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最新专利技术
  • 光源装置以及投影仪
    光源装置以及投影仪_精工爱普生株式会社_202510625517.8
    光源装置以及投影仪。提供光利用效率高的光源装置和投影仪。光源装置具备：光源部、导光部件及具有支承槽的支承部件。导光部件具有射出光的第1面、与第1面相反的第2面、彼此朝向相反的第3面和第4面、以及彼此朝向相反的第5面和第6面。光源部使各发光元...
    2026-02-17
  • 一种新型具有大景深的投影仪
    一种新型具有大景深的投影仪_湖南创科光电有限责任公司_202511303554.3
    本发明提供的一种新型具有大景深的投影仪，包括外壳，外壳的内部设置有光机，光机包括壳体、光源板、光斗、镜片模组、反射镜和投影镜头，光斗、反射镜和镜片模组设置在壳体的内部，壳体上端的右侧设置有投影口，投影镜头的左端位于投影口内，反射镜可转动的设...
    2026-02-17
  • 投影照明集成设备及其调控方法
    投影照明集成设备及其调控方法_同济大学_202511123805.X
    本发明公开了一种投影照明集成设备及其调控方法，涉及沉浸式投影设备的安装技术领域，本发明投影照明集成设备，包括平行布置的第一吊架和第二吊架，且第一吊架和第二吊架之间的距离能够调节；连接竖杆一端用于连接待安装位置处的天花板，另一端与第一吊架连接...
    2026-02-17
  • 一种车辆投影幕布系统及车辆内部投影系统
    一种车辆投影幕布系统及车辆内部投影系统_科德汽车零部件(上海)有限公司_202410608535.0
    本发明提供一种车辆投影幕布系统及车辆内部投影系统，车辆投影幕布系统包括幕布收展机构和折弯导轨机构；幕布收展机构包括幕布框架、可收展地安装于幕布框架的幕布本体、固定于幕布本体的幕布滑块、幕布固定导轨、收展驱动源、以及收展传动单元，幕布固定导轨...
    2026-02-17
  • 镜头集成结构、全景摄像头以及图像处理方法
    镜头集成结构、全景摄像头以及图像处理方法_浙江舜宇智领技术有限公司_202410621893.5
    本发明提供了一种镜头集成结构、全景摄像头以及图像处理方法，其能够消除中心盲区，提高像素利用率。该镜头集成结构包括：安装座；光学镜头，设置于该安装座；透光罩，包括固装于该安装座且环绕着该光学镜头布置的环形罩体及与该环形罩体固定连接的前盖体；折...
    2026-02-17
  • 光掩模坯料及光掩模的制造方法
    光掩模坯料及光掩模的制造方法_信越化学工业株式会社_202510629262.2
    本发明涉及一种光掩模坯料及光掩模的制造方法。具体地，本发明提供一种光掩模坯料，其包括透明基板、由含铬材料形成的膜和由含钽材料形成的膜。所述由含钽材料形成的膜由单层或多层构成，并且具有0.5～15nm的厚度；所述含钽材料含有钽、氧或含有钽、氧...
    2026-02-17
  • 图形修正方法、存储介质和存储终端
    图形修正方法、存储介质和存储终端_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410614216.0
    一种图形修正方法、存储介质和存储终端，图形修正方法包括：提供待修正版图，包括若干待修正图形；在待修正图形周围生成初始辅助图形，沿第一方向上的两端分别与待修正图形对应的两端齐平；将初始辅助图形划分成若干图形区域和若干分割区域，分割区域位于相邻...
    2026-02-17
  • 具透明窗口的光罩盒及其制造方法
    具透明窗口的光罩盒及其制造方法_家登精密工业股份有限公司_202511366653.6
    本发明公开了一种具透明窗口的光罩盒及其制造方法，其特征在于光罩盒包括：相互配合的第一壳体和第二壳体、透明窗口件，以及热塑性密封材，第一壳体和第二壳体两者间界定出用来容置光罩的容置空间，第一壳体具有穿透第一壳体的窗口，用来暴露出光罩，透明窗口...
    2026-02-17
  • 基板处理装置及方法
    基板处理装置及方法_盛美半导体设备(上海)股份有限公司_202410606210.9
    本申请公开了一种基板处理装置及方法，该基板处理装置包括：基座、基板承载机构、检测机构、曝光镜头和控制部。其中，控制部与检测机构通信连接，控制部被配置为根据检测机构检测得的基板的表面图像信息判断基板的表面是否存在表面缺陷。若控制部判断基板存在...
