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  • 本发明涉及一种用于生成超连续谱的系统(16)。该系统(16)包括频率梳发生器(15)和耦合到频率梳发生器(15)的波导结构(9)。该波导结构(9)包括不同的部分:具有指定的第一横截面外部尺寸(8、8a、8b)的非锥形输入部分(1),通向具有...
  • 本发明涉及光学技术领域,提供了一种偏置可调的纠缠源产生装置,包括:第一压缩光生成模块生成第一压缩光后经过第一可调光学损耗器调节损耗a,第二压缩光生成模块生成第二压缩光后经过第二可调光学损耗器调节损耗b, 调节损耗a后的第一压缩光和调节损耗b...
  • 本发明公开一种反射型四光子纠缠源,包括光源组件,产生泵浦光,并聚焦后发出第一聚焦光束;转换组件,包括转换晶体以及凹面反射镜,凹面反射镜用于使透过转换晶体的光束进行聚焦并反射出第二聚焦光束;所述转换晶体用于接收第一聚焦光束后产生两组第一参量光...
  • 本发明提供了一种硅基光控非线性激活单元、方法及光子神经网络,涉及硅基光子技术领域,包括光电探测器、电光强度调制器和偏置/接口电路,控制信号光经光电探测器转化为驱动电信号,直驱硅基PIN相位调制臂,对独立数据信号光进行强度域非线性调制。电光强...
  • 本申请提供一种驱动马达、摄像头模组和电子设备,涉及电子设备技术领域,能够保证摄像头模组的拍摄质量。该驱动马达包括第一载体、第二载体、滚珠和驱动组件,第一载体用于安装光学镜头。第一载体与第二载体中的至少一个上具有滑槽,滑槽的开口朝向第一载体与...
  • 本发明公开了一种新闻视频拍摄反光板,包括反光板,反光板为弹性板,且反光角度可调节设置,反光板周向侧壁设有一圈弹性包边,还公开了支撑调节组件,包括旋转驱动机构,用于调节反光板的角度;还公开了一种支撑调节组件的使用方法,通过调节支撑调节组件,来...
  • 本发明公开一种摄影手柄及摄影套件,该摄影手柄包括:握持件,握持件设有容置腔;轴盘组件,包括转轴和孔盘,转轴的一端用于连接摄影器材,转轴的另一端与孔盘连接,孔盘位于容置腔内,孔盘设有多个沿其周向布置的锁孔;锁合件,可活动地设置于容置腔内,锁合...
  • 本发明提供的光学引擎及使用该光学引擎的投影装置,该光学引擎包括壳体、合光棱镜以及挡光件,其中,该挡光件安装于该壳体,并位于该合光棱镜的杂散光的出光路径上。其中,该挡光件用于阻挡该杂散光照射至该壳体;该挡光件具有第一开口,该第一开口对应于该壳...
  • 本发明提供了一种基于调光膜的图案可变投影灯及车辆,属于投影设备技术领域,包括电路板与投影模组,投影模组包括沿光轴方向依次设置的光源、照明透镜组、调光菲林片和成像透镜组,光源设在电路板上,光源的光线通过照明透镜组后照射在调光菲林片上形成光斑;...
  • 本发明公开了一种投影机器人投影画面调节系统,包括有用于放置在支撑体上的机器人,所述的机器人包括有机壳,所述的机壳上设有用于将画面向前方投影到被投射体上的投影装置,所述的机壳底部设有能够使其水平移动以及水平转动的驱动机构,所述的机壳前部至少设...
  • 本发明公开一种投影幕布装置,包括盒体、收卷机构、幕布及支撑机构;收卷机构设置在盒体内;幕布的一端与收卷机构连接;支撑机构包括连接板、驱动组件及两个支撑链条;连接板与幕布的另一端连接;驱动组件设置在盒体内;两个支撑链条的一端均位于盒体内,两个...
  • 本发明属于投影显示领域,公开了一种投影屏幕及投影系统,投影屏幕包含:成像层、反射微结构层和复合反射层;所述反射微结构层位于所述成像层的一侧;所述复合反射层位于所述反射微结构层上远离所述成像层的一侧;所述复合反射层由金属薄膜和空气孔隙组成,所...
  • 本发明提供一种多维全息影像展示平台,包括数字化展示平台和支撑架,所述支撑架位于所述数字化展示平台的顶部,所述支撑架的四个侧面中部均安装有透明玻璃。本发明具有如下的有益效果,本发明在装置使用时可以驱动保护壳上升和回形板下降,同时,将竖直遮挡在...
  • 本发明公开了一种基于隐式扩散模型的SRAF图形生成方法及系统,所述方法包括:采集训练样本数据,所述训练样本数据包括目标布局的图形、目标布局的SRAF图形和目标布局的光刻仿真强度图,其中,目标布局的SRAF图形采用矩形表示,并采用中心点坐标(...
  • 本发明公开一种用于光学邻近修正的图案与光掩模图案的设计方法。所述用于光学邻近修正的图案包括主体部与T型部。所述主体部具有至少一个直角角落,其中所述直角角落由第一侧边与第二侧边构成。所述T型部包括头部与延伸部,其中所述延伸部与所述直角角落连接...
  • 本公开提供一种掩模版图的掩模工艺校正方法及芯片,涉及集成电路制造技术领域,方法包括:对掩模设计版图进行网格化处理,得到第一网格图;获取第一网格图中掩模设计版图的图形边缘对应的第一边缘网格,组成第一图形边缘轮廓线;获取以掩模设计版图为掩模图形...
  • 本申请提供一种监测光罩返厂清洗异常的方法及相移掩模版版图,其中,在监测光罩返厂清洗异常的方法中,利用二元强度掩模(BIM)图形和相移掩模(PSM)图形材质耐清洗强度的差异,在相移掩模版上设计一组BIM图形和一组PSM图形,以耐清洗的BIM图...
  • 本发明公开了一种掩模版缺陷检测系统,涉及掩模版缺陷检测技术领域,包括用于放置待检测掩模版的载物台,还包括自动对焦模块、激光扫描模块、信号收集及成像模块以及信号处理模块;自动对焦模块包括第一光源、第一接收器、第一透镜组、第一机械外壳、第一信号...
  • 本发明公开了一种基于角分辨散射仪的套刻误差测量系统和方法,包括计算机控制和处理系统、光源与待测样品,所述光源的轴线与待测样品轴线垂直设置,沿所述光源照射方向依次设置有准直透镜、偏振片、一号光阑、一号中继透镜组和一号分光棱镜,一号光阑放置于显...
  • 本发明提供一种晶圆曝光排版方法,首先针对晶圆规划多个直线曝光路径,每一直线曝光路径包括沿直线并排的多个矩形曝光场区域,且任一矩形曝光场区域部分重叠相邻的另一矩形曝光场区域;接着提供由多个完整正六边形单元构成的蜂巢状结构的光罩,再利用光罩沿着...
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