511055045.3
    本发明公开了基于交叉相位调制效应的光学频率梳的产生装置和方法，属于光学频率梳技术领域。产生装置包括：飞秒光纤锁模激光器，产生重频锁定的脉冲激光；连续光激光器，产生不同波长的连续光；波分复用器，设置在萨格奈特环两侧，用于控制不同波长光束的合并...
    2026-01-29
  • 一种双LCD投影仪
    一种双LCD投影仪_深圳市科金明电子股份有限公司_202511002172.7
    本发明公开了一种双LCD投影仪，采用垂直设置的两路LED光源进行照明，两路LED光源中的第一路LED光源包括从后往前依次设置的第一LED光源、荧光粉、光斗、第一后菲涅尔透镜、第一滤光片、第一偏光片、第一LCD屏和第一前菲涅尔透镜，荧光粉设置...
    2026-01-29
  • 一种具有侧投清晰度补偿功能的投影仪
    一种具有侧投清晰度补偿功能的投影仪_湖南创科光电有限责任公司_202511302921.8
    本发明提供的一种具有侧投清晰度补偿功能的投影仪，包括外壳，外壳内部设置有光机，其中光机包括壳体、光源板、光斗、镜片模组、反射镜和投影镜头，光斗、反射镜和镜片模组设置在壳体的内部，壳体上端的左侧设置有投影口，投影镜头的右端位于投影口内，反射镜...
    2026-01-29
  • 一种幕布结构及高增益白幕
    一种幕布结构及高增益白幕_深圳微晶视界科技有限公司_202511272855.4
    本发明公开了一种幕布结构及高增益白幕，属于投影显示技术领域，幕布结构包括两层基材层，两层所述基材层之间通过粘合层粘结有阻隔层，所述基材层、所述粘合层以及所述阻隔层的折射率不同。高增益白幕包括保护层、扩散层以及上述幕布结构，保护层、扩散层以及...
    2026-01-29
  • 集成于汽车前保险杠的LCOS投影系统及其控制方法、汽车保险杠
    集成于汽车前保险杠的LCOS投影系统及其控制方法、汽车保险杠_上海星宇智行技术有限公司_202511085601.1
    本发明涉及汽车智能交互技术领域，尤其是一种集成于汽车前保险杠的LCOS投影系统及其控制方法、汽车前保险杠。集成于汽车前保险杠的LCOS投影系统包含：数据输入单元通过IMU惯性单元、环境光传感器、毫米波雷达及摄像头采集环境信息，经CAN总线传...
    2026-01-29
  • OPC修正方法
    OPC修正方法_宁波荣芯一厂半导体有限公司_202511019338.6
    本发明提供一种OPC修正方法。该OPC修正方法包括：获取原始版图和原始光学模型，原始版图包括特殊图形；对原始版图中的图形数据和背景数据进行取反操作获得反相版图，对原始光学模型中的图形数据和背景数据进行取反操作获得反相光学模型；基于反相光学模...
    2026-01-29
  • 光学邻近效应校正方法、系统、终端及介质
    光学邻近效应校正方法、系统、终端及介质_浙江创芯集成电路有限公司_202511267124.0
    本申请提供了一种光学邻近效应校正方法、系统、终端及介质，所述方法包括获取光刻掩模版设计图形的多组初始参数组合，以构成初始种群；其中，所述初始种群中的每一初始个体对应于一组初始参数组合；确定所述光刻掩模版设计图形的多个优化指标，以基于所述多个...
    2026-01-29
  • 光学邻近校正方法、电子设备及存储介质
    光学邻近校正方法、电子设备及存储介质_全芯智造技术有限公司_202511438235.3
    本公开涉及光学邻近校正方法、电子设备及存储介质。该方法包括：确定由初始版图切分成的子版图中较高优先级的第一子版图中图形轮廓和较低优先级的第二子版图中与第一子版图相邻的预定范围内图形轮廓的切割位置，以将各个图形轮廓切割成多个第一可移动线段和多...
