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最新专利技术
  • 调光膜制作方法及调光膜
    调光膜制作方法及调光膜_福耀玻璃工业集团股份有限公司_202511294943.4
    本发明提供一种调光膜制作方法及调光膜，该调光膜制作方法至少由第一基材和第二基材贴合成型调光膜，第一基材至少具有第一导电层；第二基材至少具有顺序且层叠设置的第二导电层、调光功能层和胶层；调光膜制作方法包括：切割第一基材，并在第一导电层上形成第...
    2026-02-14
  • 一种中红外调控性能增强全固态电致变色器件及其制备方法
    一种中红外调控性能增强全固态电致变色器件及其制备方法_中国科学院上海硅酸盐研究所_202511190228.6
    本发明涉及一种中红外调控性能增强全固态电致变色器件及其制备方法。所述中红外调控性能增强全固态电致变色器件的结构包括：依次层叠设置的透明衬底、第一透明电极、电解质层、电子阻挡层、微纳加工的电致变色层、第二透明电极和表面高透衬底。
    2026-02-14
  • 三嗪类衍生物共聚聚苯胺基反射型电致变色器件及制备方法
    三嗪类衍生物共聚聚苯胺基反射型电致变色器件及制备方法_电子科技大学_202511078650.2
    一种基于三嗪类衍生物共聚聚苯胺基反射型电致变色器件及制备方法，属于对抗红外探测领域。所述反射型电致变色器件包括依次设置的可见光‑热红外透明封装薄膜、可见光/热红外电致变色工作电极、电解质层、对电极和可见光‑热红外透明封装薄膜；可见光/热红外...
    2026-02-14
  • 车窗电致变色系统、车辆及车辆控制方法
    车窗电致变色系统、车辆及车辆控制方法_奇瑞汽车股份有限公司_202511239123.5
    本申请提供了车窗电致变色系统，属于汽车智能电子领域领域，车窗电致变色系统中的供电模块和控制模块均被直接集成安装在电致变色膜上，供电模块被配置为为控制模块和电致变色膜供电，控制模块用于控制电致变色膜的输入电流和/或电压，从而改变电致变色膜的透...
    2026-02-14
  • 电子纸显示器及控制方法
    电子纸显示器及控制方法_昆山龙腾光电股份有限公司_202511368490.5
    本发明公开了一种电子纸显示器及控制方法，电子纸显示器包括对置基板、阵列基板以及墨水胶囊，墨水胶囊包括黑色墨水粒子、白色墨水粒子以及胶囊壳，胶囊壳包括采用透明绝缘导热材料制成的导热层，阵列基板设有像素电极，对置基板设有公共电极；对置基板和/或...
    2026-02-14
  • 高阻层型液晶透镜驱动系统及方法
    高阻层型液晶透镜驱动系统及方法_广东工业大学_202511216972.9
    本申请实施例涉及液晶透镜领域，并提供了一种高阻层型液晶透镜驱动系统及方法，系统包括信号发生模块、信号放大模块和多路复用模块，信号发生模块用于根据直接数字频率合成芯片生成源信号，源信号为高频交流方波信号，信号放大模块用于将输入的源信号转换为放...
    2026-02-14
  • 全共线偏振纠缠光源系统
    全共线偏振纠缠光源系统_杭州九州量子信息科技有限公司_202511302188.X
    本申请涉及一种全共线偏振纠缠光源系统，通过采用光束位移器将泵浦光分裂及合束，实现了所有光学元件沿单一光轴的共线式串联布局，其结构无需非共线角度的精密对准，从而简化了系统的装配与调试流程，降低了对机械振动的敏感性，增强了系统的长期运行稳定性。...
    2026-02-14
  • 基于改进衍射结构的片上光学半减器运算单元
    基于改进衍射结构的片上光学半减器运算单元_东南大学_202511058952.3
    本发明公开了一种基于改进衍射结构的片上光学半减器运算单元，属于光学计算单元领域。该运算单元包括衬底和设置在衬底上的光波导结构，光波导结构由与光信号输入端连接的弯曲输入通道、含有两个衍射层的多模衍射区以及与光信号输出端连接的输出通道依次串接而...
    2026-02-14
  • 一种基于λ-Ti3O5双稳态相变的太赫兹超材料调制器
    一种基于λ-Ti3O5双稳态相变的太赫兹超材料调制器_四川大学_202410588799.4
    本发明涉及一种基于λ‑Ti3O5双稳态相变的太赫兹超材料调制器，该调制器包括：硅衬底层(1)；半导体相的β‑Ti3O5层(2)，生长在硅衬底层(1)表面；金属相的λ‑Ti3O5条带(3)，嵌套在半导体相的β‑Ti3O5层(2)内部；金属条带...
    2026-02-14
  • 带抖动修正功能的光学单元
    带抖动修正功能的光学单元_尼得科仪器株式会社_202510610053.3
    光学单元(100)(带抖动修正功能的光学单元)具备：可动体(3)；固定体(4)；将可动体支撑为能相对于固定体摆动的万向机构(5)；产生使可动体绕第一轴线(N1)摆动的磁力的第一磁驱动机构(6)；以及产生使可动体绕第二轴线(N2)摆动的磁力的...
