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最新专利技术
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510559759.1
    公开了图像形成装置。一种图像形成装置包括感光鼓、充电设备、充电偏压施加部分、转印设备、转印偏压施加部分、在转印位置的下游且充电部分的上游的刮刀清洁位置处与感光构件的表面接触的清洁刮刀、在转印位置的下游且刮刀清洁位置的上游的刷子清洁位置处与该...
    2026-01-30
  • 定影装置
    定影装置_佳能株式会社_202510560119.2
    一种定影装置，包括环形的带、拉伸辊、张力辊和润滑剂供应辊。张力辊可在张力辊推压带的第一推压位置和张力辊不推压带的第一推压释放位置之间移动。润滑剂供应辊可在张力辊位于第一推压位置的状态下润滑剂供应辊推压带的第二推压位置和润滑剂供应辊不推压带的...
    2026-01-30
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510532858.0
    一种图像形成装置，包括：可旋转的转印构件，被配置为与图像承载构件接触以形成转印辊隙部，并在转印辊隙部处将供给至图像承载构件的表面的调色剂转印至转印材料；静电电荷去除构件，被配置为在转印辊隙部的在转印构件的旋转方向和转印材料的移动方向二者上的...
    2026-01-30
  • 一种双腔体防漏粉的激光打印机硒鼓
    一种双腔体防漏粉的激光打印机硒鼓_威海成宇硒鼓有限公司_202511335177.1
    本发明公开了应用于打印机硒鼓领域的一种双腔体防漏粉的激光打印机硒鼓，针对现有硒鼓因密封设计局限、部件老化导致的墨粉泄漏问题，通过原粉仓与废粉仓协同防护实现双重防漏；原粉仓内设置回流混合机制：主隔断结构内的活动隔板与格栅板协同密封控制出粉，延...
    2026-01-30
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510559654.6
    一种成像设备，其包括主组件并且包括调色剂盒，所述主组件包括感光鼓、显影单元和旋转体。所述调色剂盒包括：框架，所述框架沿纵向方向延伸并包括容纳室、第一排出开口和第二排出开口，从所述容纳室排出到所述显影单元的调色剂通过所述第一排出开口，从所述容...
    2026-01-30
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510559593.3
    一种成像设备，设有排出开口的调色剂盒可拆卸地安装到其上，包括：旋转体，所述旋转体包括显影辊和容纳框架，所述容纳框架设有接收开口；主组件框架；可打开构件，所述可打开构件包括支撑表面和限制部分并且能够移动到关闭位置和打开位置；以及支撑构件。在所...
    2026-01-30
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510533754.1
    公开了一种成像设备，它包括：感光构件；旋转体，该旋转体包括设有入口开口的存储框架、显影辊和供应辊；以及调色剂盒，该调色剂盒设有排出开口。在由显影辊的外周表面、供应辊的外周表面以及显影辊的外周表面和供应辊的外周表面之间的公切线包围的区域在供应...
    2026-01-30
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510533749.0
    公开了一种成像设备，所述成像设备包括感光构件、旋转体以及调色剂盒，所述旋转体包括设有调色剂存储部分和连通的入口开口的存储框架、显影辊和供应辊。在由所述显影辊的外周表面、所述供应辊的所述外周表面以及所述显影辊的所述外周表面与所述供应辊的所述外...
    2026-01-30
  • 曝光头
    曝光头_佳能株式会社_202510536296.7
    本公开涉及一种曝光头，包括：发光芯片，所述发光芯片包括沿感光构件的旋转轴线方向布置并且构造成发光以曝光所述感光构件的多个发光部分；板，所述发光芯片安装在所述板上；透镜，所述透镜构造成将由所述发光芯片发出的光会聚到所述感光构件的表面上；壳体，...
    2026-01-30
  • 套刻标记、套刻误差量测方法及量测装置
    套刻标记、套刻误差量测方法及量测装置_深圳市新凯来工业机器有限公司_202511044391.1
    本申请提供了一种套刻标记、套刻误差量测方法及量测装置，上述套刻标记设置于裸晶的其中一层的非功能区域内，上述套刻标记的最小结构单元内部结构的周期与上述其中一层的至少一个功能区域的关键结构周期保持一致。在本申请中，套刻标记可以设置于裸晶的非功能...
    2026-01-30
  • 基板处理方法、基板处理装置和物品制造方法
    基板处理方法、基板处理装置和物品制造方法_佳能株式会社_202510559701.7
    本公开涉及基板处理方法、基板处理装置和物品制造方法。一种基板处理方法，包括执行基板的预对准，以及在执行预对准之后执行基板的精细对准，其中，执行预对准包括通过多种方法并行地计算基板的多个位置偏差量，并且执行精细对准包括基于计算的多个位置偏差量...
