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  • 本发明涉及一种感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器。感光性着色树脂组成物包含着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光起始剂(D)及溶剂(E)。感光性着色树脂组成物中的镍含量范围为1ppm至100ppm,...
  • 本发明公开了一种感光型绝缘组合物、制备方法及其应用。该感光型绝缘组合物包含高分子树脂、固化组分、填料及溶剂;其中,高分子树脂包括感光树脂、结构树脂、增韧树脂和阻镀树脂,该感光树脂包含具有碱溶性基团和光聚合性不饱和双键的聚合物;该结构树脂包含...
  • 本发明属于液晶显示领域,具体涉及一种红色光刻胶用颜料及其制备和应用。包含红色有机颜料和分散剂;其中红色有机颜料为P.R.149,P.R.177,P.R.179,P.R.242,P.R.244,P.R.254,P.R.264,P.R.291中...
  • 本申请涉及极紫外光刻胶技术领域,具体公开了一种基于三元嵌段共聚物的极紫外光刻胶及其制备方法和应用。一种基于三元嵌段共聚物的极紫外光刻胶,其包括如下原料:成膜树脂、光致产酸剂、交联剂、流平剂、抗氧剂、混合溶剂;成膜树脂为环氧乙烷‑四氢呋喃‑γ...
  • 本申请公开了一种全息材料、体全息光栅的制备方法、体全息光栅、体全息光波导及全息设备,该制备方法包括:提供全息材料,所述全息材料是上述所述的全息材料;将所述全息材料均匀分布在基板的表面;利用光束对均匀分布有所述全息材料的基板的表面进行照射,使...
  • 本发明公开了一种压印校正系统及方法,包含有一压印设备、一量测单元、一演算单元、三高度调整装置及一控制单元,该压印设备包含相对的一载板与一模板,该载板供承载一压合物,该压合物包含一基板及涂布于基板表面的一高分子材料层,该模板可移动地设置于载板...
  • 本申请涉及一种超表面结构的制备方法,属于制备工艺技术领域,包括如下步骤:提供干净的衬底;在衬底上生长非晶硅薄膜;在非晶硅薄膜上生长金属层,并放入等离子清洗机进行plasma处理;进行HMDS预处理;进行涂胶工艺;进行曝光和显影工艺;进行Cr...
  • 本申请公开了一种类光刻的飞秒激光图案化钙钛矿量子点的方法,其包括以下步骤:形成CsPb(I/Br)3量子点溶液;旋涂CsPb(I/Br)3量子点溶液于玻璃基片上,形成钙钛矿量子点薄膜;使用飞秒激光图案化钙钛矿量子点薄膜;冲洗并浸泡钙钛矿量子...
  • 本文中描述了用于确定目标轮廓的圆化轮廓、或用于掩模设计的其它的光刻有关轮廓的方法和系统。所述方法包括将轮廓表示转换成(i)在第一维度(例如,x)中的第一组轮廓点位置和(ii)在第二维度(例如,y)中的第二组轮廓点位置。基于所述第一组轮廓点位...
  • 本发明提供一种掩模标记及生成方法、光刻方法、套刻误差的测量方法。其中,所述掩模标记中的第一图案可用于实现不同掩模板之间的位置对准,以避免放置误差影响套刻误差的检测精准度,避免系统性套刻误差。且通过获取不同掩模板中相同位置处的所述第一图案之间...
  • 本发明提供了一种辅助图形添加方法、系统及版图,属于半导体领域。该辅助图形添加方法包括提供一版图,将所述版图划分成若干区域,在所述第一辅助图形远离所述主图形的一侧添加第二辅助图形,调整所述第二辅助图形的参数至所述目标区域的图形密度在目标阈值范...
  • 本发明公开了一种掩膜板及显示面板功能层图案化的方法,包括:电控调光层,电控调光层被配置为响应于输入的电压信号,改变其透光区域的位置以及透光区域的大小;光能加强层,光能加强层设于电控调光层的出光侧,用于增强透光区域透射的光线强度。采用该掩膜板...
  • 本申请涉及车辆投影技术领域,特别是涉及车辆投影幕布装置、控制方法及其车辆。一种车辆投影幕布装置,包括盒体、卷管、幕布以及离合器,卷管安装于盒体内,幕布卷收于卷管;离合器包括制动盘、底座、摩擦盘、弹性件以及电磁体,制动盘固定于卷管,底座安装于...
  • 本发明涉及激光光源系统领域,具体为一种高效率聚光的镭射光源系统,包括两组相对的激光光源,所述激光光源用于输出光线,准直透镜,所述准直透镜共设有四组,每组准直透镜均设置在激光光源的光线输出端,准直透镜用于对光线进行导向。本发明能大幅提高激光光...
  • 本发明公开了一种成像稳定的相机散热舱,包括:相机核心区恒温密封内舱(8),设置在复合式热防护外罩(1)内部;光学成像模组(9),设置在相机核心区恒温密封内舱(8)内;辅助光源,设置在辅助光源热屏蔽舱(5)内;复合式热防护外罩(1)上设置有外...
  • 本申请提供一种闪光灯装置、电子设备以及电子设备的控制方法,该闪光灯装置包括:壳体,壳体具有出光口;发光单元,设置于壳体内,用于发出光线;菲涅尔透镜,设置于壳体内,位于发光单元的出光路径上;驱动单元,设置于壳体内,以及与发光单元连接,用于驱动...
  • 本发明公开了一种利用平面光源的照明强度均匀的成像系统,属于光学仪器技术领域。该系统包括平面光源,其发光面具有分布均匀的光强;照明镜头,其与平面光源的发光面平行布置,用于将平面光源的发光面进行成像;图像传感器;成像镜头,其与图像传感器的感光面...
  • 本申请公开了一种成像装置,包括镜头、反光单元和光电转换单元,入射光经镜头传播至光电转换单元,反光单元位于入射光的传播路径上,其中,光电转换单元包括R滤光单元,沿入射光的传播方向,反光单元与R滤光单元相对设置。R滤光单元允许透过的光的波段为M...
  • 本发明涉及摄像设备技术领域,公开了一种快门遮光叶片承接结构及快门装置,承接结构包括承接座、承接盖板、摆轴及遮光叶片;承接座设匚形座与中心块形成套入槽,中心块通过C形腔与摆轴一端转动连接;承接盖板设匚形框与盖体,盖体与摆轴另一端转动连接,二者...
  • 本发明涉及一种SMA驱动的可变光圈及电子设备,该可变光圈包括上框架、底座、转盘和多个叶片,转盘可转动地设置于上框架与底座之间,叶片组成光圈孔;其创新在于采用第一SMA线和第二SMA线驱动,两线两端固定于上框架,中段绕设于转盘上的滑动柱;关键...
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