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  • 本发明公开了一种抗抑制素B的抗体及其应用,涉及抗体领域。本发明公开的抗抑制素B抗体包括重链互补决定区和轻链互补决定区,该抗体为抑制素B的检测提供了重要的原料来源,且具有良好的性能。
  • 本发明提供了一种灵芝多糖的高效制备技术,属于中药多糖的提取工艺领域。本发明以灵芝子实体为原料,经过超微粉碎后,依次使用冷水、热水、复合酶、稀碱、浓碱连续提取工艺,逐步提取灵芝多糖,显著提高了灵芝多糖的总提取率至24.1%‑30.9%,实现了...
  • 本发明公开了一种速溶暂堵剂及其制备方法和暂堵转向压裂方法及应用。本发明制备了一种新的暂堵剂,该暂堵剂具有溶解速度快的优点。另外,本发明还提出了新的体积压裂技术方法,在压裂施工的前期就投入暂堵剂,并在压裂施工中与暂堵球配合进行多次阶段暂堵,具...
  • 本发明提供一种全固态聚合物电解质及其制备方法和应用。所述全固态聚合物电解质的制备原料包括如下重量份数的组分:交联剂B‑HEMA 0.5~2份、离子液体7份、砜类添加剂2份和锂盐3份。所述制备方法包括如下步骤:(1)将交联剂B‑HEMA、离子...
  • 本发明提供一种poly(δ‑L二聚体)及其制备方法、降解方法和用途,所述poly(δ‑L二聚体),包含如下式Ⅰ所示的重复单元: 2025-10-14
  • 本发明公开了一种聚酯组合物,主要含有对苯二甲酸结构单元和亚烷基二醇结构单元,所述聚酯组合物中含有占聚酯组合物1.0~10.0wt%的间苯二甲酸结构单元,以硫元素计占聚酯组合物2000~4500ppm的芳香族磺酸盐结构单元;所述聚酯组合物的熔...
  • 本发明涉及一种尼龙1012的制备方法,包括(1)将十二碳二元酸、癸二胺、催化剂混匀并置于反应釜中,使反应始终处于惰性气氛下;(2)先缓慢升温至130‑140℃搅拌反应一段时间,再依次升温至150‑160℃、170‑180℃搅拌反应一段时间;...
  • 本发明公开了一种低光泽、低噪音的POM组合物及其制备方法和应用。所述POM组合物,以重量份计,包括如下组分:POM树脂100份、耐磨母粒15~30份、苯乙烯‑丁二烯‑苯乙烯嵌段共聚物10~20份、硅油0.8~4份;所述耐磨母粒为线性低密度聚...
  • 本发明公开了一种荧光PC/ABS合金及其制备方法,包括聚碳酸酯、荧光ABS和加工助剂。以Williamson醚合成法制备荧光单体8‑烯丙氧基‑1,3,6‑芘三磺酸三钠,然后通过共聚将其引入ABS合金的分子链中,再与聚碳酸酯、加工助剂共混挤出...
  • 本发明涉及一种树脂组合物、半固化片、电路基板以及印制电路板。所述树脂组合物包括第一双马来酰亚胺、第二双马来酰亚胺、乙烯基化合物和填料;其中,所述第一双马来酰亚胺的结构式如式(1)所示,所述第二双马来酰亚胺的结构式如式(2)所示,所述乙烯基化...
  • 本发明涉及锂离子电池技术领域,具体为一种锂电用耐水涂碳浆料的制备方法。本发明使用甲基环己烷二异氰酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯、正十二硫醇、表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚、丙烯酸十八酯、交联单体N‑羟甲基丙烯酰胺,制备了一种丙烯酸树脂乳液作为涂碳浆料基...
  • 本发明涉及化学机械抛光领域,具体涉及一种铈锰复合化合物抛光粉和抛光液及应用,所述抛光粉的化学通式为CexMnyMzOaDb;其中,...
  • 本发明公开了一种添加天然抗菌除臭的提取物的香精制备方法,涉及香精制备技术领域;为了解决现有技术中化学合成香精存在使用风险的问题;具体包括如下步骤:按重量组份准备基料备用;将基料混合均匀,得到混合物;对混合物进行加工和精制,得到香精成品;所述...
  • 本发明公开一株恶丛毛壳菌及其在防治松材线虫病中的应用,属于植物病害生防技术领域。该菌株名称为恶丛毛壳菌(Chaetomium ascotrichoides)1‑24‑2,保藏编号:GDMCC No:64397。本发明得到的恶丛毛壳菌1‑24...
  • 本发明公开了一种微小残留病灶检测装置、存储介质及设备。本发明设计全新的癌症手术组织与术后血配对检查方法,基于测序数据,求取两个样本的胚系变异并集,并联合突变丰度相关性和纯杂合一致性进行两样本配对检查,设计特定的构建及判定方案,无需额外检测,...
  • 本发明属于TiAl金属间化合物领域,具体为一种高强、高韧铸造TiAl合金及其制备方法。按原子百分比计,TiAl合金的成分如下:Al:43~47%,Mn:1.6~3.2%,Nb:1.5~2.5%,B:0.6~1.0%,余量为Ti。按质量百分比...
  • 本发明提供了一种铝合金材料及其制备方法与线缆。按质量百分含量计,铝合金材料包括如下组分:Si:0.03%‑0.06%、Fe:0.80%‑1.2%、Cu:0.15%‑0.25%,B:0.005%‑0.03%、Ti:0.001%‑0.02%、Y...
  • 本申请公开一种半导体工艺腔室,属于半导体技术领域。半导体工艺腔室包括腔室本体、准直器、电容装置以及电容调节装置,腔室本体内设有用于承载晶圆的基座,腔室本体的顶部设有靶材安装位,准直器位于腔室本体内,且准直器设置于基座和靶材安装位之间;电容装...
  • 本发明提供一种固态前驱体输送装置及输送方法,通过在托盘的反应空腔中设置对应的托盘隔板及环状插板,可对载气流动起阻挡作用,以改变载气流动路径,延长载气从进口到出口在输送装置内的流动时间,增大载气与固态前驱体接触面积,从而提升其升华效率,解决通...
  • 本发明提出一种具有清洗功能的炉管及炉管清洗工艺。炉管包括炉体,所述炉体的侧壁设置有控温区域,包括:将晶舟及保温桶升至炉体内部,封闭炉体并抽真空;向炉体内通入清洗气体,以清洗炉体内的待清洗层,在清洗过程中,控制控温区域中的第一控温区域的加热温...
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