    2026-01-30
  • 一种高精度窄线宽的负胶显影液及其制备方法与应用
    一种高精度窄线宽的负胶显影液及其制备方法与应用_合肥中聚和成光电材料股份有限公司_202511171113.2
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种高精度窄线宽的负胶显影液及其制备方法与应用。本发明的负胶显影液，以质量百分数之和为100%计，其组成如下：无机碱3%‑10%、聚氧乙烯醚类表面活性剂4%‑15%、磺酸盐表面活性剂3%‑10%、硼酸盐1%...
    2026-01-30
  • 用于确定边缘位置误差的方法、设备和存储介质
    用于确定边缘位置误差的方法、设备和存储介质_全芯智造技术有限公司_202511415546.8
    根据本公开的示例实施例提供了用于确定边缘位置误差的方法、设备和存储介质。该方法包括确定针对掩模图案中的控制点的光刻模拟信号在光刻模拟图案的当前位置处的信号变化程度；根据控制点的光刻模拟信号在当前位置处的信号变化程度更新控制点在光刻模拟图案中...
    2026-01-30
  • 一种图像处理方法
    一种图像处理方法_深圳市先地图像科技有限公司_202511404938.4
    本申请实施例公开了一种图像处理方法，包括：步骤1：定义待曝光的初始图像包括1行若干列均布的图像条，将初始图像的右边的第一列图像条所在的水平位置定义为初始位置0，将位于安装座上的呈一行均匀分布的K颗激光器的右边的第一颗的起始位置设置为与初始位...
    2026-01-30
  • 一种陶瓷片双面光刻装置及方法
    一种陶瓷片双面光刻装置及方法_同辉电子科技股份有限公司_202511298545.X
    本发明涉及陶瓷片光刻技术领域，本发明提供了一种陶瓷片双面光刻装置及方法，其中，一种陶瓷片双面光刻装置，包括工作箱，工作箱的前端开设有工作口，还包括光源系统、第一限位板、第二限位板、第一相对移动机构、定位机构、掩模板以及第二相对移动机构，工作...
    2026-01-30
  • 一种高产能边缘曝光系统及其方法
    一种高产能边缘曝光系统及其方法_苏州大族芯科技有限公司_202511223188.0
    本发明公开了一种高产能边缘曝光系统及其方法，包括机架，所述机架安装有底板，所述底板安装有第一寻边机构和第二寻边机构，所述第一寻边机构和第二寻边机构对称设置，所述底板位于第一寻边机构和第二寻边机构之间安装有光源组件。本发明，两套寻边机构可实现...
    2026-01-30
  • 一种光刻机的误差补偿系统
    一种光刻机的误差补偿系统_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511161621.2
    本申请涉及一种光刻机的误差补偿系统，涉及光刻机误差补偿技术领域，其包括设于光刻机上的承载台、掩模板、处理器，所述承载台的上表面沿圆周方向间隔且对称设置有若干楔块、线性制动器，所述线性制动器与所述承载台固定连接，所述楔块沿靠近或远离对称轴线的...
    2026-01-30
  • 密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法
    密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法_信越化学工业株式会社_202510552423.2
    本发明涉及密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题是提供于半导体装置制造步骤中的利用多层抗蚀剂法所进行的微细图案化处理中，即使于疏水性的下层膜上仍会展现良好的涂布性，同时能够提供具有良好的图案崩塌抑制性能、及除去在...
    2026-01-30
  • 一种光致刻蚀剂及其制备方法和应用
    一种光致刻蚀剂及其制备方法和应用_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511077600.2
    本发明提供一种光致刻蚀剂及其制备方法和应用。所述光致刻蚀剂包括如下组分：树脂、聚合单体、引发剂、任选的助剂和溶剂；所述聚合单体包括式I化合物。本发明通过对光致刻蚀剂的具体组成进行设计，进一步通过具有特定结构的式I化合物作为聚合单体，制备得到...
    2026-01-30
  • 一种纳米压印用软膜固定装置
    一种纳米压印用软膜固定装置_璞璘科技(杭州)有限公司_202511442842.7
    本发明为一种纳米压印用软膜固定装置，包括：真空吸附固定结构、支撑底座、刮平弹性按压夹持结构及纳米压印结构，真空吸附固定结构、刮平弹性按压夹持结构及纳米压印结构均设置在支撑底座上，刮平弹性按压夹持结构位于真空吸附固定结构与纳米压印结构之间；本...
    2026-01-30
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