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最新专利技术
  • 带有柔性旋转引导件并设置有保持器件的钟表谐振器机构
    带有柔性旋转引导件并设置有保持器件的钟表谐振器机构_斯沃奇集团研究及开发有限公司_202510445921.7
    本发明涉及一种钟表谐振器机构， 其包括结构和锚固单元， 至少一个惯性元件悬挂至该锚固单元， 所述至少一个惯性元件布置为以第一旋转自由度RZ绕沿第一方向Z延伸的枢转轴线摆动， 所述惯性元件经受由形成虚拟枢轴的柔性引导件施加的复位力， 所述锚固...
    2025-12-25
  • 机械钟表机芯
    机械钟表机芯_斯沃奇集团研究及开发有限公司_202510453709.5
    根据本发明的钟表机芯包括：控制柄轴(3)， 控制柄轴(3)能够通过沿轴向方向拉动柄轴而移动；谐振器(4)， 谐振器(4)包括安装在柔性叶片上的旋转摆轮(10)；以及用于停止摆轮的摆动的机构。该机构包括杆(23)和辅助杆， 杆(23)连接到柄...
    2025-12-25
  • 使用单相干光源的具有可变虚像距离的全彩全息投影仪
    使用单相干光源的具有可变虚像距离的全彩全息投影仪_通用汽车环球科技运作有限责任公司_202410663468.2
    本文公开了一种产品， 该产品可以包括光源、处于该光源下游的波长转换结构、处于该波长转换结构下游的空间滤波器、以及处于该空间滤波器下游的空间光调制器。本文还公开了一种方法， 该方法可以包括：将来自光源的第一光发送通过波长转换结构以将该第一光下...
    2025-12-25
  • 全息光学元件曝光装置、系统及方法
    全息光学元件曝光装置、系统及方法_青岛海信激光显示股份有限公司_202410447742.2
    本申请提供实施例属于车载抬头显示技术， 提供一种全息光学元件曝光装置、系统及方法， 该装置包括曝光模块和反馈模块；曝光模块包括激光器和曝光光路， 曝光光路接收控制设备发送的相位；对激光器出射的激光进行分束， 获取物光和参考光；物光包括第一物...
    2025-12-25
  • 一种基于色散调控的扭转超表面频率可重构全息方法和装置
    一种基于色散调控的扭转超表面频率可重构全息方法和装置_哈尔滨工业大学_202511225727.4
    本发明提出了一种基于色散调控的扭转超表面频率可重构全息方法和装置， 属于光学成像领域。解决了现有的机械旋转式级联超表面主要在单一固定频率下工作， 缺乏跨光谱的功能切换能力的问题。方法包括：构建级联的双层超表面系统， 包括辐射型超表面和纯相位...
    2025-12-25
  • 基于频分复用技术的时间超分辨数字全息测量系统及方法
    基于频分复用技术的时间超分辨数字全息测量系统及方法_哈尔滨工程大学_202510959428.7
    本发明公开了一种基于频分复用的时间超分辨数字全息测量系统及方法， 系统包括光源、准直扩束系统、分光棱镜、数字微镜装置(DMD)、三个4f透镜系统、光阑、反射镜及相机。首先将DMD作为二维动态光栅与相机硬件同步， 在其单次曝光周期内动态加载二...
    2025-12-25
  • 显影辊、处理盒和电子照相图像形成设备
    显影辊、处理盒和电子照相图像形成设备_佳能株式会社_202510433911.1
    本发明涉及显影辊、处理盒和电子照相图像形成设备。显影辊包括：包括具有导电性的表面的基体和在基体表面上的导电层， 显影辊的外表面至少由第一区域和导电性高于第一区域的第二区域构成， 第一区域和第二区域彼此相邻地配置， 第一区域包含至少一种聚碳酸...
    2025-12-25
  • 打印装置
    打印装置_武汉华星光电技术有限公司_202511099846.X
    本申请实施例提供一种打印装置。打印装置包括光源组件及感光鼓。光源组件包括调光面板以及背光源。调光面板位于背光源的出光侧且具有多个调光区。背光源被配置为发出背光至调光面板的内部。调光面板被配置为基于图像数据控制背光在各调光区的透过率， 以形成...
    2025-12-25
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202510990684.2
    本公开提供了一种感光构件单元， 成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分， 感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二单元侧斜齿轮部分， 第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转...
    2025-12-25
  • 图像形成装置和信息处理设备
    图像形成装置和信息处理设备_佳能株式会社_202510428807.3
    公开了图像形成装置和信息处理设备。一种图像形成装置包括：选择器， 被配置为选择用于在第一记录材料上形成图像的第一模式， 第一记录材料包括闭合的第一边、闭合的第二边、打开的第三边和打开的第四边；托盘， 第一记录材料要被放置在该托盘上；图像形成...
