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最新专利技术
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、包含该滤色器的显示装置以及上述滤色器的制造方法
    着色固化性树脂组合物、滤色器、包含该滤色器的显示装置以及上述滤色器的制造方法_住友化学株式会社_202510363763.0
    本发明可以提供一种即使在低温下进行加热也能够形成图案形状良好的滤色器的着色固化性树脂组合物。所述着色固化性树脂组合物包含粘合剂成分、聚合引发剂和着色剂， 粘合剂成分由树脂和聚合性化合物构成， 树脂包含具有环氧基的碱溶性树脂， 聚合性化合物包...
    2026-02-07
  • 树脂组合物、树脂膜、附树脂膜的基板、有机EL显示装置、附树脂膜的基板的制造方法
    树脂组合物、树脂膜、附树脂膜的基板、有机EL显示装置、附树脂膜的基板的制造方法_日铁化学材料株式会社_202510375345.3
    本发明汲及一种感光性树脂组合物， 其可形成具有适当遮光性且在可见光区域中的穿透率变化幅度小的树脂膜。本发明的感光性树脂组合物， 其包含(A)含有碳黑和/或钛黑的黑色颜料、(B)含有不饱和基的碱可溶性树脂、(C)具有两个以上的乙烯性不饱和基的...
    2026-02-07
  • 光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法
    光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202510735217.5
    本揭露是关于一种光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法， 该光阻组合物包括一第一光阻。该第一光阻具有一化学式(a1)或一化学式(a2)：(R1Sn)6(OH)mO4+y 化学式(a1)；及(R1Sn)6‑x(R2Sn)x(OH)mO4+y 化...
    2026-02-07
  • 感光性树脂层叠体及其制造方法
    感光性树脂层叠体及其制造方法_旭化成株式会社_202510372084.X
    一种感光性树脂层叠体及其制造方法， 所述感光性树脂层叠体能够实现满足抗蚀图案近年来特别要求的特性的该抗蚀图案， 且能够确保经时性的品质稳定性。一种感光性树脂层叠体， 其包含：临时支承层、包含感光性树脂组合物的感光性树脂层和保护层， 前述感光...
    2026-02-07
  • 图案形成方法及抗蚀剂材料
    图案形成方法及抗蚀剂材料_信越化学工业株式会社_202510363627.1
    本发明涉及图案形成方法及抗蚀剂材料。本发明的课题是提供可形成高深宽比且微细的图案而不发生图案崩塌的图案形成方法。该课题的解决手段为一种图案形成方法， 其特征为包含下列步骤：准备含有具有含硅的酸不稳定基团的聚合物的抗蚀剂材料， 使用前述抗蚀剂...
    2026-02-07
  • 膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物
    膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物_信越化学工业株式会社_202510363626.7
    本发明涉及膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物。本发明的课题：本发明以提供环境负荷少、且对于基板的涂布性为优良的膜形成用组成物为目的。本发明的解决手段：一种膜形成用组成物， 其特征在于， 该膜形成用组成物含有具有具五...
    2026-02-07
  • 感光性树脂组合物、遮光膜、彩色滤光片、触摸面板及显示装置
    感光性树脂组合物、遮光膜、彩色滤光片、触摸面板及显示装置_日铁化学材料株式会社_202510339418.3
    本发明的课题在于提供一种可获得兼顾低反射性与良好的显影性的遮光膜的感光性树脂组合物、遮光膜、彩色滤光片、触摸面板及显示装置。一种感光性树脂组合物， 包含：(A)含不饱和基的碱可溶性树脂、(B)至少具有2个以上的不饱和键的光聚合性化合物、(C...
    2026-02-07
  • 感光性组合物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、及红外线传感器
    感光性组合物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、及红外线传感器_爱天思株式会社_202510284516.1
    本发明的目的在于提供一种感光性组合物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、及红外线传感器。所述感光性组合物可形成保存稳定性良好、不易产生显影斑点及逸气、低温硬化工序后的耐溶剂性优异的膜。滤色器用感光性组合物， 包含：碱可溶性树脂(A)、聚合...
    2026-02-07
  • 感光性转印材料及其制造方法
    感光性转印材料及其制造方法_富士胶片株式会社_202510182340.9
    本发明的课题在于提供一种通过临时支承体剥离曝光而获得的图案的图案形状优异的感光性转印材料及其制造方法。本发明提供一种用在临时支承体剥离曝光方式中的感光性转印材料及其制造方法， 该感光性转印材料依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及感光性...
