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  • 本发明涉及一种用于SiC衬底的氧化硅抛光液集中供应的系统技术领域, 公开了一种用于SiC衬底的氧化硅抛光液集中供应的系统, 旨在解决现有抛光液集中供应系统磨料颗粒沉降、化学组分漂移导致工艺不稳定和晶圆缺陷的问题。该系统其特征在于, 包括:第...
  • 本申请提供一种供液臂、化学机械抛光装置和设备。供液臂包括摆臂, 用于向抛光垫输送抛光液;转轴, 摆臂与转轴接触连接且可相对转轴转动;定位机构, 设置于摆臂和转轴, 用于在摆臂偏离工作位时控制摆臂重新定位至工作位;工作位为摆臂向抛光垫输送抛光...
  • 本申请公开了一种化学机械抛光机快速恒温的供液装置, 涉及化学抛光液领域, 其包括主供液桶和回收桶, 主供液桶与回收桶之间设置有连通管, 主供液桶和回收桶均为双层筒壁, 双层筒壁中间设置有螺旋层板, 双层筒壁与螺旋层板构成迷宫式冷却水路, 迷...
  • 本申请提供了一种工件加工控制方法及相关设备, 方法包括:获取预设的作用时间目标与预设的作用弧长目标;动态获取加工过程中加工装置相对于工件的位置作为工具位置;基于预设的作用时间目标, 并结合工具位置的变化, 调控加工装置的动态移动速度;基于预...
  • 本发明属于机器人路径规划技术领域, 并具体公开了一种定余量去除的机器人磨抛工艺与轨迹同步规划方法及系统。包括:构建机器人柔顺端面磨抛材料去除廓形;确定工件的加工余量, 并基于最大容差限制, 对工件表面曲面进行曲面重构;以加工残高和工艺参数的...
  • 本发明属于拉丝机技术领域, 具体涉及一种基于大数据分析的拉丝机的优化方法及系统, 通过采集模具表面微观磨损形态的实时图像数据及工艺参数, 实现动态监控与自动调整。首先对图像数据进行形态特征提取, 生成磨损量化参数, 并计算三维形貌变化值。接...
  • 本发明公开了铸管承插口尺寸检测机构及其检测方法, 包括管架、工业机器人、底座A和底座B;管架的表面设置有球墨铸铁管, 球墨铸铁管的一侧设有承口端, 球墨铸铁管的另一侧设有插口端;工业机器人设置在管架的侧边, 且工业机器人包括底座A, 底座A...
  • 本发明涉及辊体加工领域, 提供了一种磨辊顶托架, 包括支架, 支架上通过角度调节机构一连接有轮连接器一, 支架上通过角度调节机构二连接有轮连接器二, 轮连接器一上转动连接有两个胶轮一, 轮连接器二上转动连接有两个胶轮二, 胶轮一和胶轮二材质...
  • 本发明涉及管件加工技术领域, 具体涉及一种沟槽管件抛光机床的定位夹具及抛光工艺, 包括底座、支撑架、打磨结构、转动座、抵持块、支撑杆、第一夹板和第二夹板, 所述支撑架与所述底座固定连接, 并位于所述底座的顶部, 所述打磨结构设置在所述支撑架...
  • 本发明公开了一种五金制品加工用抛光夹持装置, 涉及五金件抛光领域, 包括安装在旋转座上的夹持机构, 所述旋转座的底部设置有支撑座, 所述夹持机构包括呈圆环状等距设在旋转座顶部的外转动座, 所述旋转座的顶部等距设置有与外转动座相对应的内转动座...
  • 本发明涉及一种修整主轴结构及机床, 包括支撑体、轴外套、主轴冷却套和修整主轴;所述轴外套包括第一径向部和第一轴向部, 所述轴外套位于支撑体的安装孔外侧, 所述第一径向部固定连接于支撑体;所述主轴冷却套包括第二径向部和第二轴向部, 所述第二径...
  • 本发明公开了一种用于涂层零件光整保护的装置。包括圆柱形本体, 工装本体顶部开设有用于容纳待保护零件头部的下沉孔, 底部轴向开设有供待保护零件柱身穿过的圆锥孔, 圆锥孔顶端与下沉孔底端通过环形交界面连通, 下沉孔孔壁沿轴向对称设有多组固定孔,...
  • 本发明涉及化学机械抛光技术领域, 公开了一种化学机械抛光设备的停机报警装置、方法及抛光设备, 停机报警装置包括交流直流变换器、光电传感器、延时模块和报警器;交流直流变换器连接第一供电电源, 第一供电电源和移动装置的第二供电电源不同;光信号发...
  • 本发明涉及晶圆研磨抛光技术领域, 尤其涉及基于自动控制系统的晶圆研磨抛光装置。为了克服单面研磨会导致晶圆因应力分布不均产生损坏的缺点。包括上下对称分布且均设置于外壳的两个电控研磨盘, 以及安装于所述外壳的固定盘, 所述固定盘设置有周向均匀分...
  • 本发明涉及打磨技术领域, 尤其涉及一种具有防尘功能的研磨机, 包括有;双面研磨机、外齿、下研磨盘、上研磨盘和内齿;双面研磨机上设置有防护罩;防护罩上设置有上研磨盘;双面研磨机上通过安装柱安装有外齿;双面研磨机上通过转动连接柱设置有内齿;转动...
  • 本发明提供了一种双面研磨机, 涉及研磨机技术领域, 包括:研磨工艺规划模块, 用于确定工件的最佳研磨工序和每个研磨工序对应的最佳工艺参数;研磨执行模块, 用于基于最佳研磨工序和每个研磨工序对应的最佳工艺参数对工件进行研磨加工;视觉反馈控制模...
  • 本发明涉及抛光设备技术领域, 尤其涉及一种双面抛光设备。双面抛光设备包括自动上下料机构和抛光机, 下盘机构的下盘、太阳轮与齿圈同轴设置, 多个游星轮活动设置于下盘, 且每个游星轮分别与太阳轮和齿圈相啮合。游星轮贯穿开设有容置产品的容置槽。上...
  • 本发明提供了一种基于光纤组件的研磨设备及其方法, 研磨工装包括能够进行轴向转动的第一工位和布设于第一工位上的第二工位, 第二工位上沿其周向均匀布设有可径向移动的若干定位工装;辅助机构包括第一转杆, 其上套设有均被配置为能够沿其轴向进行往复运...
  • 本发明公开了一种化学机械研磨控制方法、控制装置、设备和存储介质, 包括:获取任一研磨腔室的状态信息、当前任务信息和下一任务信息, 根据研磨腔室的状态信息, 确定研磨腔室是否处于等待状态, 若研磨腔室处于等待状态, 则根据研磨腔室的当前任务信...
  • 本发明公开了一种发动机气门研磨工具, 解决了发动机气门研磨效率低、研磨质量差等技术问题。该研磨工具包括:支撑座, 用于和发动机缸体固定;支撑架, 设置于所述支撑座上;气门研磨器, 数量为多个、且分别设置于所述支撑架上, 多个所述气门研磨器分...
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