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最新专利技术
  • 用于提供气流的喷嘴和制造喷嘴的方法
    用于提供气流的喷嘴和制造喷嘴的方法_ASML荷兰有限公司_202480020825.1
    本公开提供了一种用于提供气体流出流的喷嘴，所述喷嘴包括：主通道；所述主通道在所述主通道的下游端处通向至少一个流量限制区段，每个流量限制区段具有用于产生均匀气体流的多个平行叶片；所述至少一个流量限制区段通向相应流出区段，所述相应流出区段具有朝...
    2025-11-20
  • 感光性组合物、固化物、显示装置及固化物的制造方法
    感光性组合物、固化物、显示装置及固化物的制造方法_东丽株式会社_202480016797.6
    本发明可以兼备曝光时的优异的灵敏度和抑制显影后的残渣。此外，本发明能够提供发光元件的可靠性和发光亮度优异的显示装置所具备的固化物。本发明为一种感光性组合物，是含有(A)粘合剂树脂和(C)感光剂的感光性组合物，其还含有选自包含茚结构的羧酸、包...
    2025-11-20
  • 感光性组合物、固化物、显示装置及固化物的制造方法
    感光性组合物、固化物、显示装置及固化物的制造方法_东丽株式会社_202480017433.X
    一种感光性组合物，是含有(A)粘合剂树脂和(C)感光剂的感光性组合物，(C)感光剂含有(C1)萘醌重氮化合物，所述感光性组合物还含有甲醇和/或乙醇，并且满足下述(7)的条件。(7)该感光性组合物中的甲醇和乙醇的含量的合计为0.0010～30...
    2025-11-20
  • 感光性树脂组合物、固化物、间隔壁、有机电致发光元件、滤色器以及图像显示装置
    感光性树脂组合物、固化物、间隔壁、有机电致发光元件、滤色器以及图像显示装置_三菱化学株式会社_202480017719.8
    本发明提供一种感光性树脂组合物，其烧成处理时的烟雾量少，并且能形成锥角小的间隔壁且能形成烧成处理后的残膜率优异的间隔壁。本发明的感光性树脂组合物是含有(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合引发剂以及(C)烯属不饱和化合物的感光性树脂组合物，所述(...
    2025-11-20
  • 光敏树脂前体组合物、光敏树脂组合物、绝缘膜和半导体器件
    光敏树脂前体组合物、光敏树脂组合物、绝缘膜和半导体器件_株式会社LG化学_202480023283.3
    提供了光敏树脂前体组合物、光敏树脂组合物、绝缘膜和半导体器件。
    2025-11-20
  • 光聚合物组合物、全息图记录介质、其制备方法和包括其的光学元件
    光聚合物组合物、全息图记录介质、其制备方法和包括其的光学元件_株式会社LG化学_202580001730.X
    本公开内容涉及光聚合物组合物、全息图记录介质、其制备方法和包括其的光学元件。所述光聚合物组合物能够提供全息图记录介质和包括其的光学元件，所述全息图记录介质和包括其的光学元件表现出优异的光学记录特性例如衍射效率，同时确保无色和透明的光学特性以...
    2025-11-20
  • 抗蚀剂下层膜形成用组合物
    抗蚀剂下层膜形成用组合物_日产化学株式会社_202480021874.7
    本发明以提供要求在蚀刻后密度和硬度高、不弯曲的抗蚀剂下层膜的特性的抗蚀剂下层膜、可以形成该抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案的形成方法和半导体装置的制造方法作为目的。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含通过甘脲化合...
    2025-11-20
  • 抗蚀剂下层膜形成用组合物
    抗蚀剂下层膜形成用组合物_日产化学株式会社_202480023044.8
    一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含化合物(A)和溶剂(B)，所述化合物(A)含有结合有酚性羟基的芳香族烃环，所述组合物的固化膜中的酚性羟基的氧的原子百分率为2.00％以上。
    2025-11-20
  • 通用光刻工具
    通用光刻工具_半导体技术有限公司_202380093897.4
    披露了一种光刻设备(50)，具有控制器(55)、曝光系统(66，67)、以及晶片装载机系统(94)。控制器(55)可操作以配置并直接控制曝光系统(66，67)、晶片装载机系统(94)、以及以下中的至少一个：检查系统(72)和抗蚀剂处理系统(...
    2025-11-20
  • 数据传送装置、曝光装置及电子器件
    数据传送装置、曝光装置及电子器件_株式会社尼康_202480021655.9
    本发明的数据传送装置应用于基于绘图数据控制空间光调制器所具有的多个元件来对基板进行曝光的曝光装置，该数据传送装置具备：第1处理部，其对第1数据进行分割而生成多个第2数据，并传送所述多个第2数据，所述第1数据为所述绘图数据；第2处理部，其具有...