    2026-01-29
  • 掩模板的版本标记的图案生成方法
    掩模板的版本标记的图案生成方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511415658.3
    本公开提供了一种掩模板的版本标记的图案生成方法，包括：获取版本标记区域的宽度，并根据制程种类与掩模板的图层数获得版本标记区域的总长度；在相应图层的版本标记区域中分别形成一个或多个相应尺寸的矩形框；在预设图层中的版本标记区域的相应位置形成产品...
    2026-01-29
  • 一种纳米压印模板及其制作方法
    一种纳米压印模板及其制作方法_武汉大学_202511175613.3
    本发明公开了一种纳米压印模板及其制作方法，属于纳米压印模板制作技术领域，制作方法包括制作小模板、曝光菲林和定位菲林，曝光菲林是由不透光区域和透光区域组成的薄板，曝光菲林的边缘设有左右互补、上下互补的网点阵列，网点阵列中网点的密度从不透光区域...
    2026-01-29
  • 用于光刻的掩模数据生成方法及设备
    用于光刻的掩模数据生成方法及设备_光科芯图(北京)科技有限公司_202511273743.0
    本发明提供一种用于光刻的掩模数据生成方法及设备，所述方法包括：获取连续复值掩模数据；对所述连续复值掩模数据中的各组相邻的孔位进行配对；对配对的两个孔位的透射率信息进行重分配，得到两个孔位的连续实值透射率信息；根据倾斜照明的相位分布数据对所述...
    2026-01-29
  • 抗粘层的清洗方法
    抗粘层的清洗方法_中国科学院光电技术研究所_202511347139.8
    本公开提供了一种抗粘层的清洗方法，属于掩模清洗技术领域。该方法包括采用紫外光对基材上的抗粘层进行预氧化分解，使基材与抗粘层之间的共价键断裂；对经预氧化分解后的抗粘层依次进行酸洗和碱洗，去除基材上的抗粘层。本公开通过采用紫外光对基材上的抗粘层...
    2026-01-29
  • 一种纳米压印用软膜固定装置
    一种纳米压印用软膜固定装置_璞璘科技(杭州)有限公司_202511442842.7
    本发明为一种纳米压印用软膜固定装置，包括：真空吸附固定结构、支撑底座、刮平弹性按压夹持结构及纳米压印结构，真空吸附固定结构、刮平弹性按压夹持结构及纳米压印结构均设置在支撑底座上，刮平弹性按压夹持结构位于真空吸附固定结构与纳米压印结构之间；本...
    2026-01-29
  • 一种光致刻蚀剂及其制备方法和应用
    一种光致刻蚀剂及其制备方法和应用_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511077600.2
    本发明提供一种光致刻蚀剂及其制备方法和应用。所述光致刻蚀剂包括如下组分：树脂、聚合单体、引发剂、任选的助剂和溶剂；所述聚合单体包括式I化合物。本发明通过对光致刻蚀剂的具体组成进行设计，进一步通过具有特定结构的式I化合物作为聚合单体，制备得到...
    2026-01-29
  • 密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法
    密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法_信越化学工业株式会社_202510552423.2
    本发明涉及密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题是提供于半导体装置制造步骤中的利用多层抗蚀剂法所进行的微细图案化处理中，即使于疏水性的下层膜上仍会展现良好的涂布性，同时能够提供具有良好的图案崩塌抑制性能、及除去在...
    2026-01-29
  • 一种光刻机的误差补偿系统
    一种光刻机的误差补偿系统_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511161621.2
    本申请涉及一种光刻机的误差补偿系统，涉及光刻机误差补偿技术领域，其包括设于光刻机上的承载台、掩模板、处理器，所述承载台的上表面沿圆周方向间隔且对称设置有若干楔块、线性制动器，所述线性制动器与所述承载台固定连接，所述楔块沿靠近或远离对称轴线的...
    2026-01-29
  • 一种高产能边缘曝光系统及其方法
    一种高产能边缘曝光系统及其方法_苏州大族芯科技有限公司_202511223188.0
    本发明公开了一种高产能边缘曝光系统及其方法，包括机架，所述机架安装有底板，所述底板安装有第一寻边机构和第二寻边机构，所述第一寻边机构和第二寻边机构对称设置，所述底板位于第一寻边机构和第二寻边机构之间安装有光源组件。本发明，两套寻边机构可实现...
    2026-01-29
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