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  • 本申请公布了一种发动机机匣可调式测量转接定位装置,属于航空发动机零部件装配测量技术领域,包括安装环:安装环用于与数控转台连接,驱动件可转动地设置于安装凹槽内,安装板设置于安装环上,驱动件上环形阵列设置有多个弧形限位槽,限位件用于对机匣进行支...
  • 本发明公开一种治具装置,其包含一治具本体及设置于所述治具本体的一定位销组件。所述定位销组件包含一套筒、一定位销及至少一弹簧针组。所述套筒包含沿其中心轴设置的一定位孔及垂直所述中心轴且连通所述定位孔的至少一弹簧针孔组。所述定位销包含一上半部和...
  • 本申请公开了一种砂轮齿片、砂轮及一种砂轮齿片制备方法,本申请的砂轮齿片的齿片主体内部设置有流道结构,用于流通冷却液,至少在齿片主体的磨削面设置有凹槽,能利用凹槽存储足量冷却液,又能通过凹槽实现冷却液、碎屑和气体的定向引导,减少流动死角,同时...
  • 本发明涉及除湿机壳体打磨技术领域,且公开了一种除湿机壳体加工用内孔打磨装置,包括工作台,所述工作台呈中空设置,且顶部设置有除湿机壳体,所述除湿机壳体上开设有内孔,所述工作台上方设置有喷砂臂,所述喷砂臂底部转动连接有喷嘴,所述工作台内设有收集...
  • 本发明涉及切割装置领域,具体为一种水下切割系统,包括支撑部,支撑部包括支撑架,还包括:调节部,调节部滑动安装在支撑架上,调节部调节切割位置;连接部,若干连接部转动安装在支撑架下表面,通过连接部将支撑部安装至切割位置表面。本发明中,通过将吊机...
  • 本发明涉及能够将半导体条带切割而单个化为多个半导体封装件的半导体条带切割模块和包括其的半导体封装件切割及分类装置,所述半导体条带切割模块可以包括:卡盘台,用于支承所述半导体条带;条带拾取器,拾取从料盒取出的所述半导体条带并传送到所述卡盘台上...
  • 本发明公开了一种改善研磨液供给流通方法,具体涉及研磨液供给技术领域,包括以下步骤:S1:初始参数检测,S2:对分液葫芦进行结构改造,S3:更换与S2改造后出液口适配的耐腐蚀管路,S4:在分液葫芦出口主管道处安装电磁流量阀与负载传感器,S5:...
  • 本发明公开了一种用于锅炉设备零部件的环保型表面处理装置,其包括处理室、工作台、第一风机、第二风机、排气管;风机包括壳体、叶轮、旋转轴,壳体的进风侧具有沿轴向延伸设置的进口环;其特征在于:进口环包括第一弧形环部、进口凸起部,进口凸起部从第一弧...
  • 本发明公开了一种金属打磨加工用吸尘装置,属于风机设备技术领域,包括管道,管道的内部设置有滤板;滤板上横向固定有中轴,中轴的两端均转动连接在管道的侧壁上;铰接在滤板靠近出风口的一端铰接有隔板,隔板的另一端滑动连接在管道的侧壁上;管道的侧壁上滑...
  • 本发明提供了一种直线导轨磨床,属于磨床设备技术领域。它解决了现有技术防护效果差等技术问题。本直线导轨磨床,包括床身和磨削装置,床身上有用于运送导轨的工作台,磨削装置上设有磨削罩壳,其特征在于,磨削罩壳两端与床身两端之间分别设有第一防护罩壳和...
  • 本发明涉及磨削控制领域,尤其涉及一种金刚石砂轮修整方法及系统。方法包括步骤:首先采集砂轮的三维点云,并采用一个结合了磨损模型预测与实时数据观测的卡尔曼滤波机制,对所述三维点云进行精确修正,以获取砂轮的真实磨损状态。随后,基于修正后的三维点云...
  • 本申请提供了一种用于航空领域工件加工的高精度砂轮修整方法,属于航空制造技术领域,该方法包括:获取目标砂轮的目标几何形状数据,将标准砂轮的标准几何形状数据与目标几何形状数据进行对比,得到几何形状偏差数据;基于几何形状偏差数据和目标几何形状数据...
  • 本发明公开了一种金属磨削机床砂轮磨损补偿式智能控制系统,涉及机械制造自动化技术领域,包括:接触式基准检测模块,非加工状态下离散点测量获取砂轮初始轮廓与基准磨损量;多参数非接触式实时检测模块,通过三类传感器采集磨削过程声发射、振动及主轴电流信...
  • 本发明公开了一种汽车用框架结构件内外表面浮动打磨装置,外壳、第一电机、转动架、第二电机、丝杆、导向架、第四电机及主磨盘;所述外壳顶部开设有孔洞,所述第一电机固定连接于所述孔洞内,所述转动架固定连接于所述第一电机的输出轴上;本发明,通过外壳、...
  • 本发明公开了一种用于泵转子同轴度刃磨的弹性半轴及其组装方法,其技术方案要点是包括弹性定位半轴、涨紧轴、涨紧轴定位沉头螺钉、涨紧轴涨紧螺钉;所述涨紧轴一体成型,且由外圆柱和夹紧外圆锥组成;所述外圆柱的直径等于夹紧外圆锥的最小直径,所述外圆柱内...
  • 本发明提供一种增材制造微细复杂内流道的光整方法及化学抛光液装置,增材制造微细复杂内流道的光整方法包括以下步骤:步骤一、进行水基两相流抛光;步骤二、配置化学抛光液;步骤三、对化学抛光液进行预热;步骤四、开始进行抛光操作,待化学抛光液的流量提升...
  • 提供方法。方法包括:确定预测浆液消耗值;确定与预测浆液消耗值相关的补充线;确定与预测浆液消耗值相关的混入抛光浆液体积;以及操作包含抛光浆液的供应槽,操作根据补充线和混入抛光浆液体积。操作包括:通过安装在供应槽上的连续液位传感器组件确定抛光浆...
  • 本发明涉及半导体加工技术领域,尤其涉及一种半导体CMP复合抛光垫,包括四层结构,依次是最底层的软聚合物缓冲层、碳纳米管增强基底层、功能涂层以及最外层的硬聚合物耐磨表层。本发明具有高效抛光性能、较长的使用寿命以及良好的缓冲性能,能够缓冲抛光过...
  • 本发明涉及晶圆清洗技术领域,具体为一种自旋转强力研磨刷,包括:固定圆形架,所述固定圆形架的顶面安装有旋转轮,所述旋转轮的内侧安装有晶圆主体,所述固定圆形架的右侧安装有升降气缸,所述升降气缸的伸出端设置有防水外壳;所述防水外壳的内侧安装有清洗...
  • 本发明公开一种可减少氮化铝陶瓷研磨过程氨气释放的方法,包括有以下步骤:(1)将待研磨的氮化铝陶瓷放置于研磨机的治具之中;(2)将研磨液置于研磨机储液槽中,并在储液槽的槽壁加装带防护装置的氙灯,所述研磨液包括有以、下重量份原料:绿碳化硅25‑...
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