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  • 本发明公开了一种跨领域高精度无冲击闰秒处理方法,适用于所有对时间同步误差≤1ns且时间连续性无中断的安全关键系统(含金融、航空航天、医疗、工业等跨领域场景)。核心方案为:闰秒前预校准并使初始同步误差满足后续校准需求,将过渡周期对应的总步数均...
  • 本发明提供了一种星载原子钟自由运行状态进行星座守时的方法,基于星载原子钟输出的第一时频信号,通过频率综合生成可调的第二时频信号;比对测量二者之间的相位差并发送至星间链路;通过星间测量与交互,获得各卫星第二时频信号之间的钟差,并换算得到各星第...
  • 本发明公开了一种针灸治疗时防止漏针的计时器,属于针灸辅助技术领域,该针灸治疗时防止漏针的计时器,包括器体,所述器体内部固定安装有主控制器,所述器体表面固定安装有输入模块,所述主控制器表面固定安装有计时模块,所述主控制器表面固定安装有语音模块...
  • 本发明提供一种声音播放装置、声音播放方法以及计算机程序产品。声音播放装置(1)具备:计时部(331),其对时刻进行计时;存储部(32),其存储闹铃时刻;检测部(21),其以非接触的方式对物体进行检测;计算部,其基于检测部的检测结果,来计算物...
  • 本申请涉及一种本地时钟校准方法和时间同步信号通道扩展系统,被授时设备接收经由通道扩展设备传输的PPS信号,方法包括以下步骤:基于接收到的PPS输出信号,测量并确定所述被授时设备的本地时钟相对于标准时间的周期偏差y;基于所述周期偏差y,并依据...
  • 本发明公开了一种基于贝叶斯优化的芯片原子钟微波锁定PID参数寻优方法、系统、设备、介质及程序产品,包括:获取芯片原子钟在微波锁定期间的原始信号并进行预处理;基于预处理后的原始信号的噪声分布特性生成仿真噪声序列;构建贝叶斯优化框架,根据硬件约...
  • 用于控制、调节或认证计时器的系统(30)包括基于由光学原子钟(10)提供的时间参考来测量一个计时器或多个计时器的频率信号和/或速率的装置(31),所述光学原子钟(10)包括原子蒸气腔室(1),原子蒸气腔室(1)包括限定容纳参考原子(2)的蒸...
  • 本发明公开了一种养生钟表,涉及钟表技术领域。一种养生钟表,包括表盘、时钟指针、语音模块,所述表盘的正面中心位置设有所述时钟指针,所述表盘的背面中心位置设有所述语音模块。本发明通过通过将十二时辰与二十四节气相结合,并配合语音模块在对应时辰播报...
  • 本发明涉及一种制造具有最终刚度的游丝的方法,该方法包括以下步骤:制造具有过厚的游丝;确定所制造的游丝的初始刚度,以便去除材料的体积,以获得具有所述最终刚度所需尺寸的游丝。
  • 本发明公开了一种图像形成装置,所述图像形成装置具备:定影单元,所述定影单元具有根据预先设定的定影温度而发热的发热单元,对保持在介质上的未定影的像进行定影;弯曲检测单元,所述弯曲检测单元配置于在介质的传送方向上所述定影单元的上游侧,检测所述介...
  • 本申请实施例涉及电子设备技术领域,具体涉及一种打印机。本申请实施例旨在解决打印机的打印分辨率有所不足的问题。本申请实施例提供的打印机,感光鼓可转动的设于壳体,发光二极管用于发出光线照射感光鼓,光阑设于感光鼓和发光二极管之间,光阑用于遮挡部分...
  • 本发明公开了一种敲击装置、后处理装置及图像形成装置,所述敲击装置具备:堆放部,所述堆放部为从一端延伸至另一端且在所述一端形成有缺口的板状,使介质堆放在作为一方的板面的堆放面上;支承部,所述支承部配置于所述另一端侧,支承堆放在所述堆放面上的介...
  • 本发明属于功能新材料技术领域,本发明涉及一种打印机用防伪碳粉及其制备方法,所述打印机用防伪碳粉通过采用紫外荧光化合物、树脂、离型剂、电荷调节剂、处理剂为原料并进行适当配比,制备时先取紫外荧光化合物、树脂、电荷调节剂进行混匀制得混合物料,再将...
  • 本发明属于光刻工艺与设备技术领域,具体涉及用于边缘曝光设备移动曝光机构的玻璃基板定位方法,其方法包括:通过计算图像灰度梯度与局部标准差的非对称指数,精确识别玻璃基板上表面的真实边缘点;建立弹性物理模型计算边缘点因悬空产生的垂直下沉量,并结合...
  • 本申请提供了一种光阻的去除方法,属于半导体技术领域,其包括提供半导体基底;在半导体基底上依次形成感光膨胀胶层及目标光阻层,目标光阻层位于感光膨胀胶层上,且感光膨胀胶层与目标光阻层的感光波段不同;对目标光阻层进行曝光显影,以形成图形化的光阻层...
  • 本发明涉及液晶面板生产技术领域,具体涉及一种用于正性光刻胶的剥离液组合物及其制备方法。本发明的正性光刻胶剥离液组合物,其原料组分包括醇胺溶剂、极性溶剂、金属腐蚀抑制剂;还包括二氧化碳吸附剂、除氧剂,以抑制药液在生产、运输以及使用过程中与空气...
  • 本发明公开了一种降低光刻胶显影后缺陷的方法及半导体结构制作方法,属于半导体领域,本发明将微波加热提前至蒸发显影液工序,并且通入惰性气体减少光刻胶图案内外压差,通过微波加热蒸发半导体结构上的显影液,同时通入惰性气体和开启干燥腔室的抽气装置,将...
  • 本发明涉及一种光刻方法,涉及半导体制备技术领域,该光刻方法中,在去除待加工基板上的第一光阻之后,需要对第一表面进行清洗,清洗第一表面时会使得第一表面具有亲水性,影响了后续光阻与待加工基板之间的粘合性,因此,采用第一反应材料对第一表面进行处理...
  • 本申请提供了一种曝光机焦平面的补偿方法及装置、曝光方法,属于光刻领域。该方法包括:间隔若干生产周期,采用标准晶圆片量测得到曝光机的卡盘高度分布图;生产过程中,通过曝光机扫描生产晶圆片,得到生产晶圆片的找平映射图;比对卡盘的高度分布图与生产晶...
  • 本发明公开了一种基于平面波的照明系统及曝光设备,包括:第一反射镜,波前像差检测模块相对于光线入射方向倾斜,第一反射镜用于接收来自光源的光线并对光线进行反射;第二反射镜,用于接收第一反射镜反射的光线并对光线进行扩束;第三反射镜,用于接收第二反...
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