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  • 本发明提供一种生物基水性聚氨酯防腐涂料底漆及其制备方法,底漆由水性助剂和固化剂组成;所述水性助剂包括以下质量份的组分:38‑52份自乳化型水性植物油基聚氨酯分散体、1‑8份纳米氧化锌、3‑8份磷酸锌、15‑25份防锈颜料、0.5‑2份水性润...
  • 本发明公开了一种VR镜片表面抗静电涂层及其制备方法,属于功能性涂层技术领域。所述涂层由UV固化树脂、活性稀释剂、光引发剂、掺杂导电颗粒及流平剂组成;制备方法包括:掺杂导电颗粒的制备、抗静电涂料制备、抗静电涂层的涂覆与固化。本发明为解决现有涂...
  • 本发明公开了一种具备制冷和放热双功能的超疏水涂料及其制备方法。所述制冷和放热双功能通过原位聚合法制备一种可逆热致变色微胶囊实现。本发明具体包括:首先,通过原位聚合法制备一种可逆热致变色微胶囊;其次,将可逆热致变色微胶囊和超疏水技术结合,通过...
  • 本申请提供一种涂层组合物,按质量份数计,所述涂层组合物包括50‑70份的液体异构烷烃、5‑25份的MQ硅树脂、5‑20份的二甲基硅油和1‑10份的气相二氧化硅,所述二甲基硅油的25℃粘度为3000‑100000cst,所述二甲基硅油:所述M...
  • 本发明公开了一种可规模化制备的仿生固液双润滑防冰防腐蚀涂层的制备方法,属于功能涂层领域,包括如下步骤:S1 : 将5‑20份润滑油和3‑20份相变材料混合,在30~90 ºC下搅拌10~20min,得到混合液A;S2 : 将0.5‑8份填料...
  • 本发明涉及涂料领域,公开了一种高色度耐腐蚀黄色涂料及其制备方法。该涂料包括按重量份计的下列组分:50~60重量份的水性环氧改性有机硅树脂、25~35重量份的改性钒酸铋、1~2重量份的纳米纤维素、0.3~0.8重量份的分散剂、0.2~0.5重...
  • 本申请提供一种减阻涂层及其制备方法、减阻器件和应用,减阻涂层包括三维多孔骨架和润滑流体,三维多孔骨架包括多个纳米纤丝和多个孔结构,纳米纤丝的材质为碳材料,润滑流体包覆于至少部分的纳米纤丝表面和浸润于至少部分的孔结构内。本申请中的减阻涂层中三...
  • 本发明属于绝缘材料技术领域,涉及一种双组分无溶剂型有机硅树脂绝缘漆及其制备方法、使用方法和应用,所述双组分无溶剂型有机硅树脂绝缘漆包括A组分和B组分,所述A组分包括MQ乙烯基硅树脂、其他乙烯基硅树脂、含苯基硅树脂、增韧剂、偶联剂、催化剂和抑...
  • 一种离型涂剂组合物、离型膜及其应用,属于离型膜技术领域。该离型涂剂组合物包括占离型涂剂组合物总质量0.01~5wt%的吸水无机粉体和0.01~2wt%的烷基硅油,所述烷基硅油的分子量为160~3000。本发明技术方案形成的离型膜的离型层兼具...
  • 本发明属于OSB板材防护涂层技术领域,公开了一种OSB板材的防潮抗菌涂层及其制备方法。该涂层由改性聚硅氧烷基体、茶多酚改性硅藻土、烷基季铵盐改性蒙脱土、成膜助剂、分散剂、消泡剂和去离子水组成。制备过程依次经预乳化预处理、超声‑搅拌交替分散、...
  • 本申请提供一种用于抛光碳化硅基材的化学机械抛光组合物及其抛光方法。其中,化学机械抛光组合物包括氧化硅磨粒、第一盐、第二盐、催化剂和氧化剂,所述第一盐包括硫盐。通过使用上述化学机械抛光组合物对碳化硅基材进行抛光,可以保持化学机械抛光组合物内的...
  • 本申请提供一种用于抛光氧化硅衬底的化学机械抛光组合物及其抛光方法,涉及化学机械抛光技术领域。该化学机械抛光组合物包括磨。其中,所述磨粒包括第一磨粒和第二磨粒,其中所述第一磨粒为切角八面体氧化铈磨粒,所述第二磨粒为氧化锆磨粒。第一磨粒和第二磨...
  • 本申请提供一种用于抛光碳化硅基材的化学机械抛光组合物及其抛光方法。该化学机械抛光组合物中包括氧化铈磨粒、氧化剂和氧化剂再生剂。其中,氧化剂,包括高锰酸盐,在氧化反应过程中所述高锰酸盐被还原为Mn2+离子;以及氧化剂再生剂,包括铋酸盐,将所述...
  • 本申请提供一种用于抛光氧化硅衬底的化学机械抛光组合物及其抛光方法,涉及化学机械抛光技术领域。该化学机械抛光组合物包括第一磨粒和第二磨粒。其中,第一磨粒为针状氧化铈磨粒;第二磨粒,为氧化铈磨粒,且不同于所述第一磨粒。第一磨粒和第二磨粒配合使得...
  • 本申请提供一种用于抛光单晶硅衬底的化学机械抛光组合物及抛光方法。其中,该组合物中包括:第一氧化硅磨粒,包括胶体二氧化硅磨粒,且为球形,具有10‑150nm的平均粒径;第二氧化硅磨粒,包括气相二氧化硅磨粒,且为不规则形状,具有50‑300nm...
  • 本发明公开了一种用于硅晶圆最终抛光的化学机械精抛液及其应用。所述精抛液包含高纯磨料、纤维素类聚合物、反式嵌段聚醚类速率抑制剂和烷基糖苷类非离子表面活性剂。通过三者的协同作用,并控制速率抑制剂与表面活性剂的浓度比(以抛光液总质量为基准的ppm...
  • 本发明涉及研磨液技术领域,具体为一种含石墨烯纳米片的晶圆抛光液及其制备工艺,其由如下重量份原料组成:磨料基体;石墨烯改性磨料;氧化剂;络合剂;金属腐蚀抑制剂;pH调节剂;分散稳定剂;界面改性剂;缺陷修复剂;缓蚀增效剂;润湿性调节剂;抗团聚剂...
  • 本发明涉及一种基于核壳结构功能化磨料的SiC高效抛光液,其以质量百分比计,所述SiC高效抛光液的各原料组成为:核壳结构功能化磨料1‑10%,高锰酸钾1‑5%,分散剂0.01‑5%,缓冲剂0.01‑5%,余量为去离子水;SiC高效抛光液的pH...
  • 本发明属于半导体抛光处理技术领域,提供了一种BC光伏电池用湿法抛光辅助剂及其制备方法。该辅助剂由季铵壳聚糖溶液、壳聚糖印迹凝胶分散体、甜菜碱壳聚糖印迹凝胶分散体、硅烷膦酸聚羧酸母液、聚丙烯酸溶液、硫酸盐类无机电解质与去离子水组成;制备时先对...
  • 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开了一种解决BC电池前粗抛工艺中白斑问题的抛光添加剂及使用方法,按重量百分比计,包括以下组分:促进剂:1.0‑10.0%,脱泡剂:0.1‑5%,pH调节剂:0.1‑0.5%,表面活性剂:0.01‑0.1%...
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