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  • 本发明公开了一种半导体晶圆减薄机,本发明涉及减薄机技术领域。包括机架,所述机架的顶部安装有隔板,所述机架包括主机架和副机架;减薄机,所述减薄机安装在主机架的上方;减薄机构,所述减薄机构设置在减薄机的外部,所述减薄机构包括固定座和子母轴组件,...
  • 本发明属于光学棱镜加工技术领域,公开了一种光学棱镜端面高精度加工方法,包括如下步骤:将圆柱形光学材料磨成设定截面形状的棱柱,将棱柱加热软化、拉丝,然后切割至设定长度;将切割后的棱柱边对边并列捆绑,将其整体放入两端开口的空心管中,并与空心管的...
  • 本发明公开了一种便于调试和维护的平面磨床,包括磨床平台,所述磨床平台的首尾两端处分别设有抛光机构和磨平机构,所述抛光机构和磨平机构处分别连接有抛光调节件和磨平调节件,通过将抛光与磨平机构集成于同一可调平台,实现了从粗磨到精抛的一体化连续加工...
  • 本发明属于金属表面加工技术领域,特别涉及一种宽板面金属镜面精抛光设备及方法。该设备包括驱动电机、偏心连杆、设备本体、机座、导轨、滑块以及多个沿来料板宽方向并列布置的打磨机构;设备本体底部设有滑块,机座上部设有导轨,滑块与导轨可滑动连接,驱动...
  • 本发明涉及密度板加工技术领域,且公开了一种具有密度板精细打磨结构的设备,包括加工台,加工台上设置有用于承托密度板的承托板,承托板上对称设置有两个可横向滑动的夹持座,本方案通过设置丝杆传动与导向槽联动的进给对中机构,不仅实现了板材的平稳输送与...
  • 本发明涉及打磨设备的技术领域,特指一种板材孔口处的倒角打磨设备及其打磨方法,该打磨设备包括行走机构;可相对于行走机构进行升降调节的机架;可升降调节及可旋转调节的设于机架上的驱动总成;与驱动总成连接并可沿着水平方向向内或向外移动调节的多个滑移...
  • 本发明涉及磨盘制造技术领域,公开了一种金刚石磨盘的制造设备,包括底板台,底板台的顶部固定连接有倾斜滑台,倾斜滑台的上表面固定连接有限位护板,限位护板的顶端固定连接有下料仓,倾斜滑台的两侧分别设置有操控箱一和操控箱二,操控箱一的输出轴固定连接...
  • 本发明属于不锈钢材处理技术领域,具体的说是一种不锈钢管处理设备,包括底座框架,底座框架的上端设有操作平台,操作平台的上端设有处理结构,操作平台上端远离处理结构的一端设有清洁结构;处理结构包括:处理框架,处理框架设在操作平台的上表面;推杆,推...
  • 本发明公开了一种可变径高精度钢管内壁修磨机器人,属于钢管修磨技术领域,为了解决打磨过程中产生的金属碎屑、氧化皮等杂质容易卡滞于钢丝轮间隙内,降低了打磨效果的问题,发明包括牵引车,牵引车内设置有无线通讯模块,牵引车一侧设置有第一摄像头,牵引车...
  • 本发明涉及一种铸管内磨自调系统,包括:铸管;托轮组件;挡轮组件;所述托轮组件承托所述铸管顶面的高程,朝向所述挡轮组件方向逐渐降低,使所述铸管仅可朝向所述挡轮组件一侧产生运动趋势,并与水平面产生夹角;还包括:行走组件;举升组件;打磨组件;还包...
  • 本发明公开了一种机床的驱动进给系统,涉及机床进给技术领域,包括机架、打磨部,还包括:第一进给机构,其用于输送打磨部在第一方向进行位移;第二进给组件,其用于对管件进行导正,并可沿第二方向对管件位置进行调节,以使得管件具有内壁打磨位置和外壁打磨...
  • 本发明公开了一种多方位一体式瓶体打磨装置,包括定位组件及打磨组件,定位组件包括控制底座、卡盘件及移动件,卡盘件及移动件相对设置于控制底座的顶面并用于抵住瓶体的两端使其悬空,且卡盘件还用于带动悬空的瓶体自转,打磨组件包括滑动底座、外齿圈、内齿...
  • 本发明涉及机械制造技术领域,且公开了一种用于撕碎机刀片的表面处理装置,包括底板,底板的上表面对称设置有传送组件,底板的上表面对称设置有打磨组件,打磨组件包括固定设置在底板上表面的L形板,L形板上滑动设置有工字型板,工字型板的上表面开设有圆弧...
  • 本申请涉及光学零件超精密加工技术领域,尤其是涉及一种大型光学零件离子束抛光机,包括翻转送入装置和真空室,所述翻转送入装置设置于真空室的一侧,所述真空室靠近翻转送入装置的一侧并设有侧门,所述真空室内活动安装有驱动机构;所述翻转送入装置包括横移...
  • 本发明公开了一种氧化钇陶瓷喷嘴去毛刺与抛光方法,包括步骤:S1、预处理;S2、精密去毛刺;S3、表面抛光。针对性强,无损加工:发明针对氧化钇陶瓷高硬度、高脆性的特点,采用“先去毛刺后抛光”的分步策略。去毛刺阶段采用低气压配合软质磨料的微喷砂...
  • 本发明公开一种用于复杂曲面的智能抛光方法与装置,属于精密光学制造技术领域。该方法通过预实验,利用六维力矩传感器测量在不同曲率工件抛光过程中的三维方向力与力矩,并系统采集下压量、进动角、转速、气囊头曲率半径及气囊内部气压等多参数对应关系。并构...
  • 本发明属于先进结构陶瓷制备领域,具体涉及一种双面弧形抚平板的批量加工方法。本发明的一种双面弧形抚平板的批量加工方法,包括以下步骤:将经高温烧结后所得的抚平板毛坯粗磨加工,得到坯件,所述坯件待加工平面、外形尺寸符合后道加工工艺要求;将坯件竖直...
  • 本发明涉及管件坡口打磨技术领域,具体涉及一种管件坡口打磨中心及打磨方法,该打磨中心包括打磨房、内部设置的两个回转台及位于其间固定安装的六轴机器人,回转台一侧延伸至房外由围栏防护,形成上下料区;房内设有除尘台,关键改进在于,回转台上设有可沿径...
  • 本发明公开了一种提高铌酸锂电光调制系数全温稳定性的集成光学芯片加工方法包括S1、集成光学芯片表面涂一层厚度20μm‑30μm的光刻胶,粘接后热固化处理;S2、集成光学芯片待磨抛的两个端面区域采用可去除的热解胶各粘接一条陪片,粘接后UV固化;...
  • 本申请涉及微孔加工技术领域,尤其是涉及一种超声微孔加工方法和装置,一种超声微孔加工方法包括:在工作台和工件之间设置第一超声振动台;超声刀具对工件打孔;超声振动台产生振动传递至工件上方流经的磨料;确定磨料中磨粒受第一超声振动台的声流曳力Fdr...
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