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最新专利技术
  • 微纳结构的制备方法及应用
    微纳结构的制备方法及应用_苏州新维度微纳科技有限公司_202511615500.0
    本发明公开了一种微纳结构的制备方法及应用，制备方法包括：提供一子模板，子模板的材质为丙烯酸类材料；通过氧等离子体沿第一方向对压印结构的第一表面进行表面活化处理，以驱动至少部分厚度的所述压印结构的C=C双键氧化为羧基或C=C双键断裂；在衬底表...
    2026-03-12
  • 组合物及其制备方法、薄膜和显示面板
    组合物及其制备方法、薄膜和显示面板_深圳市TCL高新技术开发有限公司_202410705511.7
    本申请公开了一种组合物及其制备方法、薄膜及显示面板，所述组合物包括硅烷偶联剂改性的散射粒子、量子点和光刻胶。本申请所述的组合物具有较高的储存稳定性。
    2026-03-12
  • 波长转换用感光性组合物、波长转换层、层叠体及显示装置
    波长转换用感光性组合物、波长转换层、层叠体及显示装置_爱天思株式会社_202510700730.0
    本发明的目的在于提供一种显影性及图案形成性优异、且波长转换效率优异的波长转换用感光性组合物、波长转换层、层叠体及显示装置。所述波长转换用感光性组合物，包含有机荧光粒子(A)、树脂(B)、聚合性化合物(C)及聚合引发剂(D)，所述树脂(B)包...
    2026-03-12
  • 一种丙烯酸树脂光刻胶组合物及其制备方法和应用
    一种丙烯酸树脂光刻胶组合物及其制备方法和应用_安徽拉瓦锡科技有限公司_202511040868.9
    本发明公开了一种丙烯酸树脂光刻胶组合物及其制备方法和应用，所述光刻胶组合物以质量份计，包括30～60份感光树脂、10～30份脂环族环氧化合物、5～20份重氮萘醌光活性化合物；其中，感光树脂包括丙烯酸酯系单体来源的重复单元、苯乙烯系单体来源的...
    2026-03-12
  • 负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案的制造方法
    负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案的制造方法_住友化学株式会社_202510690562.1
    本发明提供能够形成保存稳定性良好的抗蚀剂图案的负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案的制造方法。本发明的负型抗蚀剂组合物含有树脂(A1)、产酸剂(B)和交联剂(E)，树脂(A1)包含式(a2‑1)所示的结构单元和式(a2‑4)所示的结构单元，产酸剂(...
    2026-03-12
  • 一种高柔韧性金属厚板蚀刻用负性光刻胶及其制备方法
    一种高柔韧性金属厚板蚀刻用负性光刻胶及其制备方法_东莞市耐刻新材料有限公司_202511313947.2
    本发明公开一种高柔韧性金属厚板蚀刻用负性光刻胶及其制备方法，属于光刻胶技术领域，本发明的负性光刻胶由主体油墨和丙二醇甲醚醋酸酯混匀得到；所述主体油墨由主体树脂、滑石粉、尼龙酸二甲酯、光引发剂混匀得到；所述主体树脂由树脂中间体、丙烯酸、三苯基...
    2026-03-12
  • 一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法
    一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511392756.X
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法，旨在解决超厚膜负性光刻胶固化不完全，导致光刻胶图形形貌不佳，影响显影质量的问题。其技术方案要点是：包括如下重量比的原料：50‑80份丙烯酸树脂、3‑9份光引发剂、...
    2026-03-12
  • 一种抗反射涂层、半导体结构及其制备方法
    一种抗反射涂层、半导体结构及其制备方法_物元半导体技术(青岛)有限公司_202511519474.1
    本发明提供一种抗反射涂层、半导体结构及其制备方法，本发明的梯度交联密度的抗反射涂层包括：高交联底层，配置为与覆盖金属沉积层的疏水层接触形成交联，所述高交联底层的交联密度大于或等于90 %；低交联顶层，配置为与光阻层接触形成交联，所述低交联顶...
    2026-03-12
  • 光刻方法及光刻装置
    光刻方法及光刻装置_本源量子计算科技(合肥)股份有限公司_202410634408.8
    本发明公开了一种光刻方法及光刻装置，属于量子芯片制备技术领域。该光刻方法中，将晶圆放置于工件的凹槽槽底面，晶圆远离槽底面的表面形成有光刻胶层，并将掩膜版的掩膜图形与晶圆对准后，放置掩膜版于工件具有凹槽的第一表面，对晶圆进行光刻。上述光刻方法...
    2026-03-12
  • 光刻方法及光刻装置
    光刻方法及光刻装置_本源量子计算科技(合肥)股份有限公司_202410634410.5
    本发明公开了一种光刻方法及光刻装置，属于量子芯片制备技术领域。该光刻方法中，获得凹槽深度和基片厚度之差为目标芯片衬底厚度的基片，在凹槽的涂敷厚度小于凹槽深度的光刻胶层，并将掩膜版的掩膜图形和凹槽对准，对凹槽槽底进行光刻，得到目标芯片。上述方...
