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最新专利技术
  • 基于机器学习的电子束光刻剂量修正方法、装置及电子设备
    基于机器学习的电子束光刻剂量修正方法、装置及电子设备_清华大学_202511572868.3
    本发明提供一种基于机器学习的电子束光刻剂量修正方法、装置及电子设备，其中的方法包括：获取电子束光刻设备的实时工艺环境参数，以及用户待加工的目标图形版图，并计算目标图形版图中离散像素网格的目标能量沉积分布；基于预先训练的机器学习模型，根据实时...
    2026-03-16
  • 一种低倍率自动聚焦补偿紫外光刻镜头
    一种低倍率自动聚焦补偿紫外光刻镜头_河南百合特种光学研究院有限公司_202511618041.1
    本发明公开了一种低倍率自动聚焦补偿紫外光刻镜头，本发明公开了一种低倍率自动聚焦补偿紫外光刻镜头，属于紫外光刻设备技术领域；该镜头适用于激光直接成像设备中IC封装基板精细线路的曝光工艺；光刻镜头包括由多个球面透镜组成的双远心成像系统、补偿平片...
    2026-03-16
  • 光刻胶三维重构量测方法和双电子源量测系统
    光刻胶三维重构量测方法和双电子源量测系统_上海华力集成电路制造有限公司_202511679151.9
    本发明提供了一种光刻胶三维重构量测方法和双电子源量测系统，双电子源量测系统具有两把电子枪，三维重构量测方法包括：步骤S1，两把电子枪交替对晶圆进行扫描，使两把电子枪从不同的方向向晶圆发射电子束，得到与两把电子枪分别对应的形貌灰度数据图像；步...
    2026-03-16
  • 一种基于图对比学习的几何拓扑感知光刻热点检测方法
    一种基于图对比学习的几何拓扑感知光刻热点检测方法_北京航空航天大学_202511680598.8
    本公开提供一种基于图对比学习的几何拓扑感知光刻热点检测方法。对于输入的版图样本，模型预测其类别标签，具体而言，首先通过一种新的多层次图表示构建与特征编码方法来构建层次化几何‑拓扑感知图表示，捕捉多尺度空间依赖以区分热点与非热点模式；随后采用...
    2026-03-16
  • 用于控制光刻时玻璃基板翘曲程度的工作台机构
    用于控制光刻时玻璃基板翘曲程度的工作台机构_成都奕成集成电路有限公司_202512034566.7
    本发明公开了用于控制光刻时玻璃基板翘曲程度的工作台机构，涉及先进封装技术领域，包括台面、真空组件、支撑脚、第一环形密封圈、第二环形密封圈、第一直线驱动件、压框和第二直线驱动件，台面设置有吸嘴，吸嘴位于台面上端面的四周，真空组件的开口通过多根...
    2026-03-16
  • 验证光刻胶层残留的方法
    验证光刻胶层残留的方法_浙江珏芯微电子有限公司_202610037738.8
    本发明提供一种验证光刻胶层残留的方法，包括以下步骤：提供多个衬底，并形成覆盖各所述衬底表面的诊断膜层；形成光刻胶层，所述光刻胶层覆盖所述诊断膜层表面；对所述光刻胶层进行曝光；采用多组不同的光刻工艺参数组合，对不同所述衬底上的所述光刻胶层和所...
    2026-03-16
  • 光刻对位标记、芯片及其制备的光刻对位方法
    光刻对位标记、芯片及其制备的光刻对位方法_上海先封科技有限公司_202610039043.3
    本发明公开了一种光刻对位标记、芯片及其制备的光刻对位方法。该光刻对位标记包括：至少两个对准标记，至少两个对准标记关于一颗芯片呈中心对称设置；该对准标记，包括：至少两个对准图形，各对准图形与芯片的各膜层的曝光图形位于同层，用于在曝光制备芯片的...
    2026-03-16
  • 光学邻近效应校正方法、装置、存储介质及电子设备
    光学邻近效应校正方法、装置、存储介质及电子设备_华芯程(杭州)科技有限公司_202610052924.9
    本申请公开了一种光学邻近效应校正方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该光学邻近效应校正方法包括获取集成电路版图，并将集成电路版图切分为多条独立线段；对每条独立线段进行预设次数的迭代循环，在每次迭代中，基于每条独立线段的边缘放置误差计算第一...
    2026-03-16
  • 一种单面卷对卷光刻设备
    一种单面卷对卷光刻设备_深圳市鑫浩自动化技术有限公司_202610055411.3
    本发明涉及一种单面卷对卷光刻设备，包括曝光平台、放卷机构、收卷机构和曝光机构，所述放卷机构包括放卷架上具有主动放卷功能的放卷筒、放卷缓存装置、放卷浮动装置、纠偏装置和清洁装置，膜片从放卷筒，依次经过放卷缓存装置、放卷浮动装置、纠偏装置和清洁...
    2026-03-16
  • 掩模版缺陷在硅片层面成像效果的预测方法、产品及设备
    掩模版缺陷在硅片层面成像效果的预测方法、产品及设备_东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司_202610063227.3
    本发明提供了一种掩模版缺陷在硅片层面成像效果的预测方法、产品及设备。其中上述方法包括：获取目标掩模版图，目标掩模版图为存在潜在缺陷的版图；通过空中像测量系统生成目标掩模版图的目标空中像；对目标空中像进行分析处理得到目标光学轮廓；根据预先训练...
