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最新专利技术
  • 一种光处理装置
    一种光处理装置_深圳市遇品科技有限公司_202311555171.6
    本申请实施例涉及灯光技术领域，公开了一种光处理装置，包括壳体、第一光源组件、光路处理组件和驱动装置。光路处理组件包括相互连接的第一透光件和第二透光件，第一透光件具有第一波纹结构，第二透光件具有第二波纹结构。第一光源组件发出的光线依次穿过第一...
    2026-03-16
  • 光源装置及光学系统
    光源装置及光学系统_深圳光峰科技股份有限公司_202411081271.4
    本申请公开了一种光源装置及光学系统，光源装置包括用于产生第一激光和第二激光的第一激光光源、合光件、荧光模组和光引导模组，合光件用于将第一激光和第二激光引导至荧光模组。荧光模组包括依次设置在第一激光和第二激光所在的光路上的收集透镜组件和色轮，...
    2026-03-16
  • 一种银幕及其制备方法和应用
    一种银幕及其制备方法和应用_深圳市光科全息技术有限公司_202511400047.1
    本发明属于投影显示设备技术领域，尤其涉及一种银幕及其制备方法和应用。一种银幕的制备方法，包括以下步骤：步骤(1)，配制金属浆料；步骤(2)，采用卷对卷涂布工艺，将所述金属浆料连续且均匀地涂布于柔性薄膜基材上，形成浆料涂层；步骤(3)，对涂布...
    2026-03-16
  • 投影幕布总成及车辆
    投影幕布总成及车辆_福耀玻璃工业集团股份有限公司_202511807342.9
    本申请提供一种投影幕布总成及车辆，投影幕布总成包括：幕布和导轨，第一驱动机构幕布沿其展开方向展开或沿着收卷方向收卷，其中，展开方向和收卷方向相反；导轨用于连接于第三方构件上，幕布展开或者收卷的过程中，导轨的延伸方向与幕布的展开方向和收卷方向...
    2026-03-16
  • EUV掩模基版及其制造方法、EUV掩模板及其制造方法
    EUV掩模基版及其制造方法、EUV掩模板及其制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511946877.4
    一种EUV掩模基版及其制造方法，及EUV掩模板及其制造方法，该EUV掩模基版包括：透明基板、反射膜、保护层，以及，硅层和/或金属层，透明基板的一侧表面设置有反射膜，反射膜具有多层钼硅交替层，保护层设置在反射膜上，硅层和/或金属层设置在保护层...
    2026-03-16
  • 反射型EUV掩模板及其制造方法
    反射型EUV掩模板及其制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511946921.1
    一种反射型EUV掩模板及其制造方法，该反射型EUV掩模板包括：透明基板、反射膜、保护层和图案化的吸收层，透明基板的一侧表面设置有反射膜，反射膜具有多层钼硅交替层，保护层设置在反射膜上，图案化的吸收层设置在保护层上，图案化的吸收层具有倾斜侧壁...
    2026-03-16
  • 光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质、程序产品
    光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质、程序产品_北京超弦存储器研究院_202411109831.2
    本公开涉及一种光罩版图校正方法及其系统、设备、存储介质、程序产品。该光罩版图校正方法包括：获取曲线型的光罩光学校正版图；对光罩光学校正版图进行曼哈顿化处理，得到曼哈顿化校正版图；对曼哈顿化校正版图进行电子束邻近效应校正，得到电子束校正版图；...
    2026-03-16
  • 一种孔的设计版图层的光学邻近修正方法
    一种孔的设计版图层的光学邻近修正方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202411110428.1
    本发明提供一种孔的设计版图层的光学邻近修正方法，包括：确定孔的设计版图层的目标图形层；将孔的光罩层的每条边切割为至少两段，且每段均满足光罩规则检测的规则；根据目标图形层得到圆滑目标图形层，将圆滑目标图形层作为模拟轮廓层的目标图形层，在圆滑目...
    2026-03-16
  • 一种版图修正方法
    一种版图修正方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202511687369.9
    本发明提供了一种版图修正方法，包括获取版图信息，包括原始版图信息和待修正版图信息，所述版图包括原始版图和对所述原始版图修改后的待修正版图，所述原始版图和所述待修正版图上包括不同图案，所述原始版图信息和所述待修正版图信息包括不同层级结构的节点...
    2026-03-16
  • 用于离子注入工艺的掩膜组板及使用方法
    用于离子注入工艺的掩膜组板及使用方法_上海先进半导体制造有限公司_202511613182.4
    本发明提供了一种用于离子注入工艺的掩膜组板及使用方法，包括零层掩模版和至少一当前掩模版；所述零层掩模版上设置有至少一个第一套刻标记，所述第一套刻标记为具有第一对称中心的第一旋转对称结构；所述当前掩模版上与所述至少一个第一套刻标记的对应位置设...
    2026-03-16
  • OMOG光掩模制造方法
    OMOG光掩模制造方法_上海传芯半导体有限公司_202511946847.3
    一种OMOG光掩模制造方法，包括以下步骤：提供透明基板；在透明基板上沉积具有预设厚度的硅层或钼层；对硅层进行图案化的钼聚焦离子束扫描，使Mo离子移动到被扫描的区域内的硅层中，形成图案化的钼硅化物层；或，对钼层进行图案化的硅聚焦离子束扫描，使...
