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  • 本发明涉及一种固液混合型抛光液的循环供液管路系统和抛光液过滤设备。其中,管路系统包括主供液管、支供液管、主回液管、支回液管、供液回流管、搅拌罐及连续作业型过滤设备。管路系统通过供液回流结构与管道下置布局,解决液体沉降与管道堵塞问题,并通过设...
  • 本发明涉及磨具加工技术领域,且公开了一种磨床用砂轮修整装置,包括U形座,所述U形座两端之间转动连接有包覆壳,所述包覆壳顶端贯穿转动连接有安装轴座,所述安装轴座顶端内插接有金刚笔,所述包覆壳与U形座之间设置有角度调节件;所述安装轴座外侧滑动连...
  • 本发明公开了一种晶圆倒角砂轮修整机及修整方法,修整机包括待修整砂轮、修整滚轮、驱动模块、砂轮检测模块和控制模块;修整滚轮位于待修整砂轮一侧,用于对待修整砂轮进行修整;驱动模块与修整滚轮电连接,用于驱动修整滚轮运动;砂轮检测模块位于待修整砂轮...
  • 本发明公开一种多线切割线速及线长高精度标定控制方法,针对多线切割中线速与线长精准标定的问题,采用激光多普勒测速仪作为基准标定设备,记录不同切割辊直径及张力状态下的数据,进而拟合出相应的调整参数,实现高精度的线速与线长标定目标。通过本方案中的...
  • 本申请涉及精密加工技术领域,本申请提供一种面向脆性材料低损伤铣磨的力位混合控制方法,包括:基于目标脆性材料规划加工路径与力位混合控制策略;对目标脆性材料执行铣磨;铣磨过程中实时采集多模态传感数据;基于多模态传感数据识别加工状态并计算关键控制...
  • 一种弯弧铝合金把手恒压刷纹控制方法,刷轮的转轴轴承与摆动气缸连接,在摆动气缸的施压作用下向工件表面进行旋转接触刷纹,摆动气缸进气管路上连接设置比例伺服阀,比例伺服阀由PLC控制,进而实现PLC对刷轮刷纹压力的实时控制。本发明不但适用于弯曲半...
  • 本发明公开了一种基于机器视觉的大型数控磨床热变形测量系统及方法。系统由图像采集、数据预处理和数据提取模块组成。图像采集模块通过夹具安装高分辨率工业相机,采集机床待测区域的辅助标识图像。数据预处理模块结合长短期记忆网络和自适应鲁棒卡尔曼滤波,...
  • 本发明涉及飞轮加工技术领域,公开了一种椭圆机飞轮打磨用夹具,包括支撑台、旋转支撑块、三个径向滑动连接的撑杆、驱动组件、转动组件及夹持力控制系统。该系统通过多模块协同实现夹持力智能调节:夹具效能评估模块基于撑杆分布圆直径和斜面角计算夹具效能系...
  • 本发明适用于机器人自动化打磨技术领域,提供了一种电驱动智能恒力补偿系统,包括电动力控主体,所述电动力控主体包括底板和外壳,所述底板的顶面设有直线电机定子、直线电机动子、直线移动装置、力传感器、位移传感器、陀螺仪和轨道钳制器,所述直线电机定子...
  • 本发明提供一种半导体晶圆电化学磁流变抛光装置及抛光方法,抛光装置包括:主轴、工件台、抛光盘、导电型通孔泡沫垫、密封电解池、温度控制模块、动态集群磁场发生装置;抛光过程中,导电通孔泡沫垫作为电解骨架,提高电流利用率及全域阳极氧化均匀性,实现电...
  • 本发明涉及一种晶圆衬底胶体抛光方法及抛光机。该晶圆衬底胶体抛光方法,包括如下步骤:S1、提供晶圆衬底、两组抛光分散体和两组助剂;S2、一次抛光:使所述晶圆衬底接触第一比例的分散体‑1、分散体‑2和助剂‑1,以及抛光垫;S3、二次抛光:使一次...
  • 本发明提供一种晶圆清洗装置、清洗方法和处理设备,晶圆清洗装置包括:固定支座和与固定支座通过直线导向件连接的升降支座;安装于升降支座的旋转电机及清洁头,旋转电机驱动清洁头旋转;安装于固定支座的下压气缸,用于驱动升降支座沿直线导向件移动;设于直...
  • 本发明公开了一种研磨装置及电泳设备,涉及研磨装置技术领域,其中,研磨装置用于电泳抱具的集电板的研磨,研磨装置包括框架、驱动部件、研磨部件、接水盘、排水管和储水部件,框架包括安装板,驱动部件的缸体安装于安装板,研磨部件包括水性研磨机,驱动部件...
  • 本申请提供了一种研磨的控制方法、研磨的控制系统及研磨方法,该研磨的控制方法应用于对研磨工序的前道工序制得的半导体结构进行研磨的研磨工序,该研磨工序包括第一子研磨工序和第二子研磨工序。该研磨的控制方法包括:获取对半导体结构执行第一子研磨工序前...
  • 本发明涉及磨削技术领域,公开了一种碳化硅吸盘加工用打磨装置及打磨方法,该装置包括箱体、吸盘主体和铰接在箱体正面一侧的箱门,所述箱体的内部下方固定连接有放置板,所述箱体的内底面滑动安装有收集盒,还包括:所述箱体的内顶面中间设置有打磨组件,所述...
  • 本发明公开了一种轴承精细研磨设备,涉及轴承研磨设备技术领域。包括上料组件,用于承载轴承毛坯;定位冲压组件,包括:定位部分与冲压部分,定位部分的上表面与上料组件的承载面处于同一水平面,冲压部分则固定于定位部分正上方的冲压工作台上,并与所述定位...
  • 本发明涉及一种圆锥轴承套圈滚道超精研磨调整装置及加工工艺。本发明包括回转支撑机构,包括C轴旋转台,所述C轴旋转台用于支撑待加工圆锥轴承套圈的自身中心轴线绕C轴旋转;研磨机构,包括X轴直线驱动组件、Z轴直线驱动组件、B轴旋转驱动组件和研磨组件...
  • 本发明公开了一种清洁液循环利用的密封圈研磨设备,涉及研磨机技术领域,研磨设备包括机壳、研磨机构、筛分机构、过滤机构和清洗机构,机壳分别和研磨机构、筛分机构、过滤机构、清洗机构紧固连接,筛分机构和过滤机构紧固连接,过滤机构和清洗机构管道连通。...
  • 本发明公开了一种用于不锈钢小叶轮流道的打磨装置及其工艺,涉及叶轮流道打磨技术领域,包括底座;底座的顶板上配合安装有旋转组件;所述的旋转组件包括旋转盘;旋转盘边缘通过轴承活动安装有多个呈相同结构的插柱;插柱的一端固定安装有链轮;旋转盘通过转轴...
  • 一种轴承套圈抛光装置及方法,它涉及轴承套圈精密加工领域。本发明为解决现有轴承套圈抛光效率低,且磨屑粉末累积影响抛光效果的问题。本发明抛光装置包括可升降上盖组件、转动驱动组件和多个抛光组件,多个抛光组件沿圆周方向均布设置在可升降上盖组件的下方...
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