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最新专利技术
  • 一种化学气相沉积炉用供气系统及进气方法
    一种化学气相沉积炉用供气系统及进气方法_山西中电科电子装备有限公司_202511664698.1
    本发明一种化学气相沉积炉用供气系统及进气方法，属于化学气相沉积设备领域；解决了炉体反应腔室内待沉积工件的沉积质量低、反应气体利用率低的问题；技术方案：该系统包括气源柜，气源柜内装配有快充进气管路和多路进气主管路，快充进气管路和每路进气主管路...
    2026-02-13
  • 晶圆载具及炉管沉积设备
    晶圆载具及炉管沉积设备_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202511498729.0
    本申请涉及一种晶圆载具及炉管沉积设备。该晶圆载具包括：支撑组件，包括支撑板以及设于支撑板上环向分布的多根支撑柱，各支撑柱上设有多个沿支撑柱长度方向分布的支撑部，且不同支撑柱上处于同一平面内的各支撑部围成盛放晶圆用的承载区，其中一根支撑柱上的...
    2026-02-13
  • 形成氧化镁层的方法和形成镁铟锌氧化物层的方法
    形成氧化镁层的方法和形成镁铟锌氧化物层的方法_ASMIP私人控股有限公司_202510804460.8
    公开了用于形成氧化镁层的方法。所公开的方法包括执行循环沉积过程以形成具有降低的或低的碳杂质浓度的氧化镁层。还公开了用于形成镁铟锌氧化物层的方法，镁铟锌氧化物层包括具有降低的或低的碳杂质浓度的氧化镁组分。
    2026-02-13
  • 通过ALD形成层的方法
    通过ALD形成层的方法_ASMIP私人控股有限公司_202510804414.8
    公开了一种通过原子层沉积在多个衬底上形成氧化物层的方法。该方法包括以下步骤：在处理室中提供多个衬底，多个衬底由衬底舟支撑；以及执行多个沉积循环，每个沉积循环包括：向处理室提供第一前体气体，第一前体气体包括能够形成氧化物的成分；向处理室提供吹...
    2026-02-13
  • 用于供应蒸发的反应物的设备及相关的反应器系统和方法
    用于供应蒸发的反应物的设备及相关的反应器系统和方法_ASMIP私人控股有限公司_202510814421.6
    公开了用于向反应室供应蒸发的反应物的设备。所公开的设备包括与供应容器流体连通的过程控制室，以及与过程控制室流体连通的注入气体源，并且注入气体源配置成能够修改过程控制室内的压力。还公开了包括用于向反应室供应蒸发的反应物的设备的反应器系统。还公...
    2026-02-13
  • 基于化学气相沉积法制备ZnS整流罩的装置及方法
    基于化学气相沉积法制备ZnS整流罩的装置及方法_山东有研国晶辉新材料有限公司_202511327193.6
    本发明属于硫化锌材料技术领域，并具体涉及一种基于化学气相沉积法制备ZnS整流罩的装置及方法，该基于化学气相沉积法制备ZnS整流罩的装置包括沉积炉，所述沉积炉内自下而上分别设置有锌池以及与所述锌池连通的沉积室，所述沉积室外接硫化氢与第一载气气...
    2026-02-13
  • 一种多层涂层刀具及其制备方法
    一种多层涂层刀具及其制备方法_赣州澳克泰工具技术有限公司_202511747564.6
    本申请属于表面防护涂层技术领域，具体涉及一种多层涂层刀具及其制备方法，所述多层涂层刀具包括基体和通过化学气相沉积方法形成于基体表面的多层涂层。多层涂层包括由z个周期涂层自内向外依次堆叠构成的结构层(1≤z≤5且z为整数)；每个周期涂层均包含...
    2026-02-13
  • 含石墨烯氮化硼异质结的高导热高绝缘材料及制备方法
    含石墨烯氮化硼异质结的高导热高绝缘材料及制备方法_广州市先进电科技有限公司_202511387997.5
    本发明公开了一种含石墨烯氮化硼异质结的高导热高绝缘材料及制备方法，涉及导热绝缘复合材料领域。该材料由石墨烯层与六方氮化硼层交替堆叠形成垂直异质结，总层数3‑10层，晶格堆叠角度为0°或60°，面内热导率≥1500W/mK，垂直热导率≥50W...
    2026-02-13
  • 一种硒氧化铋和亚硒酸氧铋二维围栅单晶异质结构及制备方法和应用
    一种硒氧化铋和亚硒酸氧铋二维围栅单晶异质结构及制备方法和应用_北京大学_202511109827.0
    本发明提供一种硒氧化铋和亚硒酸氧铋二维围栅单晶异质结构及制备方法和应用，涉及半导体材料技术领域。本发明制备方法包括如下步骤：S1.对基底进行高温退火处理；S2.以预处理基底为生长基底，硒化铋块体和高纯氧气为原料，进行化学气相沉积得到二维单晶...
    2026-02-13
  • 一种真空镀膜设备门阀便捷维护结构
    一种真空镀膜设备门阀便捷维护结构_碲阳半导体(泰州)有限公司_202511647554.5
    本发明涉及门阀维护技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备门阀便捷维护结构，包括机体，机体上设置有相邻的第一腔体和第二腔体，第一腔体和第二腔体之间设有用于通断的门阀，机体的侧壁与门阀对应的位置设有维护窗口，维护窗口处设置有维护门，维护门包括固定于...