    2026-03-16
  • 一种缺陷检测方法、修补设备、FMM生产方法及生产线
    一种缺陷检测方法、修补设备、FMM生产方法及生产线_寰采星科技(宁波)有限公司_202511839516.X
    本发明公开了一种缺陷检测方法、修补设备、FMM生产方法及生产线，涉及半导体领域，缺陷检测方法包括：提供带状的金属基材，金属基材的主表面上具有由感光材料形成的掩膜图案；使用第一光线照射金属基材的主表面，采集主表面的图像和掩膜图案的第一图像；使...
    2026-03-16
  • 半导体掩模版图的检查方法、设备、介质及产品
    半导体掩模版图的检查方法、设备、介质及产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511909713.4
    本发明提供了一种半导体掩模版图的检查方法、设备、介质及产品。半导体掩模版图的检查方法包括：获取目标设计版图和对应的掩模版图；从目标设计版图中识别出所有的拓扑结构得到设计拓扑结构，并且从掩模版图中识别出所有的拓扑结构得到掩模拓扑结构，拓扑结构...
    2026-03-16
  • 一种滚轮压印方法及系统
    一种滚轮压印方法及系统_苏州光越微纳科技有限公司_202511993365.3
    本发明提供一种滚轮压印方法，包括：基于柔性模具的柔性系数、目标产品基底的微结构尺寸，预设脱模间隙阈值；启动脱模后持续进行：监测并实时获取所述柔性模具与所述目标产品基底的当前工作间隙；基于所述当前工作间隙与所述脱模间隙阈值，判断当前脱模角度状...
    2026-03-16
  • 微细图案形成用材料、感光性树脂组合物、图案处理组合物以及微细图案的形成方法
    微细图案形成用材料、感光性树脂组合物、图案处理组合物以及微细图案的形成方法_新应材股份有限公司_202411107006.9
    本发明提供一种微细图案形成用材料、感光性树脂组合物、图案处理组合物以及微细图案的形成方法。微细图案形成用材料包括第一层以及第二层。第一层包括感光性树脂组合物(I)。感光性树脂组合物(I)包括碱可溶性酚醛树脂(A)、感光剂(B)、含羟基的添加...
    2026-03-16
  • 一种感光材料、水褪胶膜及其制备方法和应用
    一种感光材料、水褪胶膜及其制备方法和应用_深圳市柳鑫实业股份有限公司_202511963559.9
    本发明涉及一种感光材料、水褪胶膜及其制备方法和应用。所述感光材料包括如下重量份数的组分：亲水性丙烯酸酯树脂30‑70份、UV树脂5‑30份、光引发剂1‑10份、流平剂0.01‑2份、消泡剂0.01‑2份。本发明的水褪胶膜既能在UV固化后牢固...
    2026-03-16
  • 一种用于电子束光刻工艺的层状结构及其光刻工艺
    一种用于电子束光刻工艺的层状结构及其光刻工艺_国科天骥(山东)新材料有限责任公司_202511754957.X
    本发明提供一种用于电子束光刻工艺的层状结构及其光刻工艺。采用本发明的层状结构进行电子束光刻能够有效改善电子束光刻图案线条易倒塌的问题，所得图案具有较好的线边缘粗糙度，图案线条更清晰。并且，所得光刻图案线条还具有很好的对比度。本发明的层状结构...
    2026-03-16
  • 一种用于光刻机的匀胶设备及其使用方法
    一种用于光刻机的匀胶设备及其使用方法_苏州美芝恩电子科技有限公司_202511868166.X
    本发明公开了一种用于光刻机的匀胶设备及其使用方法，属于光刻机匀胶技术领域，包括机体，机体的内部设有匀胶部件，匀胶部件包括固定连接在机体内部上侧的气缸，气缸的伸缩端固定连接有连接架，连接架的下侧呈环形阵列排列固定连接有连接头，连接头的底端固定...
    2026-03-16
  • 匀胶显影设备的基板作业方法、匀胶显影设备及系统
    匀胶显影设备的基板作业方法、匀胶显影设备及系统_宁波润华全芯微电子设备有限公司_202610009567.8
    本发明申请涉及匀胶显影设备，属于半导体制造及微纳加工技术领域，匀胶显影设备的基板作业方法应用于包括中央搬运通道以及于所述中央搬运通道两侧垂直堆叠设置的多层工艺处理单元的设备，其中中央搬运通道内具有对应每一层所述工艺处理单元独立设置的机器人传...
    2026-03-16
  • 导向自组装方法
    导向自组装方法_张江国家实验室_202411103490.8
    本发明提供一种导向自组装方法，能有效去除导向自组装图形下方引导模板光刻胶，形成高分辨率的图形。包括：对嵌段共聚物进行退火处理，引导嵌段共聚物进行自组装而形成第一嵌段图形和刻蚀速率比第一嵌段图形要低的第二嵌段图形的步骤；去除第一嵌段图形，使第...
    2026-03-16
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