    2025-12-25
  • 图像形成装置和信息处理设备
    图像形成装置和信息处理设备_佳能株式会社_202510428746.0
    本公开涉及图像形成装置和信息处理设备。图像形成装置包括：选择部件， 所述选择部件被配置为选择用于在第一记录材料上形成图像的第一模式， 所述第一记录材料包括闭合的第一边、闭合的第二边、打开的第三边、以及打开的第四边；放置部分， 所述第一记录材...
    2025-12-25
  • 一种高分辨率碳粉的制备方法
    一种高分辨率碳粉的制备方法_珠海泽鹏打印耗材有限公司_202511171561.2
    本发明通过复合颜料配比、核壳结构设计、导电聚合物包覆、未交联三氟乙基甲基丙烯酸酯聚合物包覆及三级二氧化硅修饰， 协同解决了碳粉电荷稳定性、抗擦除性、耐候性与流动性的矛盾， 降低了雾化度， 提高了碳粉分辨率。
    2025-12-25
  • 基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质
    基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质_东京毅力科创株式会社_202510417084.7
    本发明提供能够得到含金属抗蚀剂的良好的图案的基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质。基片处理方法包括对形成有含金属抗蚀剂的覆膜且实施了曝光处理和上述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的步骤， 上述显影的步骤包括一边对上述基片进行加热一边...
    2025-12-25
  • 基于光刻胶胶厚测量的曝光剂量自适应调整光刻方法
    基于光刻胶胶厚测量的曝光剂量自适应调整光刻方法_合肥清溢光电有限公司_202511274619.6
    本发明涉及半导体光刻， 具体涉及基于光刻胶胶厚测量的曝光剂量自适应调整光刻方法， 在光刻机上加装胶厚测量装置， 将掩膜版原材放入光刻机， 并对胶厚测量装置的入射光位置进行调节；通过胶厚测量装置对掩膜版原材上的光刻区域进行胶厚测量；根据胶厚测...
    2025-12-25
  • 用于确定光刻设备的控制数据的方法和设备
    用于确定光刻设备的控制数据的方法和设备_ASML荷兰有限公司_202511239225.7
    一种用于确定输入的方法， 该输入被输入至透镜模型， 以在对衬底的多个场中的至少一个场进行寻址时， 确定针对光刻设备的透镜的操纵的设定值， 所述方法包括：接收针对至少一个场的参数数据， 该参数数据与衬底的在至少一个场内的一个或多个参数有关， ...
    2025-12-25
  • 一种不规则晶圆的背面套刻方法
    一种不规则晶圆的背面套刻方法_武汉光谷量子技术有限公司_202511176743.9
    本申请涉及一种不规则晶圆的背面套刻方法， 其包括以下步骤：使用划片机在完成正面工艺制作且背面减薄后的不规则晶圆上切割出具有特定形状的定位边；对不规则晶圆的定位边进行成像并提取关键特征点和轮廓信息；在不规则晶圆的背面涂布光刻胶；将不规则晶圆放...
    2025-12-25
  • 用于目标图案的基于规则的重靶向的方法
    用于目标图案的基于规则的重靶向的方法_ASML荷兰有限公司_202511118245.9
    本文描述一种用于产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法。该方法包括：获得(i)包括至少一个特征的目标图案， 该至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状；以及(ii)多个偏差规则， 该多个偏差规则被定义为第一维度、第二维度...
    2025-12-25
  • 一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法
    一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202511042766.0
    一种反射式双光束干涉曝光系统兼顾刻线密度和像差的装调方法， 包括：构建刻线密度标准模块， 生成用于调整曝光系统刻线密度的标准参考光束；搭建反射式双光束干涉曝光系统， 分别以±1级标准参考光束经离轴抛物面反射镜聚焦后的点， 作为双光束光路中各...
    2025-12-25
  • 一种红外低反射硫化锌人工微结构激光直写方法
    一种红外低反射硫化锌人工微结构激光直写方法_上海大学_202510958972.X
    本发明公开了一种红外低反射硫化锌人工微结构激光直写方法， 涉及红外光学表面技术领域。对比在表面蒸镀硫化锌薄膜的方法， 直接在具有稳定性质的硫化锌表面制备高反射结构的方法在极端环境下更为可靠， 制备步骤如下：(1)利用飞秒激光直写技术， 对硫...
    2025-12-25
  • 照射源和相关的量测设备
    照射源和相关的量测设备_ASML荷兰有限公司_202510915505.9
    公开了一种照射源， 其包括具有气体喷嘴的气体递送系统。气体喷嘴包括在气体喷嘴的出口平面中的开口。所述气体递送系统被配置成从所述开口提供气流以用于在相互作用区域处产生所发射的辐射。该照射源被配置成接收具有传播方向的泵浦辐射并且在气流中提供该泵...
    2025-12-25
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