    2026-02-07
  • 干膜、固化物及印刷电路板
    干膜、固化物及印刷电路板_太阳控股株式会社_202510135176.6
    本发明的技术问题在于提供干膜、固化物及印刷电路板， 所述干膜的隐蔽性及分辨率良好， 且能够形成形状均匀的固化物。本发明的解决手段为一种干膜， 其为具有第一膜与形成在第一膜上的包含固化性树脂组合物的树脂层的干膜， 其中， 树脂层具有第一膜侧的...
    2026-02-07
  • 显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜
    显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜_阪田油墨株式会社_202510118121.4
    本发明提供一种能够形成粘度稳定性优异且对N‑甲基吡咯烷酮等极性高的溶剂的耐溶剂性优异的涂膜的显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜。一种显示器用黑色颜料分散组合物， 含有内酰胺黑、作为具有氮原子的无规共聚...
    2026-02-07
  • 显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜
    显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜_阪田油墨株式会社_202510116348.5
    本发明提供一种能够形成粘度稳定性优异且对N‑甲基吡咯烷酮等极性高的溶剂的耐溶剂性优异的涂膜的显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜。一种显示器用黑色颜料分散组合物， 含有内酰胺黑、具有氮原子的高分子颜料分...
    2026-02-07
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510111001.1
    公开了一种半导体光刻胶组合物和使用该组合物形成图案的方法。该半导体光刻胶组合物可包括有机锡(Sn)化合物和溶剂， 该有机锡(Sn)化合物可包括被至少一个氘取代的可水解配体。
    2026-02-07
  • 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510110997.4
    公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用所述半导体光刻胶组合物形成图案的方法。所述半导体光刻胶组合物可包括含锡(Sn)有机金属化合物、氧化氘(D2O)和溶剂。
    2026-02-07
  • 感光性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件
    感光性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件_太阳油墨(苏州)有限公司_202410373746.0
    本发明提供一种能够获得兼具优异的白色度、反射率， 分辨率的固化物、且高灵敏度的感光性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件。该感光性树脂组合物为包含(A)含羧基树脂、(B)磷系光聚合引发剂、(C)具有光漂白性的肟酯系光聚合引发剂、(D)氧化钛的...
    2026-02-07
  • 碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件
    碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件_太阳油墨(苏州)有限公司_202410372616.5
    提供一种低挥发性、且分散性、感光性、显影性等性能优异的碱性显影型树脂组合物， 其固化物的铅笔硬度和耐热性优异、其所形成的涂膜具有良好的指触干燥性。该碱性显影型树脂组合物含有：(A)环氧树脂、(B)含羧基乙烯基酯树脂、(C)光聚合引发剂、(D...
    2026-02-07
  • 一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置
    一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置_华为技术有限公司_202410366367.9
    本申请实施例涉及显示设备技术领域， 具体涉及一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置。本申请实施例旨在解决色转换膜固化不完全， 显示模组的分辨率较低的问题。本申请实施例提供了一种成膜剂， 用于制备色转换膜， 包括第...
    2026-02-07
  • 一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法
    一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法_北京电子量检测装备有限责任公司_202511148615.3
    本发明公开了一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法， 涉及掩模版缺陷检测技术领域， 按指令倍率与掩模版名自动调取并固化检测参数；以光校准点灰度二次多项式拟合归一化矫正参考图；划分检测区后提取ORB特征， 经汉明距离与RANSAC得亚像素...
    2026-02-07
  • 掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备
    掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备_京东方华灿光电(浙江)有限公司_202510727714.0
    本公开公开了一种掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备， 属于半导体技术领域。该掩膜版的清洗方法包括：确定清洗间隔片数和报废清洗次数， 清洗间隔片数指的是在相邻两次清洗作业的间隔内， 掩膜版的光刻作业次数， 报废清洗次数为掩膜版在报废之前所能够...
    2026-02-07
  • 一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版
    一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版_中国科学院光电技术研究所_202510894349.2
    本发明涉及半导体制造领域， 具体涉及一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版， 刻蚀方法包括：S1， 在基底表面上形成铬吸收层， 在铬吸收层上形成图形化光刻胶层；S2， 将基底放入刻蚀设备内， 以图形化光刻胶层为掩蔽层， 刻蚀铬吸收层至基底...
    2026-02-07
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