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最新专利技术
  • 原子层沉积方法
    原子层沉积方法_深圳市大族半导体装备科技有限公司_202510884644.X
    本申请属于激光加工技术领域，更具体地说，是涉及一种原子层沉积方法，本申请实施例提供的原子层沉积方法，包括以下步骤：将衬底设置于反应腔的预设位置；向所述反应腔内通入前驱气体，以在所述衬底上方形成第一原子沉积层；向所述反应腔内通入第一反应气体，...
    2026-01-22
  • 一种双金属氧化物薄膜制备方法及双金属氧化物薄膜
    一种双金属氧化物薄膜制备方法及双金属氧化物薄膜_北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司_202510888079.4
    本发明公开一种双金属氧化物薄膜制备方法及双金属氧化物薄膜，涉及原子层沉积技术领域，以解决在电池正极包覆单一金属氧化物的情况下存在的导电性能和界面稳定性无法兼顾的问题。方法包括：提供一基底；在基底表面形成第一金属氧化层；在第一金属氧化层上依次...
    2026-01-22
  • 一种兼容顶进气与侧进气的气相沉积反应腔结构与方法
    一种兼容顶进气与侧进气的气相沉积反应腔结构与方法_西安近代化学研究所_202511003964.6
    本发明公开了一种兼容顶进气与侧进气的气相沉积反应腔结构与方法，包括反应腔主体、样品架、舱盖、舱盖提升装置、纵向前驱体注入组件、纵向气体引流导向器、纵向抽气阀门组、横向前驱体注入组件、横向气体引流导向器、横向抽气阀门组；横向前驱体注入、横向气...
    2026-01-22
  • 原子层沉积设备及方法
    原子层沉积设备及方法_青岛思锐智能科技股份有限公司_202511181674.0
    本发明公开一种原子层沉积设备及方法，设备包括预装载腔室、晶圆传输腔室、工艺腔室、晶圆支架、传输机构、检测机构和控制器，预装载腔室、晶圆传输腔室和工艺腔室依次密封连通，晶圆支架设有晶圆放置区，传输机构用于将承载有晶圆的晶圆支架在预装载腔室、晶...
    2026-01-22
  • 一种用于真空氧化铝薄膜镀膜的进气装置
    一种用于真空氧化铝薄膜镀膜的进气装置_艾华(无锡)半导体科技有限公司_202511240619.4
    本发明是一种用于真空氧化铝薄膜镀膜的进气装置，其结构包括进气装置本体，进气装置本体连接TMA供给端和水蒸气供给端，进气装置本体连接超过一个反应腔。本发明的优点：结构设计合理，可实现一套特气控制系统均匀供气给多个工艺腔体，可有效提高设备产能和...
    2026-01-22
  • 石墨舟干法清洗方法
    石墨舟干法清洗方法_通威太阳能(成都)有限公司_202410581156.7
    本发明公开了一种石墨舟干法清洗方法，所述石墨舟表面的镀膜包括硅基薄膜、氧化硅薄膜、氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜中的至少一种，该方法包括：将清洗气体通入清洗腔体对所述清洗气体进行射频解离，以便对石墨舟表面的镀膜进行刻蚀清洗，所述清洗气体包括CO2...
    2026-01-22
  • CVD碳化硅加热器加工系统及其工艺
    CVD碳化硅加热器加工系统及其工艺_江苏环能硅碳陶瓷有限公司_202511093951.2
    本发明涉及碳化硅加热器加工领域，具体涉及CVD碳化硅加热器加工系统及其工艺，其技术方案是：包括喷雾造粒模组和进出料换热模组；所述喷雾造粒模组包括干燥塔，所述干燥塔上端连接有浆料雾化装置，所述干燥塔底部安装有颗粒排出装置；所述进出料换热模组包...
    2026-01-22
  • 一种利用雾化学气相沉积生长氧化镓薄膜的方法
    一种利用雾化学气相沉积生长氧化镓薄膜的方法_江苏利泷半导体科技有限公司_202511161740.8
    本发明公开了一种利用雾化学气相沉积(Mist‑CVD)生长氧化镓薄膜的方法，通过脉冲式雾化(频率1.5‑2.5 MHz，颗粒尺寸1‑5 μm)、低功率等离子体模块(10‑50 W，400‑600°C)、微流控喷嘴(10‑50 μm)和多路前...
    2026-01-22
  • 一种卧式HVPE炉管用镓反应器
    一种卧式HVPE炉管用镓反应器_山东力冠微电子装备有限公司_202511245685.0
    本发明属于卧式HVPE炉管用镓反应器领域，具体的说是一种卧式HVPE炉管用镓反应器，包括装置主体；所述装置主体下方设置有装置底板，所述装置主体与装置底板之间设置有稳定生产抬升机构；所述稳定生产抬升机构包括进气法兰，所述进气法兰设置在装置主体...
    2026-01-22
  • 一种提高非晶Ni-P镀层光亮度的工艺方法
    一种提高非晶Ni-P镀层光亮度的工艺方法_大连理工大学_202511060247.7
    一种提高非晶Ni‑P镀层光亮度的工艺方法，所述工艺方法包括金属基板预处理、镀液配置、化学镀；所述金属基板预处理：将金属基板打磨抛光、清洗吹干，得待镀金属基板；所述镀液的成分如下：六水合硫酸镍10~50g/L、四水合乙酸镍1~10g/L、二水...