    2026-03-16
  • 金属有机化合物光刻胶的干法显影工艺和半导体器件
    金属有机化合物光刻胶的干法显影工艺和半导体器件_中国科学院微电子研究所_202511547391.3
    本申请实施例公开了一种金属有机化合物光刻胶的干法显影工艺和半导体器件，工艺全程采用干法刻蚀，大幅减少液相有机物排放，降低环境污染。在工艺适配性与集成性上，避免液体显影中因表面毛细管作用力导致的图案坍塌、显影不完整问题，且为光刻与刻蚀装备的一...
    2026-03-16
  • 一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法
    一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法_上海戎洲芯科技有限公司_202511863334.6
    本发明公开了一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法，其包括重量配比如下的各组分：醇醚类溶剂30‑60份；非质子极性有机溶剂30‑60份；巯基类缓蚀剂1‑15份；醇胺1‑15份。本发明不仅公开了所述化合物半导体光刻胶剥离液的...
    2026-03-16
  • 对准调平系统、对准调平方法及光刻设备
    对准调平系统、对准调平方法及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202610043468.1
    本申请公开了一种对准调平系统、对准调平方法及光刻设备，属于半导体设备技术领域。本申请中的对准调平系统包括：位于预对准位的预对准单元，进行基材的预对准；位于上片位的粗对准粗调平单元，分别进行基材的粗对准和粗调平，其中第一调平模块相较于第一对准...
    2026-03-16
  • 检查装置
    检查装置_佳能株式会社_202511107957.0
    本公开涉及检查装置。检查装置包括检查单元，所述检查单元被配置为基于参考图像和检查图像对所述检查图像执行检查，所述检查图像通过读取形成有图像的片材来获得。所述检查装置还包括显示单元和显示控制单元，所述显示控制单元被配置为在所述显示单元上显示设...
    2026-03-16
  • 处理盒
    处理盒_佳能株式会社_202511107605.5
    提供了一种处理盒，其包括显影辊，该显影辊具有形成在导电基材的外表面上的树脂层，其中，显影辊的树脂层包含具有聚碳酸酯结构的聚氨酯，当在特定频率范围内变化的同时将特定AC电压施加到显影辊的外表面时，在特定频率下的阻抗为1.0×1066Ω以上，当...
    2026-03-16
  • 一种显影装置、激光打印机及墨粉防粘方法
    一种显影装置、激光打印机及墨粉防粘方法_厦门汉印股份有限公司_202511874026.3
    本申请公开了一种显影装置、激光打印机及墨粉防粘方法，其中显影装置包括显影辊和规制刮刀；规制刮刀用于限制附着于显影辊的携带电荷的墨粉的厚度；显影装置还包括驱动单元，驱动单元使规制刮刀振动来进行墨粉防粘动作。通过在非成像期间执行墨粉防粘动作，使...
    2026-03-16
  • 一种硒鼓芯片的安装结构
    一种硒鼓芯片的安装结构_珠海好印宝打印耗材有限公司_202511829837.1
    本发明涉及芯片安装结构技术领域，尤其涉及一种硒鼓芯片的安装结构。其技术方案包括硒鼓外壳，还包括安装于硒鼓外壳端面的芯片安装模块，芯片安装模块包括芯片支撑座和防护机构，芯片支撑座上安装有芯片，硒鼓外壳的端面设有使芯片通过的连接窗，防护机构包括...
    2026-03-16
  • 基于可控雾气散射的全息显示散斑噪声抑制系统及方法
    基于可控雾气散射的全息显示散斑噪声抑制系统及方法_北京理工大学_202511757474.5
    本发明公开了一种基于可控雾气散射的激光去相干及全息显示散斑噪声抑制系统及方法。该系统包括依次设置的激光光源模块、光学整形模块、雾气散射模块和全息显示模块。所述雾气散射模块通过超声雾化或气流扰动方式产生由微米级雾滴组成的散射介质层，使准直激光...
    2026-03-16
  • 用于钟表的调整器组件
    用于钟表的调整器组件_日内瓦宇舶股份公司_202511760119.3
    本发明涉及一种用于钟表的调整器组件，其为有齿的构件(5)，特别是调整器并且尤其是微调调整器或者是被设计为与调整器或微调调整器啮合的部件，其包括：至少一个有齿部分(51)；以及柔性结构(52)，其定位在所述至少一个有齿部分(51)的齿的根部之...
    2026-03-16
  • 表盘、连接件及其终端设备
    表盘、连接件及其终端设备_北京卓悦创展科技有限公司_202511879157.0
    本申请涉及一种表盘、连接件及其终端设备，表盘包括本体，设置有通孔以及与通孔连通的容置空间；以及快拆结构，包括按压部、第一弹性件以及第一卡接部，按压部至少部分结构设置于通孔内，按压部通过第一卡接部与第一弹性件连接，且第一卡接部及第一弹性件均设...
    2026-03-16
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