    2026-02-13
  • 一种基于洛伦兹力的粒子收集及蒸镀方法和装置
    一种基于洛伦兹力的粒子收集及蒸镀方法和装置_安徽熙泰智能科技有限公司_202511337756.X
    本发明公开了一种基于洛伦兹力的粒子收集及蒸镀方法和装置，涉及硅基OLED领域，方法包括以下步骤：S1：含铁粒子和蒸镀材料气体同时通过蒸发源排出，气流自下向上运行；S2：所述气流通过环形磁场区域，其中，所述含铁粒子受到洛伦兹力的影响偏转出垂直...
    2026-02-13
  • 膜厚传感器及膜厚实时监测系统
    膜厚传感器及膜厚实时监测系统_华南理工大学_202511647635.5
    本发明公开了膜厚传感器及膜厚实时监测系统，该膜厚传感器包括电路板，支撑块，以及晶振探头；晶振探头包括支撑外环，设于支撑外环中的支撑内环，以及嵌设于支撑内环和支撑外环中的晶振片，晶振片的底部通过导电弹簧与电路板电性连接；支撑外环正对溅射阴极设...
    2026-02-13
  • 基板对准装置及成膜装置
    基板对准装置及成膜装置_株式会社爱发科_202510801920.1
    本发明提供能够掌握即将成膜前的基板与掩模的位置关系的基板对准装置及成膜装置。蒸镀装置(10)具备：真空槽(11)，划定收纳基板(S)的收纳空间(11S)；掩模台(23)，在收纳空间(11S)内保持掩模(M)；红外线相机(31)，对从相对于基...
    2026-02-13
  • 一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的装置及镀膜方法
    一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的装置及镀膜方法_滁州嘉美精密工业有限公司_202511693725.8
    本发明公开了一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的装置及镀膜方法，涉及磁控溅射镀膜技术领域，包括罐体，还包括：转动设置于罐体内的旋转盘；磁控溅射组件，其包括至少两个磁控溅射靶；多向承托组件，其用于基材的承托，多向承托组件具有一初始位置，在初始位置...
    2026-02-13
  • 一种钻头硬质涂层的快速沉积装置及其使用方法
    一种钻头硬质涂层的快速沉积装置及其使用方法_江苏飞达钻头股份有限公司_202511338218.2
    本发明涉及沉积装置技术领域，尤其为一种钻头硬质涂层的快速沉积装置及其使用方法，包括沉积装置组件，沉积装置组件内侧安装有支架组件，支架组件内侧插接有钻头本体，沉积装置组件靠近下端的位置固定连接有装配保温箱组件，装配保温箱组件内侧安装有推送组件...
    2026-02-13
  • 非金属掺杂改善硬质碳膜跨湿度环境近零磨损方法及应用
    非金属掺杂改善硬质碳膜跨湿度环境近零磨损方法及应用_清华大学_202511350343.5
    本申请涉及非金属掺杂改善硬质碳膜跨湿度环境近零磨损方法及应用。所述方法包括：对摩擦副进行配副选型，将所述摩擦副的两接触表面分别设置为四面体非晶碳膜和非金属掺杂的类金刚石碳膜。通过对摩擦副的两接触表面进行选型及元素掺杂设计，使得摩擦副两接触表...
    2026-02-13
  • 一种提高工作温度的陶瓷复合保护层及其制备方法和应用
    一种提高工作温度的陶瓷复合保护层及其制备方法和应用_天津大学_202511321192.0
    本发明属于电子信息元器件技术领域，公开了一种提高工作温度的陶瓷复合保护层及其制备方法和应用，首先采用磁控溅射技术将氮化硅薄膜沉积在薄膜温度传感器的敏感层表面，然后采用超声喷涂技术将氧化铝保护层沉积在氮化硅薄膜表面，形成氮化硅/氧化铝复合结构...
    2026-02-13
  • 一种非单调晶粒尺寸梯度复合涂层及其制备方法和应用
    一种非单调晶粒尺寸梯度复合涂层及其制备方法和应用_武汉理工大学_202511259876.2
    本发明涉及一种非单调晶粒尺寸梯度复合涂层及其制备方法和应用，包括在基底上从下往上依次设置的细晶层、粗晶层和过渡层，细晶层、粗晶层和过渡层中的晶粒均为柱状晶，且细晶层中的晶粒径向平均尺寸<100 nm，粗晶层中的晶粒径向平均尺寸为220～50...
    2026-02-13
  • 一种镀膜装置及方法
    一种镀膜装置及方法_龙门实验室_202511139674.4
    本发明公开了一种镀膜装置及方法，旨在解决现有技术中膜厚均匀性差、颗粒吸附顽固、表面光洁度不足等问题。该装置包括基座、磁控溅射发生器、导向结构、旋转机构、超声机构及驱动机构。旋转机构驱动试管绕自身轴线旋转，超声机构通过变幅杆向试管施加轴向高频...
    2026-02-13
  • 一种磁控溅射镀膜装置
    一种磁控溅射镀膜装置_晶拓科技(宁波)有限责任公司_202511136915.X
    本发明涉及磁控溅射技术领域，具体涉及为一种磁控溅射镀膜装置，包括底座，所述底座上方固定连接有镀膜仓，所述镀膜仓内表面固定安装有磁控靶，所述镀膜仓上方设置有盖板组件，所述盖板组件包括仓盖，所述仓盖底部固定连接有电动推杆，所述电动推杆与所述底座...
    2026-02-13
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