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  • 本公开涉及一种SMTP‑7衍生物及其用途。具体而言,提供了一种式I所示化合物或其可药用盐,其中各基团如说明书中所定义。
  • 本申请属于新材料领域,更具体地,涉及一种苯并噁嗪并吩噁嗪修饰的二噻吩基乙烯衍生物及其制备方法和应用。本发明提出了一种全可见光调控的苯并噁嗪并吩噁嗪共轭修饰的二噻吩基乙烯分子开关,该分子开关通过可见光来驱动闭环反应时其光致变色程度与紫外光照射...
  • 本发明公开了一种炔基取代噻唑并环类化合物及其应用,所述化合物具有如下通式结构:
  • 本发明属于制药工程技术领域,具体涉及一种他克莫司发酵液中相关杂质的分离方法。本发明所述他克莫司发酵液中相关杂质的分离方法,针对于他克莫司发酵液粗提物,首次基于配位色谱在分离效果和峰容量方面的优势,通过采用配位色谱结合制备色谱组合策略,将其用...
  • 本发明提供了一种由式1表示的稠环化合物以及包括该稠环化合物的有机发光装置。[式1]
  • 本申请属于有机电致发光技术领域,涉及一种有机化合物及使用其有机电致发光器件和电子装置,该有机化合物具有如式1所示的结构,将该有机化合物用于有机电致发光器件中,能够显著改善有机电致发光器件的性能。
  • 本发明公开了一种GnRH受体拮抗剂的制备方法,包括:将化合物1和还原剂溶于反应溶剂中,在催化剂作用下,化合物1与还原剂发生还原反应,生成化合物2;在碱性条件下,化合物2与4‑((苯氧羰基)氨基)噻吩‑2, 3‑二甲酸二甲酯发生缩合反应,生成...
  • 本发明公开了黄曲霉毒素M1半抗原和人工抗原及其制备方法与应用,属于生物化工技术领域。所述黄曲霉毒素M1人工抗原是由式(1)‑(3)所示半抗原与载体蛋白偶联得到。利用所述黄曲霉毒素M1人工抗原免疫动物,可得到效价高,灵敏度高的抗体,所述抗体为...
  • 本发明公开了一种全碳四取代环状烯烃化合物,其中间体及其应用。本发明提供了一种如下式所示化合物。本发明化合物具有在镇痛活性方面的效果,本发明化合物的副作用少、可作为滥用风险低的无成瘾性镇痛药物。
  • 本发明涉及医药领域,提供一系列喜树碱‑7‑乙基胺衍生物及其制备方法和应用,或其药学上可接受的盐、立体异构体或前药,所述喜树碱‑7‑乙基胺衍生物具有式(1)所示结构。
  • 本发明涉及医药领域,提供一系列喜树碱‑7‑乙基胺衍生物及其制备方法和应用,或其药学上可接受的盐、立体异构体或前药,所述喜树碱‑7‑乙基胺衍生物具有式(1)所示结构。
  • 本发明涉及医药领域,提供一系列喜树碱‑7‑乙基胺衍生物及其制备方法和应用,或其药学上可接受的盐、立体异构体或前药,所述喜树碱‑7‑乙基胺衍生物具有式(1)所示结构。
  • 本发明涉及中兽药提取领域,具体是一种超声辅助酶解提取博落回果荚生物碱的方法。本发明采用超声辅助酶解提取博落回果荚生物碱。本发明的方法对博落回果荚中的生物碱的提取率较高。并且本申请的方法所需设备简单,操作简便、安全,提取率高,易于工业化生产。
  • 本发明公开了一种利用微通道反应器合成恶喹酸以及其中间体的方法,属于有机合成中喹诺酮类药物合成技术领域。本发明方法在微通道反应器中实现了由N‑乙基胡椒胺无溶剂端到端合成恶喹酸,持续的流动避免了反应物和产物的碳化,避免了实验人员直接接触到浓硫酸...
  • 本发明属于有机发光材料技术领域,涉及一种用于有机发光主体材料的咪唑稠环化合物及其应用。本发明所述咪唑稠环化合物以二苯并六元杂环并咪唑为母核,在具有双极性特点的咪唑的给电子N上连接具有富电性的二苯并五元杂环及衍生基团,构筑的化合物具有较高的三...
  • 本发明属于化学医药技术领域,本发明提供了一类溴结构域抑制活性的化合物及其用途,所述化合物具有如式I所示的结构;本发明所提供的化合物,能够选择性地抑制BET家族BD2溴结构域,可以作为新一代溴结构域抑制剂,用于治疗癌症、炎症等BET相关疾病。
  • 本发明涉及一种氯代吲哚并咔唑化合物的制备方法,属于化工合成技术领域。所述制备方法为:在反应溶剂和碱环境中,控制反应温度和时间,反应底物在双金属盐催化剂条件下进行反应得到氯代吲哚并咔唑化合物产品;所述双金属盐催化剂包括钯盐和铜盐。所述钯盐选自...
  • 本发明提供了一种用于制备卡帕塞替尼的方法和在其中使用的新颖中间体及其应用,属于药物制备领域。本发明提供了用于制备卡帕塞替尼的方法,在卡帕塞替尼合成的关键起始物料氮杂吲哚环(吡咯并嘧啶)上引入保护基团,所述保护基团选自对甲苯磺酰基(Tos)、...
  • 本发明提供靶向pAKT的小分子化合物、PET分子探针前体、PET分子探针及其制备方法和应用。本发明所述的PET分子探针是基于药物Capivasertib(AZD5363)化学结构改造的68Ga标记的靶向pAKT的放射性探针。本探针对Capi...
  • 本发明涉及一种光刻胶抗反射底涂层用偶联剂、制备方法及其应用,属于光刻胶技术领域。本发明的制备方法包括以下步骤:S1、将甘脲和溶剂混合均匀,加入有机弱碱调节pH为7‑9,得到混合液;S2、保护气氛下,于55℃‑65℃条件下,向混合液中滴加第一...
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