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  • 本发明公开了一种钾钨青铜纳米片及其制备方法,将含钨源的混合粉置于瓷舟中,然后将氟晶云母衬底置于含钨源的混合粉的上方,且控制含钨源的混合粉与氟晶云母衬底之间的距离>4mm,然后再置于加热炉中,在保护气氛下进行化学气相沉积反应,于氟晶云母衬底表...
  • 本发明公开了一种基于Al基金属源蒸发法的生长AlN晶体的方法,将一个或多个盛有含铝金属源和籽晶的独立坩埚置于生长炉的炉腔中并密封炉腔;抽真空后向炉腔内注入高纯氩气,逐渐升温使含铝金属源熔化;继续升温至生长温度,抽真空后向炉腔内充入氮源气体并...
  • 本发明提供了一种在深硅槽中生长锗外延层的方法,涉及半导体制造技术领域。本发明先对Si/SiO2基底进行光刻和刻蚀,以形成具有预设深度的深硅槽,之后将具有深硅槽的Si/SiO2基底浸泡在TMAH溶液中,以进行第一次清洗。然后将具有深硅槽的Si...
  • 本发明涉及一种(010)取向β‑Ga2O3单晶薄膜的制备方法,所述方法采用M面蓝宝石衬底,对所述M面蓝宝石衬底进行氩离子刻蚀处理后,采用物理气相沉积工艺在氩离子刻蚀后的M面蓝宝石衬底表面生长(010)取向β‑Ga2O3单晶薄膜。通过氩离子刻...
  • 本发明提供了一种片状氮化铝籽晶的生长方法及片状氮化铝籽晶,该片状氮化铝籽晶的生长方法包括:将氮化铝原料放入钨坩埚底部;将透气生长调节件、钨环、钨片依次放置在钨坩埚上方;其中,透气生长调节件与钨片之间形成生长间隙,钨片与氮化铝原料之间通过透气...
  • 本发明提供了一种提高碳化硅晶体质量的长晶炉及长晶方法。所述提高碳化硅晶体质量的长晶炉包括长晶炉体、保温组件、加热组件、坩埚组件与支撑环。长晶方法一方面在坩埚埚体底部中心处开设通孔,能够通过长晶炉体底部的中心进气口直接通入用于生长后期补硅的含...
  • 本发明涉及单晶制备技术领域,尤其是涉及一种引晶阶段的监控方法、系统、存储介质、单晶产品制造方法及单晶产品,应用引晶阶段的监控方法,利用工业相机采集图像后,结合计算机机器视觉系统或图像识别技术判断引晶过程中的图像变化,通过图像判断模型以每一个...
  • 本申请实施例涉及半导体材料制备技术领域,提供一种单晶硅制备方法和硅片,包括:在晶体位于等径阶段的第一时段时,根据晶体的结晶潜能降低加热器的功率,得到第一功率;在晶体位于等径阶段的第二时段时,控制加热器按照第一功率运行;在晶体位于等径阶段的第...
  • 本发明涉及一种单晶硅生长装置,包括:坩埚;侧部加热器,其包括多个加热片;多个加热片沿坩埚的周向依次分布,以形成包围腔,坩埚插设于包围腔中;通过调节加热片的位置,以调节包围腔的横向尺寸。本发明的单晶硅生长装置,对侧部加热器的结构进行优化,能够...
  • 本发明公开一种减小单晶光纤生长温度梯度的装置,包括加热、送料组件、提拉及减小温度梯度组件;加热组件发射激光并将光束聚焦于原料棒顶部,形成局部加热区;送料组件和提拉组件均包括位移台和电机,减小温度梯度组件包括上、下保温结构,上、下保温结构分别...
  • 本发明提出一种垂直梯度冷凝法生长碳镁共掺蓝宝石晶体的方法,以α‑Al2O3、石墨和氧化镁或铝镁尖晶石为原材料,采用垂直梯度冷凝法生长出大尺寸(Φ50mm)α‑Al2O3 : C, Mg晶体,与采用现有技术制备的α‑Al2O3 : C, Mg...
  • 本发明公开了一种高质量CeAuSb2单晶的自助熔剂生长方法,通过对原料化学配比及生长工艺流程的优化,有效攻克了现有技术在制备CeAuSb2单晶过程中面临的易被氧化、单晶质量差、缺陷多、单晶尺寸受限等难题,实现了高质量、大尺寸单晶样品的稳定生...
  • 本发明涉及抛光减薄装置技术领域,具体地说,涉及一种晶圆电化学抛光减薄装置,包括内设处理腔的处理箱,处理箱的上端面安装有升降块,升降块的两端安装有滑动的弯折杆,两个弯折杆的一端伸入处理腔内设置,位于处理腔内的两个弯折杆间安装有底板,底板的上端...
  • 本发明提供了一种阳极箔腐蚀工艺、阳极箔及其应用,具体涉及铝电解电容器用阳极铝箔腐蚀技术领域。阳极箔为铝电解电容器用阳极箔;腐蚀工艺是将铝箔按照先后顺序进行前处理、一级腐蚀、二级腐蚀和后处理得到阳极箔;其中,一级腐蚀的过程为:将前处理后的铝箔...
  • 本发明提供了一种带孔电池铝箔的电化学蚀刻制备方法,通过多级梯度退火处理、脉冲电压电化学蚀刻、分段超声清洗及表面改性处理等步骤,显著提升了铝箔的孔隙率、均匀性和表面性能;该方法采用复合电解液体系协同优化蚀刻效果,且通过控制脉冲电压的波形、正反...
  • 本发明公开了一种含氟化氢铵电解液,以纯水为溶剂,每升电解液中含氟化氢铵6.1~10.3g、氟化铵2.2~4.2g、氟化钠2.9~4.9g、2, 5, 8, 11‑四甲基‑6‑十二碳炔‑5, 8‑二醇0.22~0.42g;用于处理铍铜表面,包...
  • 本发明涉及电解沉积技术领域,公开了一种铜锌电积过程中电解液浓度实时补偿方法,包括:按固定时间采样窗口在上层固定采样位置集合、中层固定采样位置集合、下层固定采样位置集合以及电极邻近区固定采样位置集合同步采集铜离子浓度数据、锌离子浓度数据、硫酸...
  • 本发明公开了一种开放式电镀滚筒、电镀装置及电镀方法,属于电镀装置技术领域,电镀滚筒包括筒体和设置在筒体上的进出料口,其中筒体的两端均密封,筒体的横截面为蜗形线,筒体的内腔形成蜗形腔体;进出料口设置在蜗形腔体的外侧壁上,且进出料口布置在蜗形线...
  • 一种大长径比细长管环保型电镀阳极的制备方法,其特征在于,按照以下步骤进行制备:S1:对铌棒进行加工形成铌丝;S2:对铌丝物理和化学处理;S3:对处理后的铌丝金属镀膜。以此方法生产的电镀阳极具有高抗拉强度、长度方向刚性、外径尺寸均匀、导电性良...
  • 本发明公开了一种实现细长管内壁均匀电镀的装置与方法,该装置包括直流电源、细长管、阳极、电解液循环系统和旋转系统,其中细长管通过旋转导电滑环连接电源负极并在电动旋转台驱动下沿轴向匀速旋转50‑300r/min,阳极通过聚四氟乙烯夹具精确居中固...
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