    2026-03-12
  • 量测线的生成方法、装置、设备及存储介质
    量测线的生成方法、装置、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410677406.7
    本申请公开了一种量测线的生成方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：获取掩模版图和掩模版图的曝光显影图，掩模版图包括主图形和设置在主图形附近的至少一个第一辅助图形；基于曝光显影图和掩模版图，识别第一辅助图形在曝光显影图中是否存在额外显影图形...
    2026-03-12
  • 光罩感测总成的控制界面
    光罩感测总成的控制界面_微程式资讯股份有限公司_202410697756.X
    本发明提供了一种光罩感测总成的控制界面，包含有：一光罩形感测模块与一盒体。该光罩形感测模块具有一传感器与一储存器。该传感器用以感测该主体在模拟微影制程过程中的环境信息，并据以产生一侦测讯号，并储存于该储存器中；该盒体系供该光罩形感测模块放置...
    2026-03-12
  • 气浴发生器、防污染装置及光刻设备
    气浴发生器、防污染装置及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202411984741.8
    本申请公开了一种气浴发生器、防污染装置及光刻设备，涉及光刻设备相关技术领域，用于解决现有的气浴发生器的出气气流均匀性差的问题。本申请提供的气浴发生器包括环状本体，环状本体内形成有导入流道和导出流道，环状本体的径向外侧开设有进气口，环状本体的...
    2026-03-12
  • 调节装置及调节方法
    调节装置及调节方法_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202411984863.7
    本申请提出一种调节装置及调节方法。该调节装置包括：固定框架，包括沿第一方向相对而设的第一侧部和第二侧部，以及沿第二方向相对而设的第三侧部和第四侧部；第一支撑件，连接在第三侧部和第四侧部之间，并具有沿第一方向相对而设的第一侧和第二侧，第一支撑...
    2026-03-12
  • 温度控制装置
    温度控制装置_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202510407797.5
    本申请公开了一种温度控制装置，涉及光刻设备相关技术领域，用于解决温度控制装置的中心区域对晶圆温度控制的效率低，而导致的晶圆的中心区域与边缘区域的温度均匀性较差的问题。本申请提供的温度控制装置包括安装座，具有承载面；预对准单元安装于承载面上；...
    2026-03-12
  • 基于微缩刻蚀-全息光刻融合的微缩图文加工方法及系统
    基于微缩刻蚀-全息光刻融合的微缩图文加工方法及系统_武汉瑞仕腾防伪科技有限公司_202511125551.5
    本发明属于光刻技术领域，公开了一种基于微缩刻蚀‑全息光刻融合的微缩图文加工方法，本发明提供了一种裸眼可见的光学全息效果和需要显微镜或其他特殊方法检测的微缩图文结合的技术方法，可以在具有全息微结构的镍板上植入微缩图文，将显性防伪和隐性防伪技术...
    2026-03-12
  • 全自动光刻机的高精度硅片承载结构
    全自动光刻机的高精度硅片承载结构_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511443042.7
    本发明涉及光刻机技术领域，具体公开了全自动光刻机的高精度硅片承载结构，包括安装台和一对第一直线电机；一对述第一直线电机平行设置在安装台顶面上，每个第一直线电机上均设置有至少两个承载台；安装台顶面安装有位于安装台顶部的光刻装置；光刻装置两侧对...
    2026-03-12
  • 一种用于曝光机的曝光灯智能控制方法
    一种用于曝光机的曝光灯智能控制方法_苏州汇影光学技术有限公司_202511587255.7
    本发明涉及照片表面的定位技术领域，具体涉及一种用于曝光机的曝光灯智能控制方法，包括：获取真实标记模板在标记记号图像中的理论位置区域，以及标记记号图像中的若干个候选区域，根据每个候选区域与理论位置区域的差异，从所有候选区域中筛选出若干个备选标...
    2026-03-12
  • 一种基于光刻机的自动化视觉对准方法、系统及存储介质
    一种基于光刻机的自动化视觉对准方法、系统及存储介质_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511487101.0
    本发明涉及一种基于光刻机的自动化视觉对准方法、系统及存储介质，涉及光学对准技术领域；自动化视觉对准方法，包括：根据预设的多光源视觉对焦机制对取像区域依次对焦，记录对应的全局对焦参数，并采集对应的原始单层图像；根据预设的图像清晰阈值筛选全部原...
    2026-03-12
  • 一种对准装置和掩膜版对准系统
    一种对准装置和掩膜版对准系统_上海新毅东半导体科技有限公司_202511584269.3
    本申请提供一种对准装置和掩膜版对准系统，涉及半导体技术领域，包括基板，基板上设置有反射镜组件、固定镜头组件、粗对准组件、精对准组件和相机组件，反射镜组件、固定镜头组件、粗对准组件和相机组件用于形成粗对准光路，反射镜组件、固定镜头组件、精对准...
    2026-03-12
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