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最新专利技术
  • 一种量子点电泳显示器件
    一种量子点电泳显示器件_福州大学_202511114915.X
    本发明公开了一种量子点电泳显示器件， 涉及电泳显示领域， 包括出光侧基板、背光侧基板、阵列排布的显示像素单元；显示像素单元包括：前置紫外光源与第一电泳驱动电极、第二电泳驱动电极以及设置于第一电泳驱动电极与第二电泳驱动电极之间的像素腔， 像素...
    2026-03-28
  • 阵列基板、显示面板和显示装置
    阵列基板、显示面板和显示装置_惠科股份有限公司_202511227302.7
    本申请公开了一种阵列基板、显示面板和显示装置， 主要涉及显示技术领域， 所述阵列基板包括阵列衬底、像素单元、光电转换单元和切换电路， 所述像素单元呈矩阵式排布设置在所述阵列衬底上， 所述像素单元包括像素电极， 所述光电转换单元设置在所述阵列...
    2026-03-28
  • 防紫外光的电子纸显示模组及其生产方法
    防紫外光的电子纸显示模组及其生产方法_江西兴泰科技股份有限公司_202510969598.3
    防紫外光的电子纸显示模组及其生产方法， 包括：CG保护盖板层、EPD电子纸模组层、OCA光学胶层；OCA光学胶层位于CG保护盖板层与电子纸显示EPD层之间；CG保护盖板层包括透明材质的CG保护板、透明的防紫外UV涂层；透明的防紫外UV涂层覆...
    2026-03-28
  • 电子纸显示模组生产方法
    电子纸显示模组生产方法_江西兴泰科技股份有限公司_202510969595.X
    电子纸显示模组生产方法， 包括步骤B10：在TFT层上的电路连接点上， 加银胶；将电子纸显示组合层模组与TFT层贴合；步骤B20：将防水保护膜层贴附于电子纸显示组合层模组上；步骤B30：银胶局部固化, 对银胶部位进行局部加热， 固化银胶；步...
    2026-03-28
  • 电子纸段码显示模组和生产方法
    电子纸段码显示模组和生产方法_江西兴泰科技股份有限公司_202510969596.4
    电子纸段码显示模组和生产方法， 包括：PET层、FPL电子纸层、PS保护层、柔性封边胶；FPL电子纸层与PET层通过银胶电连通内部电路；FPL电子纸层在PET层的上面；PS保护层在FPL电子纸层的上面；柔性封边胶围绕FPL电子纸层与PS保护...
    2026-03-28
  • 基于薄膜铌酸锂平台的单电极集成多模光学相控阵
    基于薄膜铌酸锂平台的单电极集成多模光学相控阵_中国地质大学(武汉)_202510804257.0
    本申请提供了一种基于薄膜铌酸锂平台的单电极集成多模光学相控阵， 涉及光电子技术领域， 光学相控阵包括：模式转换模块、相位调制模块以及光栅天线；模式转换模块、相位调制模块以及光栅天线依次顺序连接；模式转换模块用于将输入的基模光转换为高阶模；相...
    2026-03-28
  • 一种蓝相液晶透镜
    一种蓝相液晶透镜_广东工业大学_202510994256.7
    本发明涉及液晶显示技术领域， 更具体地， 涉及一种蓝相液晶透镜， 其包括蓝相液晶层、分别设置于所述蓝相液晶层两侧的平面电极和设有通孔的圆孔电极；还包括高阻层， 所述高阻层的外边缘与所述通孔的内壁连接。本发明克服了现有技术中由于电场分布不均而...
    2026-03-28
  • 一种基于正交电极的液晶光栅的节距调节方法
    一种基于正交电极的液晶光栅的节距调节方法_中北大学_202511228759.X
    本发明提供一种基于正交电极的液晶光栅节距调节方法， 液晶光栅包括上基板、与上基板相对设置的下基板、位于上基板和下基板之间的液晶层， 上基板靠近液晶层的一侧沿宽度方向间隔设有多个上条状电极P1和上条状电极P2， 下基板靠近液晶层的一侧沿长度方...
    2026-03-28
  • 基于多重动态收敛的激光系统光束近场补偿方法及系统
    基于多重动态收敛的激光系统光束近场补偿方法及系统_中国工程物理研究院激光聚变研究中心_202510954741.1
    本发明提供了一种基于多重动态收敛的激光系统光束近场补偿方法及系统， 包括：建立空间光调制器的镜面坐标与三倍频光束近场观测坐标间的空间坐标映射关系， 并采集初始三倍频光束近场数据；根据初始三倍频光束近场数据， 利用多重动态收敛算法生成初始补偿...
