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自适应模糊PID流场控制方法及装置
本申请公开了一种自适应模糊PID流场控制方法及装置, 方法包括:通过模糊推理模块实时生成初始PID增益参数, 并引入RBF神经网络模块对初始参数进行动态优化补偿, 生成修正增益。采用加权融合公式动态合成最终PID参数, 权重系数可调, 以平...
一种射频功率消抖控制方法及相关设备
本申请属于射频电源控制技术领域, 公开了一种射频功率消抖控制方法及相关设备, 所述方法包括:实时采集射频电源的输出功率, 得到实际功率值;计算设定功率值和实际功率值之间的功率偏差;若功率偏差的绝对值大于预设抖动阈值, 则进入暂态缓冲过程;进...
基于换热系统中液冷板的散热的自动识别控制方法及系统
本申请涉及一种基于换热系统中液冷板的散热的自动识别控制方法及系统, 其包括步骤:获取目标液冷板的实时运行数据;建立动态热阻网络模型, 并计算当前热阻值;获取制冷需求参数, 并结合当前热阻值生成需求加权热阻值;基于需求加权热阻值获取热阻偏差,...
一种基于RVV的PID控制优化方法
本发明公开了一种基于RVV的PID控制优化方法, 该方法包括如下步骤:根据PID多环路控制的计算需求, 合理划分数据并将其映射到RISCV向量寄存器堆;计算多环路PID控制的关键参数, 并存储到全局数据结构;利用RISCV指令扩展优化PID...
一种在线数据驱动的非线性系统滑模控制方法及系统
一种在线数据驱动的非线性系统滑模控制方法及系统, 涉及自动控制技术领域。本发明针对传统数据驱动滑模控制算法需要时时建立动态线性化数据模型且仅能依靠在线数据进行控制器设计, 存在计算效率低, 灵活性受限的缺点等问题而提出的。技术要点:建立部分...
一种牙科综合治疗仪用口腔计时器及系统
本发明公开了一种牙科综合治疗仪用口腔计时器及系统, 属于牙科治疗技术领域, 该牙科综合治疗仪用口腔计时器及系统, 所述主体包括电源、面板、喇叭、电路板芯片和显示屏;所述电源采用锂电池供电, 通过电路板芯片控制医生点击的按钮功能, 通过屏幕显...
一种基于多面阵的微波双向时间比对阵面选择及实现方法
本发明属于时间同步技术领域, 公开了一种基于多面阵的微波双向时间比对阵面选择及实现方法。本发明通过两站点的本征和位置参数, 确定双向时间比对中两站点的主阵面和次阵面, 同时通过频率分集的方法, 获得多组时间比对结果, 从而通过平均值的方法,...
一种应用于空间锶光钟原子俘获的光学装置
本发明属于冷原子技术领域, 具体涉及一种应用于空间锶光钟原子俘获的光学装置, 包括:磁光阱腔体, 具有多对相对窗口;多组俘获光入射端光学组件、俘获光反射端光学组件, 每组俘获光入射端光学组件、俘获光反射端光学组件分别位于磁光阱腔体相对的窗口...
一种带静电感应的石英电子表
本发明涉及石英表技术领域, 具体涉及一种带静电感应的石英电子表。包括机壳, 与所述机壳连接的表带及扣合安装于所述机壳内部的表盘, 所述表盘下端配合安装有防尘盘与定位盘, 所述定位盘上安装有机芯、齿轮传动机构及用于中和机芯外部静电的静电感应装...
一种基于非均匀采样全息飞秒激光的高保真图案打印方法
本发明提供一种基于非均匀采样全息飞秒激光的高保真图案打印方法, 通过针对全息光场图案轮廓进行非均匀密集采样来提高全息光场的形状精度, 而在背景光场区域低采样密度的均匀采样模式来降低数据存储压力和算力消耗, 从而实现了衍射光场设计精度和衍射计...
成像装置
本发明涉及一种成像装置, 其包括成像单元、堆叠单元、框架、外表面构件、电子电路板和风扇。由框架支撑的成像单元在记录材料上形成图像, 记录材料然后被堆叠在堆叠单元上。外表面构件相对于框架布置在外侧并且包括通孔。电子电路板布置在框架和外表面构件...
图像形成控制方法、装置、电子设备及存储介质
本申请提供了一种图像形成控制方法、装置、电子设备及存储介质。其中, 所述方法包括:在转印辊转印图像之前, 开启消电灯以照射感光鼓表面;然后在转印辊和感光鼓转动的过程中, 确定转印辊对应的电信号值;最后根据转印辊对应的电信号值, 确定转印辊的...
一种处理盒
处理盒, 包括:感光单元;显影单元, 显影单元相对于感光单元能够在显影部件接触感光部件的接触位置和显影部件与感光部件分离的分离位置之间移动;鼓联结部件, 用于接收旋转驱动力并传递至感光部件;显影联结部件, 用于接收旋转驱动力并传递至显影部件...
多层核壳结构化学碳粉及其制备方法
本发明公开了一种多层核壳结构化学碳粉, 具有核壳结构:内核为含蜡聚合物层, 中间层包括含蜡聚合物层或含着色剂聚合物层中的一种或二者组合, 外层为含电荷控制剂聚合物层, 其中, 中间层的层数≥1且≤3;含蜡聚合物层的总质量占碳粉总质量的40~...
抗蚀剂的干式显影
抗蚀剂的干式显影可使用于例如在高分辨率图案化中形成图案化掩模。干式显影可有利地通过半导体衬底的处理方法来实现, 该方法包括:在处理室中将已光图案化的抗蚀剂提供至半导体衬底上的衬底层上;以及通过以下方式对所述已光图案化的抗蚀剂进行干式显影:通...
基于衍射的叠加散射测量
本发明涉及基于衍射的叠加散射测量。一种在制造过程中使用的监测叠加的方法, 其中连续层经逐层沉积以形成堆叠。每一层可包含例如衍射光栅的周期性结构以与另一层中的周期性结构对准。可照亮所述堆叠周期性结构, 以从所述周期性结构形成+及‑第一级衍射图...
针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品
本发明提供了一种针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品。其中针对基于TMM算法计算反射率的验证方法包括:根据待制作的器件类型设计掩模和膜层堆叠结构;根据掩模和膜层堆叠结构的参数基于TMM算法得到每个膜层的第一反射率;将膜层堆叠结...
一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置
本发明公开了一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置, 本发明涉及喷射装置技术领域, 该喷涂装置包括箱体、总控模块、加热模块、搬运机械臂、涂显机构、旋转机构和夹持卡盘, 箱体上设有柜门和转孔, 涂显机构包括三轴位移模块和清理机构, 清理机构包括底...
匀胶机及光掩模涂胶方法
本发明公开了一种匀胶机及光掩模涂胶方法, 属于匀胶机领域, 匀胶机包括机台、放置板和定位机构, 放置板转动连接在机台内, 放置板用于供基板放置, 定位机构, 安装在放置板上, 定位机构包括第一定位板、第二定位板和牵引组件, 第一定位板和第二...
耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法
本发明涉及一种耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法, 该光刻胶的组分及其重量百分数为:20‑40%线性酚醛环氧树脂、0.5‑1.5%环氧树脂的潜伏型固化剂、1‑15%线性酚醛树脂、3‑25%重氮类光敏剂、20‑65%溶剂、0‑2%其他助剂...
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