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  • 本发明公开了一种轴承用的耐磨涂层及其制备方法和应用,该耐磨涂层的制备原料至少包括含有疏水基团的聚酰胺酰亚胺树脂粉末、润滑相和改性增强相,改性增强相包括改性纤维状增强相和改性粉末状增强相,改性纤维状增强相由纤维状增强相经除胶、刻蚀和偶联剂处理...
  • 本申请属于一种摩擦涂层,针对PEEK材料应用于滑动轴承轴瓦等零部件时,因为在启动工况下具有较高的摩擦系数,难以带动轴承启动的技术问题,提供一种易启动的PEEK基轴承复合涂层、制备方法、推力滑动轴承,复合涂层,包括粘结剂、含氟树脂和助剂,助剂...
  • 本发明的课题在于提供在确保对紫外线的耐性的同时可见光区域中的透明性高的有机硅涂膜和具有该有机硅涂膜的层叠结构体、以及层叠结构体的制造方法。作为解决方案,作为设置为接受紫外线照射的被照射体的表层的涂膜的第二层(11)以硅橡胶为母材(111),...
  • 本发明提供了一种耐高温透波的硅基涂料及其制备方法,按质量份计包括以下组分:甲基苯基硅树脂40‑50份、改性低介电填料5‑10份、耐高温填料10‑20份、耐高温颜料5‑20份、分散剂0.5‑2份、流平剂0.5‑2份、消泡剂0.5‑2份、以及稀...
  • 本申请涉及汽车玻璃表面改性的技术领域,具体公开了一种气雾型汽车玻璃泡沫驱水剂及其制备方法。一种气雾型汽车玻璃泡沫驱水剂,所述驱水剂的原料包括如下重量份的组分:溶剂78~83份、防腐剂0.1~0.3份、乳化剂0.5~1.5份、成膜剂4.5~5...
  • 本申请提供一种涂层组合物,按质量份数计,涂层组合物包括5‑25份的MQ树脂、5‑20份的硅油、1‑10份的气相二氧化硅、0.08‑0.2份的缓蚀剂和50‑70份的有机溶剂,硅油的25℃粘度为3000‑100000cst,硅油:MQ树脂的质量...
  • 本发明提出了一种两亲性杂化硅基防污涂层的制备方法,通过包括以下步骤:S1、将混合有机硅单体与纳米二氧化硅进行共水解,加入催化剂进行缩聚反应,得到有机‑无机杂化硅树脂;S2、将聚乙二醇与含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂反应,得到聚乙二醇预聚物;S3...
  • 本发明公开了一种耐高温阻燃隔热涂料、其制备方法及应用,涉及功能涂料技术领域。一种耐高温阻燃隔热涂料,按重量份数计,包括以下组分:树脂基料体系 30‑40份,其包括按质量比1 : 1.5‑2 : 1复配的双官能团改性树脂、环氧有机硅树脂和水性...
  • 本发明公开自适应相变型微结构抗菌防污涂层及其制备方法和应用。步骤包括:(1)抑菌型活性硅烷功能基元合成;(2)相变型活性硅烷功能基元合成;(3)具有相变功能的抑菌型有机硅树脂合成;(4)复合阵列微结构抗菌防污涂层制备。本发明首先构筑三氯生和...
  • 本发明属于超双疏防腐材料领域,具体公开了一种聚二甲基硅氧烷协同增强环氧基超双疏防腐涂层的制备方法,首先制备氟改性纳米二氧化硅粒子,然后利用羟基封端聚二甲基硅氧烷与反应性硅烷在催化剂作用下发生缩合,构筑带有多点 Si–O–Si 交联节点和游离...
  • 本发明公开了一种微胶囊化膨胀型环保防火涂料及其制备方法,包括甲组分和乙组分;以所述甲组分的质量为百分比计,所述甲组分包括35%~40%的生物基材料、25%~30%的异氰酸酯、0.1%~0.5%的亚磷酸三苯酯、30%~34.5%的环保溶剂;以...
  • 本发明提供了一种古树树洞修复材料及修复方法,包括:防腐材料,所述防腐材料包括质量比为(1.5~3):1的生漆和熟桐油的混合物;所述防腐材料用于古树腐朽组织表面及树洞填充后的表层;填充材料,所述填充材料按重量份计包括:4~6份熟桐油、1~1....
  • 本发明提供了一种制备歧化松香的方法,该方法包括以下步骤:原料预处理阶段、澄清分离阶段、初级反应阶段、催化歧化阶段、后处理阶段,得到歧化松香产品。本发明通过多孔陶粒载体的三步化学改性与阶梯式温度控制策略相结合,在提升歧化松香产品中脱氢枞酸含量...
  • 本发明提供了一种化学机械抛光液,包括:研磨颗粒,磷酰类氮化物抑制剂,有机羧酸,氧化剂和水。通过加入磷酰类氮化物抑制剂,有效抑制氮化钛、氮化硅的抛光速度,且实现两者的抛光速度可调,从而避免对器件功能结构的损伤,改善器件良率。
  • 本发明提供一种基于改性硅溶胶的碱性抛光液及其制备方法和应用,所述抛光液包括如下质量分数的原料组分:5wt%~15wt%的硅溶胶、0.01wt%~0.2wt%的硅烷偶联剂、0.1wt%~1.5wt%的添加剂、余量为pH调节剂和水,所述pH调节...
  • 本发明提供一种基于复配表面活性剂的酸性铜阻挡层CMP抛光液及其制备方法,所述抛光液包括如下质量分数的各组分:1wt%~10wt%的磨料、0.1wt%~1wt%的表面活性剂、0.04wt%~4wt%的添加剂、余量为pH调节剂和水,所述pH调节...
  • 本申请提供一种用于抛光碳化硅衬底的化学机械抛光组合物及其抛光方法。在该化学机械抛光组合物中,包括:磨粒;氧化剂;以及分散剂,所述分散剂包括硅酸锂。硅酸锂在水溶液中可解离出Li+和硅酸根离子(SiO32‑)。硅酸根离子(SiO32‑)能通过静...
  • 本发明涉及研磨和抛光技术领域,特别是涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和应用。所述化学机械抛光液包括如下质量分数的组分:5‑7wt%的硅溶胶、0.1‑1wt%的表面活性剂、0.1‑1wt%的络合剂、0.01‑1wt%的缓蚀剂,0.02‑2w...
  • 本发明涉及研磨和抛光技术领域,特别是涉及一种用于晶圆表面氧化层的抛光液及其制备方法和应用。所述抛光液包括如下质量分数的各组分:90wt%~99wt%的硅溶胶、0.01wt%~1wt%的表面活性剂、0.001wt%~1wt%的分散剂、0.01...
  • 本发明提供一种PMMA与TAC粘接用光固化粘合剂及其制备方法,属于高分子材料技术领域。所述粘合剂按重量份计,包括:含羟基的丙烯酸酯10~30份、官能度≥3的丙烯酸酯10~30份、反应型活性稀释剂20~40份、光引发剂1~2份及助剂0.2~0...
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