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最新专利技术
  • 一种光罩盒
    一种光罩盒_绍兴昇瑞光电科技有限公司_202410828146.9
    本申请提供一种光罩盒。该光罩盒包括底座、壳体和锁扣件，底座的支撑部的四周设置可调限位件，根据不同长度和宽度的光罩调节位于相对两侧的可调限位件靠近彼此的边缘之间的距离，可以适应不同长度和宽度的光罩；壳体的容纳腔内设置高度调节件，根据不同高度的...
    2026-04-15
  • 用于脱离印模的方法和装置
    用于脱离印模的方法和装置_EV集团E·索尔纳有限责任公司_202511433768.2
    本发明涉及一种用于使印模(17)与基底(12)、尤其与主印模(12)、与压印料(11)和/或与产品脱离的方法，其中，使印模(17)沿基底(12)的方向变形，以便使印模(17)与基底(12)脱离。
    2026-04-15
  • 一种压印头控制方法及纳米压印设备
    一种压印头控制方法及纳米压印设备_普雨科技(苏州)有限公司_202511741550.3
    本申请提供了一种压印头控制方法及纳米压印设备，可以应用于半导体制备技术领域。该压印头的控制方法包括：在压印头朝向基材运动过程，控制压印头采用位移控制模式和/或速度控制模式运动，位移控制模式是指压印头移动预设距离的运动模式，速度控制模式是指压...
    2026-04-15
  • 感光性着色树脂组合物、颜料分散液、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、滤色器和图像显示装置
    感光性着色树脂组合物、颜料分散液、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、滤色器和图像显示装置_三菱化学株式会社_202511485428.4
    本发明提供感光性着色树脂组合物、颜料分散液、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、滤色器和图像显示装置。提供残膜率高的感光性着色树脂组合物。本发明的感光性着色树脂组合物的特征在于，含有(A)着色剂、(B)分散剂、(C)碱溶性树脂和(D)光聚合引...
    2026-04-15
  • 一种负性光刻胶组合物及其应用
    一种负性光刻胶组合物及其应用_西安瑞联新材料股份有限公司_202511820921.7
    本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种负性光刻胶组合物及其应用。本发明提供了一种负性光刻胶组合物，其原料中的主体成膜树脂包括双酚A型丙烯酸树脂A和双酚A型丙烯酸树脂B；所述双酚A型丙烯酸树脂A由以下反应单体经聚合反应后制得：双酚A丙烯酸酯单体、...
    2026-04-15
  • 一种彩色光刻胶用组合物
    一种彩色光刻胶用组合物_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511619519.2
    本申请提供一种彩色光刻胶用组合物，涉及光刻胶领域。彩色光刻胶用组合物包括：40‑45重量份的绿色颜料液、5‑10重量份的黄色颜料液、5‑8重量份的碱溶性树脂、2‑4重量份的光聚合单体、1‑2重量份的光引发剂、0.3‑0.5重量份的助剂、40...
    2026-04-15
  • 负型厚膜感光性树脂组成物及电镀成形体的制造方法
    负型厚膜感光性树脂组成物及电镀成形体的制造方法_奇美实业股份有限公司_202511643905.5
    本发明提供一种负型厚膜感光性树脂组成物及电镀成形体的制造方法。负型厚膜感光性树脂组成物包括含有特定结构的碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)及溶剂(D)，且负型厚膜感光性树脂组成物具有特定的黏度。借此，可改善...
    2026-04-15
  • 一种用于厚胶自动清洗的CUP
    一种用于厚胶自动清洗的CUP_苏州大族芯科技有限公司_202511580102.X
    本发明公开了一种用于厚胶自动清洗的CUP，包括上CUP和下CUP，所述下CUP内设置有上CUP，所述上CUP底端安装有导流环，所述上CUP顶端开设有环形槽，所述上CUP位于环形槽处等间距开设有多个通孔，通孔延伸至上CUP内壁，所述上CUP位...
    2026-04-15
  • 一种基于大语言模型的光源、掩模协同优化系统及方法
    一种基于大语言模型的光源、掩模协同优化系统及方法_深圳国微芯科技有限公司_202511347274.2
    本发明公开了一种基于大语言模型的光源、掩模协同优化系统及方法，所述系统包括：包括用户代理模块、控制模块、设计空间探索模块、脚本生成模块、光源优化器和掩模优化器，所述用户代理模块，用于利用大语言模型解析用户的输入的优化需求，将其转化为可执行的...
    2026-04-15
  • 一种掩模台系统及曝光设备
    一种掩模台系统及曝光设备_上海芯上微装科技股份有限公司_202511359237.3
    本发明提供了一种掩模台系统及曝光设备，掩模台系统包括掩模台本体和对准光源接合部；掩模台本体上设有沿竖直方向贯穿地延伸的通孔；对准光源接合部包括支架、接合载板和第一驱动部；支架设置在掩模台本体上；接合载板设置在支架上，并位于掩模台本体的上方，...