    2025-11-20
  • 用于掩模版载台清洁设备的导电聚合物
    用于掩模版载台清洁设备的导电聚合物_ASML荷兰有限公司_202480023584.6
    一种用于光刻设备中的掩模版台夹具的掩模版台清洁设备，包括：基板，所述基板具有前侧和与所述前侧相反的背侧；和导电层，所述导电层设置在所述基板的所述前侧上。所述导电层被配置成接触所述掩模版台夹具以消散所述掩模版台夹具上的电荷且经由在所述导电层与...
    2025-11-20
  • 用于光敏树脂组合物的显影剂溶液、显影方法和图案形成方法
    用于光敏树脂组合物的显影剂溶液、显影方法和图案形成方法_株式会社LG化学_202480022710.6
    本公开内容涉及提供用于光敏树脂组合物的显影剂溶液、显影方法和图案形成方法。
    2025-11-20
  • 使用本地振荡器的对齐计量
    使用本地振荡器的对齐计量_ASML荷兰有限公司_202480018105.1
    检测模块包括相敏放大器(PSA)和检测器。PSA接收从衬底的表面上的目标衍射的源信号。PSA还接收泵信号。PSA基于泵信号与源信号之间的相位发送放大信号。检测器接收放大信号，并且基于放大信号确定目标的对齐位置。
    2025-11-20
  • 高度测量误差确定
    高度测量误差确定_ASML荷兰有限公司_202480021701.5
    一种用于确定衬底高度测量误差的方法，所述方法包括：提供在给定频率下被调制的激光束，所述激光束具有波长和偏振；以相对于从所述衬底延伸的法线的锐角将经调制的激光束引导至所述衬底上；检测经调制的激光束在所述经调制的激光束已经从所述衬底反射之后的位...
    2025-11-20
  • 用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法和相关联的设备
    用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法和相关联的设备_ASML荷兰有限公司_202480022164.6
    公开了一种用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法和相关联的设备。该方法包括：获得描述衬底参数的空间变化的衬底测量数据；以及将模型拟合到所述衬底测量数据以获得经拟合的模型；其中，所述拟合步骤包括使用多个正则化参数来正则化拟合，所述多个正则化...
    2025-11-20
  • 静电图像显影用带正电性调色剂、调色剂组以及图像形成方法
    静电图像显影用带正电性调色剂、调色剂组以及图像形成方法_日本瑞翁株式会社_202380095837.6
    本发明提供一种低温定影性和耐热保存性的平衡优异、难以产生灰雾、能够形成光泽均匀性优异的图像的调色剂。本发明提供一种静电图像显影用带正电性调色剂，其含有着色树脂颗粒，上述着色树脂颗粒包含黏结树脂、着色剂、离型剂、离型剂分散剂和带电控制剂，含有...
    2025-11-20
  • 介质处理装置及图像形成系统
    介质处理装置及图像形成系统_株式会社理光_202480018367.8
    一种介质处理装置包括液体赋予器、后处理装置、第一液体贮存部、第二液体贮存部、液体供给器、以及控制器。液体赋予器将液体赋予到至少一介质的一部分。后处理装置对包含由所述液体赋予器赋予了所述液体的所述至少一介质的介质束进行处理。第一液体贮存部贮存...
    2025-11-20
  • 包括自动上发条机构的钟表机芯
    包括自动上发条机构的钟表机芯_爱彼钟表业制造有限公司_202480019054.4
    本发明涉及一种钟表机芯(10)，其特别地包括基部(12, 12a, 12b)、齿轮(11)、发条盒(60)和用于对发条盒(60)上发条的自动上发条机构。上发条机构包括发条锤(14)，该发条锤(14)通过旋转臂(30a, 30b, 30c, ...
    2025-11-20
  • 电子钟表
    电子钟表_卡西欧计算机株式会社_202480021082.X
    提供能够兼顾有效的发电和发光以及小型化的电子钟表。电子钟表具备太阳能电池(70)，该太阳能电池(70)具有：作为一对电极的配线电极(71)和下部电极(73)；以及发电层(72)，其被这一对电极夹着，包含能够通过向一对电极施加电压而发光的化合...
    2025-11-20
  • 信息处理方法、信息处理装置及程序
    信息处理方法、信息处理装置及程序_松下知识产权经营株式会社_202480019585.3
    信息处理装置从装置可执行的全部动作中选择至少一个代表动作，令所述装置执行所选择的所述代表动作，取得在所述代表动作的执行中被测量出的规定的评估指标的测量数据，基于所取得的所述测量数据，更新所述控制参数。另外，在第1代表动作被执行的第1期间内、...
    2025-11-20
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