    2026-03-28
  • 一种宽带非线性频率转换器和制备方法
    一种宽带非线性频率转换器和制备方法_上海交通大学_202511293406.8
    本发明公开了一种宽带非线性频率转换器， 该转换器自上至下包括二氧化硅涂覆层、x切铌酸锂薄膜层、二氧化硅缓冲层、硅衬底层， x切铌酸锂薄膜层上有弱弯曲脊型波导， 弱弯曲脊型波导的弯曲角度不大于5度。本发明在铌酸锂薄膜上通过弱弯曲波导的形式， ...
    2026-03-28
  • 一种闪光灯模组及电子设备
    一种闪光灯模组及电子设备_华为技术有限公司_202410430504.0
    本申请实施例提供了一种闪光灯模组及电子设备， 涉及电子设备领域， 用于改善具有光斑调节功能的闪光灯调节范围有限、结构占用体积大的问题。该闪光灯模组包括照明光源、准直装置和可变焦透镜；其中， 照明光源用于形成向准直装置投射的照明光束；准直装置...
    2026-03-28
  • 一种防水型加热镜头模组
    一种防水型加热镜头模组_湖北云泰时代光学仪器有限公司_202511209384.2
    本发明提供了一种防水型加热镜头模组， 包括座体以及设置在座体内的透镜组；透镜组包括设置在座体一侧的外镜片；座体的一侧开设有嵌槽， 第三密封圈设置在嵌槽内；外镜片一侧嵌入至嵌槽中；压盖与座体螺纹连接；压盖套设至外镜片上， 压盖压紧外镜片远离座...
    2026-03-28
  • 极轴对准方法、成像设备和计算机程序产品
    极轴对准方法、成像设备和计算机程序产品_苏州振旺光电有限公司_202511143491.X
    本申请提供一种极轴对准方法、成像设备和计算机程序产品， 涉及天文摄影领域。该极轴对准方法包括：控制成像设备的光学模块在第一高度角下， 绕成像设备的两轴对位装置的水平旋转轴旋转所得的不同方位角下， 获取至少两张天体图像；基于至少两张天体图像和...
    2026-03-28
  • 可投影底座及电子设备
    可投影底座及电子设备_深圳市星桐科技有限公司_202511107012.9
    本申请涉及可投影底座及电子设备。所述可投影底座包括外壳、磁性件和投影模组。外壳包括安装部和视窗部。所述视窗部包括开口。当所述可投影底座放置于投影表面时， 所述视窗部相对于所述安装部靠近所述投影表面。磁性件设置于所述外壳内， 用于将外部设备吸...
    2026-03-28
  • 一种硅化钼层干法刻蚀方法
    一种硅化钼层干法刻蚀方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202511001320.3
    该发明提供一种硅化钼层干法刻蚀方法， 涉及半导体掩模版领域。该方法用于对相移掩模版中的硅化钼相移层进行干法刻蚀图形转移。其包括以下步骤：1、将图形化的硅化钼层放入ICP干法刻蚀机；2、向刻蚀腔体中通入混合后的SF6和Ar气体；3、通过控制I...
    2026-03-28
  • 掩模版制版数据生成方法、制版工具、介质及设备
    掩模版制版数据生成方法、制版工具、介质及设备_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202410427755.3
    本发明提供一种掩模版制版数据生成方法、制版工具、介质及设备， 通过对待排版版图做唯一化命名， 然后开发脚本自动生成掩模版制版工具中版图相关信息， 可显著节省人力， 提高效率， 并降低手动操作导致的错误。
    2026-03-28
  • 压印机构及光栅成型设备
    压印机构及光栅成型设备_业桓科技(成都)有限公司_202511307767.3
    本申请涉及光学元件制备技术领域， 旨在解决纳米压印时在基材表面残留较多光刻胶的技术问题， 提供一种压印机构及光栅成型设备。压印机构包括滚压件。滚压件被构造为可卷绕且被配置为沿其延伸方向滚动刮印。滚压件包括多个压印结构。多个压印结构沿延伸方向...
    2026-03-28
  • 耐黄变负性厚膜光刻胶组合物的制备方法与应用
    耐黄变负性厚膜光刻胶组合物的制备方法与应用_儒芯微电子材料(上海)有限公司_202411221184.4
    本发明涉及光刻胶技术领域， 具体是指耐黄变负性厚膜光刻胶组合物的制备方法与应用， 包括如下百分比重量份的组分：SU8树脂45％‑70％、脂环族环氧树脂7％‑30％、交联剂5‑10％、光致产酸剂2‑10％、溶剂10‑20％， 还包括流平剂， ...
    2026-03-28
  • 正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜
    正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜_DIC株式会社_202510246509.2
    本发明提供一种正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜， 所述正型感光性树脂组合物含有下述的成分A～成分C。成分A：酚醛清漆型酚树脂， 包含衍生自间甲酚和/或邻甲酚的酚结构单元a1、衍生自乙醛的醛结构单元a2、以...
    2026-03-28
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510388280.6
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中， 感度、分辨率及LWR优良、稳定且操作也容易的抗蚀剂组成物， 以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物， 含有锌四核团簇...
    2026-03-28
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