    2026-02-17
  • 玻璃基板纳米压印工艺及设备
    玻璃基板纳米压印工艺及设备_广东中图半导体科技股份有限公司_202511455349.9
    本发明属于纳米压印技术领域，公开了玻璃基板纳米压印工艺及设备。玻璃基板纳米压印工艺包括封闭母版并将玻璃基板移动至第一位置处遮挡母版；解除母版的封闭并在玻璃基板的遮挡下对母版点胶；移动热压组件至玻璃基板上方并控制玻璃基板和热压组件同步下压至固...
    2026-02-17
  • 负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件
    负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件_信越化学工业株式会社_202510617669.3
    本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件。本发明的目的是提供一种感光性树脂组成物，其是能够在低温下进行酰亚胺闭环反应，组成物的稳定性优良，并且能够形成微细图案的使用了聚酰亚胺前驱物的...
    2026-02-17
  • 掺镨钇铁石榴石感光溶胶、薄膜微细图形及其制备方法
    掺镨钇铁石榴石感光溶胶、薄膜微细图形及其制备方法_西安外事学院_202510973545.9
    本发明提供了一种掺镨钇铁石榴石感光溶胶、薄膜微细图形及其制备方法，以Y(C2H3O2)3、Pr(NO3)3·6H2O、Fe(NO3)3·9H2O为原料，丙酸为催化剂，苯甲酰丙酮为感光螯合剂，甲醇为溶剂，混合，加入甲醇定容，陈化后得到Y2.8...
    2026-02-17
  • 一种负性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法
    一种负性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法_湖北鼎龙芯盛科技有限公司_202511325141.5
    本发明公开了一种负性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。该负性抗蚀剂组合物包括：(A)树脂基体、(B)大分子光引发剂、(C)活性增感剂、(D)酸扩散抑制剂、(E)自由基引发剂、(F)活性稀释剂以及(G)有机溶剂；所述(A)树脂基体包含式(I...
    2026-02-17
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511385328.4
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明为一种抗蚀剂组成物，含有：(A)基础聚合物，含有具有含有含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、及具有酚性羟基的重复单元，(B)通式(1)表示的高分子化合物，(RB为氢原子等，Ra为三氟甲基等，...
    2026-02-17
  • 可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法
    可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511392757.4
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法，旨在解决负性光刻胶所形成的倒梯形剖面仍难以实现高精度控制的问题。其技术方案要点是：包括如下重量比的原料：50‑80份溶剂、10‑30份丙烯酸树脂、1‑5份...
    2026-02-17
  • 一种基于POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂的负性光刻胶
    一种基于POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂的负性光刻胶_烟台希尔德材料科技有限公司_202410607367.3
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种基于POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂的负性光刻胶，包括基于POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂、自由基聚合引发剂、含烯键的不饱和化合物、表面活性剂和助粘剂；所述POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂具有以下通式I...
    2026-02-17
  • 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
    化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510625120.9
    本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明课题是提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法，该化学增幅正型抗蚀剂组成物可提供能形成具有极高的孤立间距分辨率，LER小，矩形性、蚀...
    2026-02-17
  • 一种超支化结构POSS基正性光刻胶组合物及其应用
    一种超支化结构POSS基正性光刻胶组合物及其应用_烟台希尔德材料科技有限公司_202410607400.2
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种超支化结构POSS基正性光刻胶组合物及其应用，所述超支化结构POSS基正性光刻胶组合物包括感光剂、酸生成剂或碱生成剂、表面活性剂、助粘剂和如下通式Ⅱ所示的具有超支化结构的POSS基聚(甲基)丙烯酸酯树脂...
    2026-02-17
  • 光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质
    光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质_上海光通信有限公司_202410586535.5
    一种光刻工艺监控方法及装置、计算机可读存储介质，所述方法包括：对采用待测光刻工艺制备得到的待测光刻层进行光学关键尺寸测量，得到光谱信息；将光谱信息输入预设数据库，预设数据库包括至少一个预设子数据库，各预设子数据库均具有一个样本光刻层的光谱信...
    2026-02-17
  • 一种掩模版形变补偿方法及静电吸盘
    一种掩模版形变补偿方法及静电吸盘_中国科学院微电子研究所_202410602466.2
    本申请提供一种掩模版形变补偿方法及静电吸盘，通过掩模版工件台的静电吸盘可以基于预设补偿区域进行掩模版的吸附，以便静电吸盘对掩模版在预设补偿区域施加补偿吸附力，在预设补偿区域之外的其他区域施加常规吸附力，补偿吸附力大于常规吸附力，预设补偿区域...
    2026-02-17
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