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  • 本发明涉及电沉积设备技术领域,具体提供一种快速拆装的电沉积装置,包括基板;电沉积槽底座,固定至基板;电沉积槽,放置在电沉积槽底座上;至少一个压紧组件,每个压紧组件包括偏心轮和下压构件,偏心轮设置在基板上,并且沿预设方向可滚动;下压构件的第一...
  • 本发明涉及电镀线技术领域,公开了一种镀铂金电镀线,包括安装地板,所述安装地板的上方等距固定安装有第一翻转组件和第二翻转组件,所述第一翻转组件和第二翻转组件结构相同镜像对称,所述第一翻转组件包括第一电机,所述第一电机的一侧输出端固定连接有第一...
  • 本发明涉及一种电镀件用连续式卧镀装置,属于电镀设备技术领域。该电镀件用连续式卧镀装置,包括:架体、多个箱体及行走机构,多个所述箱体设置于架体内;滚筒机构,所述滚筒机构包括固定架、安装于固定架一侧的电机及两个滚筒框;上述装置中滚筒机构在电镀时...
  • 本发明提供了一种自动调整镀铜钢丝镀层的方法,镀铜钢丝是钢帘线产品中必须的半成品,根据库伦定律施加电流,使铜和锌金属离子电沉积在钢丝表面,为后续拉拔做准备,也为钢帘线于橡胶结合更牢提供镀层。通过采集工艺参数进入实验室进行计算,并将实验室的检测...
  • 本发明提供了一种对n型碲化铋进行表面处理的方法。本方法利用电流的电场作用,对n型碲化铋进行阳极电解,在碱性的NaOH溶液中,n型碲化铋中的部分Te、Bi被氧化,生成橙色玻璃相薄膜附着在n型碲化铋表面,该薄膜可以被清洗掉。本发明阳极处理过程,...
  • 本发明提供了一种电化学抛光电解液与电化学抛光方法,所述电化学抛光电解液包括电解质、缓蚀剂、添加剂和溶剂,所述添加剂包括乙二醇、糖精、亚硝酸钠或硫酸铜中的任意一种或至少两种的组合。本发明中,电解质、缓蚀剂和添加剂相互配合,能够精准控制腐蚀量,...
  • 本发明公开了基于协同酸性电解液的电化学去核退役设施氧化层方法,涉及清洁技术领域。将污染金属构件为阳极,惰性电极为阴极,浸入低浓度酸性介质的协同酸性电解液中,温度低于40℃,采用高压直流电解模式,将污染金属构件表面氧化层剥离至暴露清晰晶界。通...
  • 本发明涉及一种锡基钙钛矿晶体的制备方法和应用,所述的锡基钙钛矿晶体的生长方法包括以下步骤:将锡前驱体溶于氢碘酸溶液中,加热搅拌得到淡黄色溶液,随后加入次亚磷酸并持续搅拌得到无色透明溶液;向溶液中加入醋酸甲脒,升高温度继续搅拌得到含有锡钙钛矿...
  • 本申请公开了一种铸造法晶体生长界面调控方法及装置,涉及晶体生长领域,该方法包括获取晶体的生长前数据和生长过程数据;将所述生长前数据和所述生长过程数据输入至训练好的神经网络模型中,得到预测生长界面参数;基于所述预测生长界面参数对晶体的生长界面...
  • 本发明涉及单晶制备技术领域,具体公开一种高占比13N锗单晶及其制备方法。本发明提供的高占比13N锗单晶的制备方法通过控制提拉单晶的步骤将制备得到的锗单晶分为杂质晶段和纯化晶段,锗单晶中的杂质集中分布在杂质晶段,降低了纯化晶段的杂质含量,然后...
  • 本申请提供一种快速停炉冷却工艺,步骤包括:停炉时,控制炉压在预设的高压区间内,以调整炉内气流,使炉内热量被排出炉体外;降低炉内压力至真空状态,判断炉体气密性是否合格;若合格,调整炉压至常压,取出单晶。本申请一种快速停炉冷却工艺,控制炉内炉压...
  • 本发明属于化学冶金技术领域,具体涉及一种用于液相法稳定生长碳化硅单晶的装置及工作方法,本用于液相法稳定生长碳化硅单晶的装置包括:内坩埚,其侧壁内开设有环形腔室,所述环形腔室开设有若干层与内坩埚连通的排液孔组;外坩埚,套设在内坩埚的外围,其腔...
  • 本发明涉及半导体材料制备技术领域,公开了一种半导体级硅单晶生长用石英坩埚及其制备方法。该石英坩埚包括:由内向外依次设置的超惰性钝化涂层、内层和外层;所述超惰性钝化涂层形成于所述内层的最内表面;所述超惰性钝化涂层为非晶玻璃态;所述外层由天然石...
  • 本发明提供一种能够抑制晶种的位错传播至上部的III族氮化物半导体的制造方法。III族氮化物半导体的制造方法具有向混合有III族金属和助熔剂的混合熔融液中供给包含氮的气体,在晶种基板(9)上培育III族氮化物半导体的晶体生长工序,晶种基板(9...
  • 本发明属于半导体晶片加工技术领域,具体公开了一种液相法碳化硅晶体生长控制装置,包括燃烧炉本体,所述燃烧炉本体内壁下部连接有底板,所述底板下端中部连接有支撑机构,所述燃烧炉本体上端中部连接有支撑环,所述支撑环上端连接有晶体重量检测传感器,所述...
  • 本发明涉及氮化镓生产技术领域,具体地涉及一种氮化镓外延片生长托盘支撑设备,包括定位部件,定位部件的顶端固定安装有封盖,定位部件的底端固定安装有导送装置,导送装置包括第一液压缸、推杆、第一接触杆、第一光电感应器、第一齿条、第一齿轮、第二齿轮、...
  • 本发明涉及半导体材料制备技术领域,具体为一种晶格失配动态调控的液相外延生长方法及设备。具体内容如下:对衬底进行预处理,制备出衬底的微观坑槽,根据相图信息,制备均匀溶液;在多区控温外延炉中设定温度梯度,通过舟装置对衬底外延生长进行控制,将衬底...
  • 本发明涉及晶体生长设备技术领域,且公开了一种碳化硅制造用加热装置,包括自动控温升降组件以及辅助升降控制机构,本发明通过自动控温升降组件以及辅助升降控制机构输入稳定的工作电流控制坩埚进行位置移动,坩埚移动至碳化硅制造装置内部进行碳化硅加工过程...
  • 本说明书实施例公开了一种碳化硅升华法晶体的生长调控方法、装置及电子设备。该方法包括获取碳化硅晶体的参数数据,以根据参数数据模拟碳化硅晶体对应的物理场数据;基于物理场数据,确定碳化硅晶体的当前生长阶段,并确定当前生长阶段对应的第一预测模型;以...
  • 本发明涉及公开了一种碳化硅化学气相沉积反应设备及方法。涉及半导体材料成型技术领域。本申请具体包括导流腔体和长晶腔体,导流腔体中设有第一气体通道和第一加热件,第一气体通道呈折弯状延伸,第一加热件在第一气体通道的内壁均匀分布;长晶腔体中设有第二...
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