    2026-04-15
  • 一种UV-LED平行光曝光机
    一种UV-LED平行光曝光机_武汉艾博锐科技有限公司_202511444073.4
    本发明涉及平行光曝光机技术领域，公开了一种UV‑LED平行光曝光机，包括外壳，所述外壳的内部固定连接有挡光装置，所述挡光装置的上侧设置有第一准直透镜，所述挡光装置的下侧设置有第二准直透镜，所述第二准直透镜的下侧设置有MCPCB板，所述MCP...
    2026-04-15
  • 逻辑芯片掩模版缺陷检测方法
    逻辑芯片掩模版缺陷检测方法_中科卓芯半导体科技(苏州)有限公司_202511537263.0
    本发明公开了逻辑芯片掩模版缺陷检测方法，涉及集成电路制造技术领域，包括以下步骤：S1，构建掩模表面亚波长无机微粒的散射响应模型，在设定多角度偏振光入射条件下，模拟不同粒径无机微粒在各入射偏振态下对反射光相位的非线性扰动影响，生成包含标准相位...
    2026-04-15
  • 全息光刻方法、系统、及透射式掩模
    全息光刻方法、系统、及透射式掩模_中国科学院微电子研究所_202511780274.1
    一种全息光刻方法、系统及透射式掩模，其中方法包括：基于全息光刻方法建立成像模型，全息光刻方法包括光源的光照射到掩模，并透过掩模在晶圆表面产生空间像，从而使晶圆表面的光刻胶曝光，产生光刻胶图案，基于全息光刻方法建立成像模型包括：根据掩模版图，...
    2026-04-15
  • 一种多层线路板阻焊显影机
    一种多层线路板阻焊显影机_威健科技(惠州)有限公司_202511612949.1
    本发明公开了一种多层线路板阻焊显影机，涉及线路板加工技术领域，包括机体，定位架的内侧设置有活动支撑件，放置槽的内侧设置有换液件。本发明通过设置换液件，关闭第三电磁阀并打开第一电磁阀、第二电磁阀，此时启动第一伸缩气缸使得压板进行下移，由于导流...
    2026-04-15
  • 一种改善侧蚀的油墨固化方法及装置
    一种改善侧蚀的油墨固化方法及装置_武汉新创元半导体有限公司_202511547940.7
    本发明提供了一种改善侧蚀的油墨固化方法及装置，其中方法包括：将显影后剩余的油墨进行热固化处理；对热固化后的油墨进行光固化处理。该方法显著改善了显影后油墨在固化过程中的侧蚀现象。
    2026-04-15
  • 用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法
    用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511832724.7
    本申请公开了一种用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法。其中，该用于监控掩模版三维效应的对准标记包括：至少一个标识单元；其中，所述标识单元包括多组标识棒对；所述多组标识棒对沿其对应的标识单元的扫描轴间隔排列，相邻组的标识棒对之间沿所述扫描轴...
    2026-04-15
  • 图像形成装置、记录介质的信息处理方法以及程序产品
    图像形成装置、记录介质的信息处理方法以及程序产品_柯尼卡美能达株式会社_202511560960.8
    本发明提供能够有助于卡纸等不良情况的原因确定的图像形成装置、记录介质的信息处理方法以及程序产品。具备：接受单元(100b)，接受用户对记录介质的种类的设定；检测单元(91、92)，检测记录介质的种类判别用参数；判别单元(100a)，基于检测...
    2026-04-15
  • 一种以全息作为表征媒介的光场显示方法及系统
    一种以全息作为表征媒介的光场显示方法及系统_鹏城实验室_202511259000.8
    本发明公开了一种以全息作为表征媒介的光场显示方法及系统，该光场显示方法包括以下步骤：S1：采集目标场景的多视角图像，并对所述多视角图像进行编码处理，生成包含空间和角度信息的光场张量；S2：将步骤S1中的所述光场张量映射为二维空间相位图；S3...
    2026-04-15
  • 图像投影仪
    图像投影仪_恩维世科斯有限公司_202511566550.4
    提供了一种用于具有窗户的车辆的平视显示器。平视显示器包括图片生成单元(410)和光学系统(420)。图片生成单元布置为输出图片。光学系统布置成接收由图片生成单元输出的图片，并将图片投影到车辆的窗户(430)上，以在虚拟图像区域(605)内形...
    2026-04-15
  • 一种基于OAPM的二次相位畸变补偿数字全息显微系统
    一种基于OAPM的二次相位畸变补偿数字全息显微系统_吉林省相位光学科技有限公司_202411684454.5
    本发明公开了一种基于OAPM的二次相位畸变补偿数字全息显微系统，包括激光器，所述激光器的右侧设置有准直扩束系统，所述准直扩束系统的右侧设置有二分之一玻片，所述二分之一玻片的右侧设置有偏振分光棱镜本体，所述偏振分光棱镜本体的右侧设置有离轴刨面...
    2026-04-15
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