    2026-02-14
  • 镜头镜筒
    镜头镜筒_株式会社尼康_202511262990.0
    本发明提供一种镜头镜筒。镜头镜筒具备：多个光圈叶片；驱动部，用于驱动所述多个光圈叶片；第一开口构件，保持所述驱动部；第二开口构件，包括多个相对部，该多个相对部在光轴方向上与所述第一开口构件相对；及多个缓冲构件，分别配置在所述第一开口构件与所...
    2026-02-14
  • 一种微型尖锥式开合帘幕无扰成像装置
    一种微型尖锥式开合帘幕无扰成像装置_南京邮电大学_202511469166.2
    本发明公开了一种微型尖锥式开合帘幕无扰成像装置，属于光学成像技术领域，包括锥形壳体以及设置于锥形壳体内部的镜头组件、帘幕组件以及图像处理模块。锥形壳体的顶部设置有进光孔；镜头组件包括依次同轴设置于进光孔轴线上的非球面透镜组和图像传感器；帘幕...
    2026-02-14
  • 一种飞机孔位投影图像划分方法、装置、设备及存储介质
    一种飞机孔位投影图像划分方法、装置、设备及存储介质_成都飞机工业(集团)有限责任公司_202510984745.4
    本发明公开了一种飞机孔位投影图像划分方法、装置、设备及存储介质，属于飞机装配制造技术领域，包括：从多台投影仪识别出的投影孔位集合中，分离出重叠投影孔位；计算各重叠投影孔位法矢与投影出该重叠投影孔位的所有投影仪像素坐标系下Z轴的夹角，以及各重...
    2026-02-14
  • 显示设备及其控制方法
    显示设备及其控制方法_深圳光峰科技股份有限公司_202511165500.5
    本发明提供一种能够应用于投影技术领域显示设备，包括：光源，用于发出M束第一光；功率分配装置，用于将每束第一光分配成多束第二光出射，或用于将输入的M束第一光混合后再均匀分配为N束第二光，其中M＜N；以及光学开关，用于根据由待显示图像的图像信号...
    2026-02-14
  • 用于车辆的投影系统和车辆
    用于车辆的投影系统和车辆_宝马股份公司_202410586929.0
    本发明涉及一种用于车辆的投影系统以及包括投影系统的车辆。投影系统包括：一个投影装置(1)；在投影装置下游设置的一个透镜组件(10)，其包括并排的多个透镜；在透镜组件下游的反射面组件(20)，其包括相互邻接的并排的多个反射面(2、3、4、5)...
    2026-02-14
  • 一种投影屏幕和投影系统
    一种投影屏幕和投影系统_青岛海菲新材料有限公司_202410586366.5
    本发明公开了一种投影屏幕和投影系统，投影屏幕包括微结构层和反射层。微结构层的一侧表面具有多个沿垂直方向延伸的条状凸起结构，相邻的两个条状凸起结构之间相距设定距离。通过在微结构层的表面设置多个间隔排列的条状凸起结构，可以将投影屏幕反射出来的光...
    2026-02-14
  • 一种表面等离子体光刻掩模版及其制备方法
    一种表面等离子体光刻掩模版及其制备方法_中国科学院光电技术研究所_202511347023.4
    本发明涉及表面等离子体光刻领域，特别涉及一种表面等离子体光刻掩模版及其制备方法。包括掩模版本体，所述掩模版本体包括第一表面和设置于所述第一表面相对侧的第二表面，所述第一表面上设置有凸台，所述第二表面上设置有凹槽，所述凸台顶面与所述第一表面之...
    2026-02-14
  • 光学临近修正方法、掩膜版以及半导体结构的形成方法
    光学临近修正方法、掩膜版以及半导体结构的形成方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410599639.X
    一种光学临近修正方法、掩膜版以及半导体结构的形成方法，其中光学临近修正方法包括：获取参考版图，所述参考版图包括：若干第一金属线图形、若干第二金属线图形和若干切断图形；在若干所述切断图形中获取待修正图形，所述待修正图形包括第一待修正图形和第二...
    2026-02-14
  • SRAF添加方法、装置、存储介质及电子设备
    SRAF添加方法、装置、存储介质及电子设备_华芯程(杭州)科技有限公司_202511485030.0
    本申请公开了一种SRAF添加方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该SRAF添加方法包括获取目标层版图、原始SRAF及工艺设计规则；从目标层版图中提取目标特征，并从工艺设计规则中提取最小安全间距；按照最小安全间距对目标特征和原始SRAF进行...
    2026-02-14
  • 掩膜版组及其制造方法、掩膜版成像偏差校正方法及系统
    掩膜版组及其制造方法、掩膜版成像偏差校正方法及系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511475915.2
    本申请实施例提供了一种掩膜版组及其制造方法、掩膜版成像偏差校正方法及系统，该掩膜版组包括：多个掩膜版；在对多个掩膜版进行光学成像的过程中，多个掩膜版上的掩膜图案的理论最佳聚焦值相同；其中，多个掩膜版上的掩膜图案包括相同的监控图案；监控图案用...
    2026-02-14
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