    2026-01-22
  • 一种提高非晶Ni-P镀层扩散阻挡性能和耐蚀性的工艺方法
    一种提高非晶Ni-P镀层扩散阻挡性能和耐蚀性的工艺方法_大连理工大学_202511060248.1
    本发明公开了一种提高非晶Ni‑P镀层扩散阻挡性能和耐蚀性的工艺方法，所述工艺方法包括如下步骤：步骤1，预处理：将基板打磨抛光、清洗吹干，得待镀基板；步骤2，镀液配置：将六水合硫酸镍、四水合乙酸镍、二水合柠檬酸三钠、四水合酒石酸钾钠、十二烷基...
    2026-01-22
  • 一种在聚酰亚胺薄膜表面化学镀高强度、低电阻率铜线的方法
    一种在聚酰亚胺薄膜表面化学镀高强度、低电阻率铜线的方法_广东工业大学_202511039637.6
    本申请涉及高分子材料化学镀技术领域，公开了一种在聚酰亚胺薄膜表面化学镀高强度、低电阻率铜线的方法。所述方法包括：制备聚酰胺酸薄膜，并对其表面进行图形化处理；将其浸入含化学镀催化剂的溶液中进行活化，使催化剂覆盖图形化处理区域；再将其进行热环化...
    2026-01-22
  • 钯镀层组合物、利用其的半导体封装用基板的制造方法以及由该方法制造的半导体封装用基板
    钯镀层组合物、利用其的半导体封装用基板的制造方法以及由该方法制造的半导体封装用基板_MK化学科技有限公司_202410893841.3
    本发明涉及钯镀层组合物、利用其的半导体封装用基板的制造方法以及由该方法制造的半导体封装用基板。本发明提供以无镍电镀的方式在半导体封装用基板的铜基板进行化学镀的钯镀层组合物、利用其的半导体封装用基板的制造方法以及由该方法制造的半导体封装用基板...
    2026-01-22
  • 用于6G通讯的极低粗糙度的化学银镀液及其制备方法
    用于6G通讯的极低粗糙度的化学银镀液及其制备方法_深圳市天熙科技开发有限公司_202511096833.7
    本发明公开了一种用于6G通讯的极低粗糙度的化学银镀液，包括硝酸银2~5g/L，络合剂10~15g/L，烟酸5~8g/L，还原剂2~5g/L，稳定剂1~3g/L，表面活性剂0.1~0.5g/L，pH调节剂10~30g/L，晶粒细化剂0.01~...
    2026-01-22
  • 一种提高非晶Ni-Sn-P镀层的光亮性的工艺方法
    一种提高非晶Ni-Sn-P镀层的光亮性的工艺方法_大连理工大学_202511060249.6
    本发明提供了一种提高非晶Ni‑Sn‑P镀层的光亮性的工艺方法，所述工艺方法包括如下步骤：(1)镀液的配制：依次将六水合硫酸镍、二水合柠檬酸三钠、酒石酸钾钠、丁二酸、十二烷基硫酸钠、醋酸铵、次亚磷酸钠和四氯化锡五水合物混合并加水搅拌均匀，得镀...
    2026-01-22
  • 一种提高非晶Ni-Cu-P镀层防腐性能的方法
    一种提高非晶Ni-Cu-P镀层防腐性能的方法_大连理工大学_202511060252.8
    本发明提供了一种提高非晶Ni‑Cu‑P镀层防腐性能的方法，所述方法包括如下步骤：将金属基板抛光、打磨，清洗吹干，得待镀金属基板；将六水合硫酸镍、四水合乙酸镍、五水合硫酸铜、二水合柠檬酸三钠、四水合酒石酸钾钠、十二烷基硫酸钠、醋酸铵、次亚磷酸...
    2026-01-22
  • 一种提高非晶Ni-Sn-P镀层的耐蚀性的工艺方法
    一种提高非晶Ni-Sn-P镀层的耐蚀性的工艺方法_大连理工大学_202511060256.6
    本发明公开了一种提高非晶Ni‑Sn‑P镀层的耐蚀性的工艺方法，所述工艺方法包括：镀液的配制：将六水合硫酸镍、二水合柠檬酸三钠、酒石酸钾钠、丁二酸、十二烷基硫酸钠、醋酸铵、次亚磷酸钠和四氯化锡五水合物混合并加水搅拌均匀；在化学镀前，待镀的金属...
    2026-01-22
  • 一种提高非晶Ni-Cu-P镀层光亮性的工艺方法
    一种提高非晶Ni-Cu-P镀层光亮性的工艺方法_大连理工大学_202511060261.7
    本发明公开了一种提高非晶Ni‑Cu‑P镀层光亮性的工艺方法，所述工艺方法包括如下步骤：经金属基板预处理、配置镀液、通电激活、化学镀，得具有非晶Ni‑Cu‑P镀层的金属基板；所述镀液为六水合硫酸镍10‑50g/L、四水合乙酸镍1‑10g/L、...
    2026-01-22
  • 具有皮膜的金属材料的制造方法
    具有皮膜的金属材料的制造方法_日本帕卡濑精株式会社_202511020607.0
    本发明提供一种能够在金属材料的表面或表面上形成耐腐蚀性及亲水性优异的皮膜的、具有皮膜的金属材料的制造方法。上述具有皮膜的金属材料的制造方法包括：使金属表面处理剂接触金属材料的表面或表面上的工序，上述金属表面处理剂含有水溶性或水分散性的树脂(...
    2026-01-22
  • 一种环保型无铬钝化剂及其制备方法
    一种环保型无铬钝化剂及其制备方法_九江德福科技股份有限公司_202511097225.8
    本发明涉及金属表面防氧化处理技术领域，特别涉及一种环保型无铬钝化剂及其制备方法。本发明提供的环保型无铬钝化剂，包括按重量百分比计的如下组分：植酸钠5.0％～10.0％；单宁酸1.0％～5.0％；硫酸锌2.0％～5.0％；葡萄糖1.0％～3....
    2026-01-22
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